专利名称：还原氧化钨用氢气净化干燥塔的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种净化氢气用干燥塔，尤其指还原氧化钨用氢气的净化干燥 +
-tB。
背景技术：
在钨钢产业中，还原氧化钨用的氢气净化干燥塔，是将一层干燥氢气用吸附剂层3 设置于所述的进气口 1与出气口间2，该层干燥氢气用吸附剂层3高度超过1. 5米。经测试， 净化后的氢气露点高，并且不稳定，所以生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细不均，细颗粒粉末则无法生产。
实用新型内容针对现有技术中存在的不足之处，本实用新型提供一种还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均勻，且生产出的细颗粒粉末也较均勻。为实现上述目的，本实用新型技术方案为还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层或分子筛层。上述技术方案的有益之处在于本实用新型摒弃了现有技术干燥塔内仅采用一层高度超过1. 5米的干燥氢气用吸附剂层的结构。由于超过1.5米的硅胶层再生时间短，再生不完全，常达不到最佳的氢气净化干燥效果，故，本实用新型是在干燥塔内间隔设置三层的硅胶层或分子筛层，且每高度小于1.5米。经上述结构改造后的干燥塔净化干燥后氢气露点明显降低，状态稳定。并且生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均勻，细颗粒粉末也较均勻。
图1是现有技术还原氧化钨用氢气净化干燥塔结构示意图；图2是本实用新型还原氧化钨用氢气净化干燥塔结构示意图。
具体实施方式
现结合附图和实施例说明本实用新型。如图1所示的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口 1、于下端部设有氢气出气口 2。本实用新型在现有技术的干燥塔内增加两层隔板41，硅胶层或分子筛层42堆放于三层隔板41上，且每层高度小于1. 5米，每层硅胶层或分子筛层42 间具有一定的间隙。于进气口与出气口间间隔设置的，所述的干燥氢气用吸附剂层设为，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。[0013] 经测试，吸附剂采用硅胶的干燥塔，其净化干燥的氢气露点为-20°C，状态稳定。而吸附剂采用分子筛的干燥塔，其净化干燥的氢气露点为_35°C，状态非常稳定。
权利要求1.还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，其特征在于所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1. 5米。
2.如权利要求1所述的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其特征在于所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层。
3.如权利要求1所述的还原氧化钨用氢气净化干燥塔，其特征在于所述的干燥氢气用吸附剂层为分子筛层。
专利摘要本实用新型公开一种还原氧化钨用氢气净化干燥塔，该干燥塔于上端部设有氢气进气口、于下端部设有氢气出气口，干燥氢气用吸附剂层设置于所述的进气口与出气口间，所述的干燥氢气用吸附剂层设为三层，每层间隔设置，且每高度小于1.5米。所述的干燥氢气用吸附剂层为硅胶层或分子筛层。本实用新型摒弃了现有技术干燥塔内仅采用一层高度超过1.5米的干燥氢气用吸附剂层的结构。本实用新型是在干燥塔内间隔设置三层的硅胶层或分子筛层，且每高度小于1.5米。经上述结构改造后的干燥塔净化干燥后氢气露点明显降低，状态稳定。并且生产出的碳化钨中粗颗粒粉末粗细均匀，细颗粒粉末也较均匀。
文档编号B01D53/26GK202136912SQ20112020468
公开日2012年2月8日 申请日期2011年6月17日 优先权日2011年6月17日
发明者廖永乐 申请人:春保材料科技(厦门)有限公司