一种二极管加工用酸洗设备的制作方法

文档序号:36557670发布日期:2023-12-30 05:36阅读:29来源:国知局
一种二极管加工用酸洗设备的制作方法

本技术涉及二极管加工设备,尤其涉及一种二极管加工用酸洗设备。


背景技术:

1、二极管是用半导体材料制成的一种电子器件,二极管有两个电极,给二极管两极间加上正向电压时,二极管导通,加上反向电压时,二极管截止,二极管的导通和截止,就相当于开关的接通与断开,二极管目前的生产工艺流程都需要进行酸洗工序,酸洗就是使用混合酸对二极管表面进行处理,现有的技术大都是通过酸洗盘和酸洗槽对二极管进行酸洗。

2、专利公开号为cn218945782u的中国专利,公开了一种二极管酸洗装置,包括有酸洗箱,所述酸洗箱上端两侧焊接有倒u型的支架,所述支架内顶端中部安装有电动滑轨,所述电动滑轨的滑动块上安装有电推杆二,所述电推杆二的伸缩部连接有喷罩。

3、上述专利是通过喷罩将混合酸喷洒在二极管上进行酸洗,然后使用过的混合酸再从排污管排出,混合酸在对二极管进行喷洒后直接从排污管排出,在经过一次酸洗后,混合酸还存在较强的酸性,这样容易造成混合酸的浪费,且需要加更多的混合酸对二极管进行酸洗,从而提高了二极管生产成本。


技术实现思路

1、为了克服现有技术对二极管进行酸洗时,使用过的混合酸直接从排污管排出,造成混合酸浪费的缺点,本实用新型的目的是:提供一种将混合酸二次利用的二极管加工用酸洗设备。

2、技术方案:一种二极管加工用酸洗设备,包括有酸洗箱、喷洒头、添加组件、循环组件和放置组件,酸洗箱顶部连接有若干排均匀喷洒混合酸的喷洒头,酸洗箱前侧设有添加组件,酸洗箱左侧设有循环组件,酸洗箱内设有放置组件。

3、此外,特别优选的是,添加组件包括有混合酸箱、进酸管和加酸阀,酸洗箱上连接有混合酸箱,混合酸箱底部连接有若干根进酸管,混合酸箱顶部连接有加酸阀。

4、此外,特别优选的是,循环组件包括有喷洒管、水泵和回流管,酸洗箱上安装有使混合酸循环的水泵,酸洗箱底部连接有回流管,回流管与水泵连接,酸洗箱顶部连接有喷洒管,喷洒管与水泵连接,喷洒头均与喷洒管连接。

5、此外,特别优选的是,放置组件包括有把手和放置框,酸洗箱内滑动式连接有放置二极管的放置框,放置框上连接有把手。

6、此外,特别优选的是,放置框底部设有若干圆孔,酸洗箱内部下侧也设有若干圆孔,放置框的圆孔与酸洗箱内部下侧的圆孔相互对齐。

7、此外,特别优选的是,酸洗箱为耐腐蚀材质。

8、本实用新型通过水泵的作用,使得混合酸从酸洗箱底部进入到回流管,再通过回流管流入到喷洒管内,通过喷洒头将混合酸喷洒在二极管上,这样反复将混合酸重复喷洒在二极管上进行重复酸洗,使得混合酸能够充分利用,不会造成混合酸的浪费,从而降低二极管酸洗成本。



技术特征:

1.一种二极管加工用酸洗设备,其特征是,包括有酸洗箱(1)、喷洒头(41)、添加组件、循环组件和放置组件,酸洗箱(1)顶部连接有若干排均匀喷洒混合酸的喷洒头(41),酸洗箱(1)前侧设有添加组件,酸洗箱(1)左侧设有循环组件,酸洗箱(1)内设有放置组件。

2.如权利要求1所述的一种二极管加工用酸洗设备,其特征是,添加组件包括有混合酸箱(10)、进酸管(11)和加酸阀(12),酸洗箱(1)上连接有混合酸箱(10),混合酸箱(10)底部连接有若干根进酸管(11),混合酸箱(10)顶部连接有加酸阀(12)。

3.如权利要求1所述的一种二极管加工用酸洗设备,其特征是,循环组件包括有喷洒管(4)、水泵(8)和回流管(9),酸洗箱(1)上安装有使混合酸循环的水泵(8),酸洗箱(1)底部连接有回流管(9),回流管(9)与水泵(8)连接,酸洗箱(1)顶部连接有喷洒管(4),喷洒管(4)与水泵(8)连接,喷洒头(41)均与喷洒管(4)连接。

4.如权利要求1所述的一种二极管加工用酸洗设备,其特征是,放置组件包括有把手(13)和放置框(15),酸洗箱(1)内滑动式连接有放置二极管的放置框(15),放置框(15)上连接有把手(13)。

5.如权利要求4所述的一种二极管加工用酸洗设备,其特征是,放置框(15)底部设有若干圆孔,酸洗箱(1)内部下侧也设有若干圆孔,放置框(15)的圆孔与酸洗箱(1)内部下侧的圆孔相互对齐。

6.如权利要求1所述的一种二极管加工用酸洗设备,其特征是,酸洗箱(1)为耐腐蚀材质。


技术总结
本技术涉及二极管加工设备技术领域,尤其涉及一种二极管加工用酸洗设备,包括有酸洗箱、喷洒头、添加组件、循环组件和放置组件,酸洗箱顶部连接有若干排均匀喷洒混合酸的喷洒头,酸洗箱前侧设有添加组件,酸洗箱左侧设有循环组件,酸洗箱内设有放置组件。本技术通过水泵的作用,使得混合酸从酸洗箱底部进入到回流管,再通过回流管流入到喷洒管内,通过喷洒头将混合酸喷洒在二极管上,这样反复将混合酸重复喷洒在二极管上进行重复酸洗,使得混合酸能够充分利用,不会造成混合酸的浪费,从而降低二极管酸洗成本。

技术研发人员:杨延青,徐明月,李延贵
受保护的技术使用者:济南半一电子有限公司
技术研发日:20230707
技术公布日:2024/1/15
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