一种制药废水深度处理设备的制作方法

本技术涉及一种制药废水处理设备，尤其是一种制药废水深度处理设备，属于制药废水处理。

背景技术：

1、公知的，制药生产过程中产生的有机废水是公认的严重的环境污染源之一，其废水的特点是成分复杂、有机物含量高、毒性大、色度深和含盐量高，特别是生化性很差，且间歇排放，属难处理的工业废水。随着我国医药工业的发展，制药废水已逐渐成为重要的污染源之一，如何处理该类废水是当今环境保护的一个难题。

2、目前，传统的制药废水处理设备是基于生化处理工艺来实现，而经过生化处理后，仍存在溶解性有机物浓度较高、毒性较大等问题，难以达到排放标准和回用水要求。同时，生化处理后，废水中dom由腐殖质类、多糖类、蛋白类、脂质类和小分子的氨基酸等组成，需要进一步降解有机污染物。

技术实现思路

1、为了克服现有技术的上述不足，本实用新型提供一种制药废水深度处理设备，该设备能够切实解决制药废水深度处理难题，实现出水达标排放或回用。

2、本实用新型解决其技术问题采用的技术方案是：

3、一种制药废水深度处理设备，包括顺次连接的深度氧化处理单元和深度净化处理单元；所述深度氧化处理单元包括依次相连的ph调节池、管道混合器和氧化池，所述管道混合器上对称设有高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口，所述深度氧化处理单元用于完成加酸及基于高锰酸钾/亚硫酸氢盐的高级氧化反应过程；所述深度净化处理单元包括依次相连的ph回调池和混凝沉淀池，用于加碱、曝气接触氧化和混凝沉淀。

4、可选的，所述ph调节池与氧化池之间还于底部连通，用于对氧化池的废水做多级回流处理。

5、可选的，所述高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口均设置在所述管道混合器的靠近所述氧化池一端底部且与水流方向相切布置。

6、可选的，所述混凝沉淀池和所述生物活性炭滤池的出口均设置溢流结构，所述溢流结构采用溢流堰，第一溢流堰设置在混凝沉淀池的出口，第二溢流堰设置在生物活性炭滤池的出口；所述ph调节池、氧化池和ph回调池的出口均设置废水提升结构，所述废水提升结构采用废水泵，第一废水泵设置在ph调节池与氧化池中间用于连通二者，第二废水泵设置在氧化池与ph回调池中间用于连通二者，第三废水泵设置在ph回调池与混凝沉淀池中间用于连通二者。

7、可选的，所述管道混合器包括混合器主体，所述混合器主体的两端分别设有进料口和出料口，所述进料口通过上游管道与所述ph调节池连通，所述第一废水泵安装在上游管道处，所述出料口通过下游管道与所述氧化池连通，所述高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口均设置在所述下游管道处。

8、可选的，所述ph调节池包括具有上端口的调节池体，所述调节池体的上端口远离氧化池一侧设有第一自动加药结构，所述第一自动加药结构用于向调节池体内投加h2so4以调节ph值呈酸性，所述调节池体的上端口还设有第一ph计和第一自动搅拌结构，所述第一ph计和第一自动搅拌结构的下端均位于调节池体内；所述调节池体的上端口靠近所述氧化池一侧与所述第一废水泵连通。

9、可选的，所述氧化池包括具有上端口的氧化池体，所述氧化池体的内侧底部分别设有第一曝气结构及连通所述调节池体的回流通道；所述氧化池体内还设有orp计和do计；所述管道混合器设置在氧化池体的上端口靠近ph调节池一侧，其两端分别连接第一废水泵和氧化池；所述氧化池体的上端口靠近所述ph回调池一侧与所述第二废水泵连通。

10、可选的，所述ph回调池包括具有上端口的回调池体，所述回调池体的上端口靠近所述氧化池一侧与所述第二废水泵连通；所述回调池体内还设有第二ph计和第二自动加药结构，所述第二自动加药结构用于向回调池体内投加naoh以调节ph值呈碱性；所述回调池体的内侧底部设有第二曝气结构；所述回调池体的上端口靠近所述混凝沉淀池一侧与所述第三废水泵连通。

11、可选的，所述混凝沉淀池包括具有上端口的沉淀池体，所述沉淀池体的上端口靠近所述ph回调池一侧与所述第三废水泵连通；所述沉淀池体内还分别设有第二自动搅拌结构和第三自动加药结构；所述第一溢流堰设置在所述沉淀池体的上端口远离ph回调池一侧。

12、可选的，所述深度净化处理单元还包括连接在所述混凝沉淀出口的生物活性炭滤池；所述生物活性炭滤池包括具有上端口的过滤池体，所述过滤池体的靠近混凝沉淀池一侧与第一溢流堰连通；所述过滤池体的内侧底部布水结构，所述布水结构上方设有第三曝气结构，所述第三曝气结构的上方又设有生物活性炭吸附结构；所述第二溢流堰设置在过滤池体的上端口远离混凝沉淀池一侧。

13、相比现有技术，本实用新型的一种制药废水深度处理设备，至少具备下列技术优势：

14、本实用新型的制药废水深度处理设备，通过设置深度氧化处理单元，具体是利用ph调节池、管道混合器和氧化池，实现了pm/bs体系(即基于高锰酸钾/亚硫酸氢盐的高级氧化技术)的构建，借助pm/bs体系产生的各种活性物种能够有效地氧化降解废水中的难降解有机污染物。同时，本实用新型的制药废水深度处理设备，还通过设置深度净化处理单元，具体是利用ph回调池和混凝沉淀池，实现了后续的接触氧化和混凝沉淀，能够进一步去除水中doc和残留的mn，最终实现废水的达标排放。此外，本实用新型的制药废水深度处理设备在具体应用中，还具有ph范围宽、反应迅速、能耗低、成本低、容易操作等优点。

技术特征：

1.一种制药废水深度处理设备，其特征在于，包括顺次连接的深度氧化处理单元和深度净化处理单元；所述深度氧化处理单元包括依次相连的ph调节池、管道混合器和氧化池，所述管道混合器上对称设有高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口，所述深度氧化处理单元用于完成加酸及基于高锰酸钾/亚硫酸氢盐的高级氧化反应过程；所述深度净化处理单元包括依次相连的ph回调池和混凝沉淀池，用于加碱、曝气接触氧化和混凝沉淀。

2.根据权利要求1所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述ph调节池与氧化池之间还于底部连通，用于对氧化池的废水做多级回流处理。

3.根据权利要求1或2所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口均设置在所述管道混合器的靠近所述氧化池一端底部且与水流方向相切布置。

4.根据权利要求3所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述深度净化处理单元还包括连接在混凝沉淀出口的生物活性炭滤池；所述混凝沉淀池和所述生物活性炭滤池的出口均设置溢流结构，所述溢流结构采用溢流堰，第一溢流堰设置在混凝沉淀池的出口，第二溢流堰设置在生物活性炭滤池的出口；所述ph调节池、氧化池和ph回调池的出口均设置废水提升结构，所述废水提升结构采用废水泵，第一废水泵设置在ph调节池与氧化池中间用于连通二者，第二废水泵设置在氧化池与ph回调池中间用于连通二者，第三废水泵设置在ph回调池与混凝沉淀池中间用于连通二者。

5.根据权利要求4所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述管道混合器包括混合器主体，所述混合器主体的两端分别设有进料口和出料口，所述进料口通过上游管道与所述ph调节池连通，所述第一废水泵安装在上游管道处，所述出料口通过下游管道与所述氧化池连通，所述高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口均设置在所述下游管道处。

6.根据权利要求5所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述ph调节池包括具有上端口的调节池体，所述调节池体的上端口远离氧化池一侧设有第一自动加药结构，所述第一自动加药结构用于向调节池体内投加h2so4以调节ph值呈酸性，所述调节池体的上端口还设有第一ph计和第一自动搅拌结构，所述第一ph计和第一自动搅拌结构的下端均位于调节池体内；所述调节池体的上端口靠近所述氧化池一侧与所述第一废水泵连通。

7.根据权利要求6所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述氧化池包括具有上端口的氧化池体，所述氧化池体的内侧底部分别设有第一曝气结构及连通所述调节池体的回流通道；所述氧化池体内还设有orp计和do计；所述管道混合器设置在氧化池体的上端口靠近ph调节池一侧，其两端分别连接第一废水泵和氧化池；所述氧化池体的上端口靠近所述ph回调池一侧与所述第二废水泵连通。

8.根据权利要求7所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述ph回调池包括具有上端口的回调池体，所述回调池体的上端口靠近所述氧化池一侧与所述第二废水泵连通；所述回调池体内还设有第二ph计和第二自动加药结构，所述第二自动加药结构用于向回调池体内投加naoh以调节ph值呈碱性；所述回调池体的内侧底部设有第二曝气结构；所述回调池体的上端口靠近所述混凝沉淀池一侧与所述第三废水泵连通。

9.根据权利要求8所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述混凝沉淀池包括具有上端口的沉淀池体，所述沉淀池体的上端口靠近所述ph回调池一侧与所述第三废水泵连通；所述沉淀池体内还分别设有第二自动搅拌结构和第三自动加药结构；所述第一溢流堰设置在所述沉淀池体的上端口远离ph回调池一侧。

10.根据权利要求9所述的一种制药废水深度处理设备，其特征在于，所述生物活性炭滤池包括具有上端口的过滤池体，所述过滤池体的靠近混凝沉淀池一侧与第一溢流堰连通；所述过滤池体的内侧底部布水结构，所述布水结构上方设有第三曝气结构，所述第三曝气结构的上方又设有生物活性炭吸附结构；所述第二溢流堰设置在过滤池体的上端口远离混凝沉淀池一侧。

技术总结
一种制药废水深度处理设备，包括顺次连接的深度氧化处理单元和深度净化处理单元；所述深度氧化处理单元包括依次相连的pH调节池、管道混合器和氧化池，所述管道混合器上对称设有高锰酸钾投药口和亚硫酸氢盐投药口，所述深度氧化处理单元用于完成加酸及基于高锰酸钾/亚硫酸氢盐的高级氧化反应过程；所述深度净化处理单元包括依次相连的pH回调池和混凝沉淀池，用于加碱、曝气接触氧化和混凝沉淀。本技术能够切实解决制药废水深度处理难题，实现出水达标排放或回用。

技术研发人员：盛晏,刘斌,邹辉,向华,唐小波,沈海林,熊胜舟,陈慧仪,张学俊,庄叶游,李继
受保护的技术使用者：深圳市天健坪山建设工程有限公司
技术研发日：20230707
技术公布日：2024/1/5