过滤器以及酸洗设备的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种过滤器以及酸洗设备。所述过滤器包括：壳体，位于所述壳体中的滤网；其中，所述壳体包括侧壁，所述侧壁由内至外包括内壁、感压膜及外壁，所述感压膜侦测所述过滤器内的压强并传递信号至外界，从而间接反映处滤网的质量，能够及时发现异常，降低乃至避免损失。
【专利说明】过滤器以及酸洗设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体设备，特别涉及一种湿法清洗中的过滤器以及酸洗设备。【背景技术】
[0002]在半导体制造中，需要涉及到许许多多的工序，每道工序都是由一定的工艺及设备完成。湿法清洗是绝大多数产品在制造过程中所必经的一步，湿法清洗的效果的优劣直接影响着产品的质量，因此，对湿法清洗的设备就有着严格的要求。
[0003]目前，由于半导体制造的大批量化，以及在湿法清洗时酸液不可能一次就消耗完，因而多是采用对酸液加以循环利用以尽可能节省成本。由于新的酸液在进行第一次使用后必然会引入杂质，所以在下一次对其利用时，其中的杂质会影响酸液的质量和使用效果，因此，需要将酸液中的杂质去除，以使得酸液的成分符合要求，从而继续进行清洗。介于此，业界在清洗设备中加入了过滤器，所述过滤器中设置有滤网，以将上一次清洗后的杂质去除，以免对下一次清洗产生影响。
[0004]由于半导体制造的精密性，对酸液的要求也较高，就目前的材料而言，只能够保证滤网在一定的期限内能够满足工艺的需要，而这一期限通常是由厂家经过试验获得。不可否认的是，在实际生产中会出现各种各样的问题，那么就有可能使得滤网在期限内受到破坏，例如被堵塞、破损等情况，这时，过滤器对酸液的过滤就可能达不到要求，而这目前只能在后续操作中才能发现问题，从而造成较大的损失。
[0005]因此，需要对现有技术加以改善，使得能够及时知晓过滤器尤其是滤网的质量情况，以尽早发现异常，降低损失。
实用新型内容
[0006]本实用新型的目的在于提供一种过滤器以及酸洗设备，解决现有技术中不能够掌握过滤器在使用过程中质量是否合格的问题。
[0007]为解决上述技术问题，本实用新型提供一种过滤器，用于半导体湿法清洗中对酸液进行过滤，包括:
[0008]壳体以及位于所述壳体中的滤网；
[0009]其中，所述壳体包括侧壁，所述侧壁由内至外包括内壁、感压膜及外壁，所述感压膜侦测所述过滤器内的压强并传递信号至外界。
[0010]可选的，对于所述的过滤器，所述侧壁的形状为圆筒形，所述滤网的形状为一端敞开的空心圆柱形，所述滤网的高度及底面积均小于所述侧壁的高度及底面积。
[0011]可选的，对于所述的过滤器，所述过滤器进一步包括与所述侧壁相连接的顶板和底板，所述滤网的敞开一端连接于所述顶板，所述滤网与所述侧壁及所述底板之间具有空隙，所述酸液经过所述空隙。
[0012]可选的，对于所述的过滤器，所述过滤器包括穿过所述侧壁的一进液管和一排液管，所述滤网包括一开口，所述开口和所述排液管相连通；所述进液管与所述空隙相连通，所述酸液由所述进液管进入所述空隙，经所述滤网过滤后渗入所述滤网中，并经由所述开口和排液管排出。
[0013]可选的，对于所述的过滤器，所述过滤器还包括一穿过所述底板的废液排放口，经所述滤网过滤后的废液由所述废液排放口排出。
[0014]可选的，对于所述的过滤器，所述过滤器还包括一显示屏，所述感压膜侦测到的压强由所述显示屏显示。
[0015]相应的，本实用新型还提供一种酸洗设备，用于半导体制造过程中对晶圆进行清洗，所述酸洗设备包括酸槽、过滤器，所述酸液经所述过滤器后进入酸槽对待清洗晶圆进行清洗；其中，所述过滤器为如上所述的过滤器。
[0016]与现有技术相比，在本实用新型提供的过滤器以及酸洗设备中，在所述过滤器中设置有感压膜，能够实时侦测过滤器中的压强变化，从而间接反映处滤网的质量，能够及时发现异常，降低乃至避免损失。
【专利附图】
【附图说明】
[0017]图1为本实用新型一实施例的过滤器的结构示意图；
[0018]图2为本实用新型一实施例的过滤器的侧壁的结构示意图；
[0019]图3为本实用新型的过滤器在多个时间段中记录的数据的图表。
【具体实施方式】
[0020]在【背景技术】中已经提及，目前的设备存在不能够知晓过滤器在使用过程中的质量状况，只能在发生故障后在后段发现。发明人研究后发现，当滤网出现异常状况时，其周边的压强会随之变动，而正常情况下，压强是基本不会变化，那么，若能够侦测内部的压强变动，就能够表征出滤网的质量状况。
[0021]以下结合附图和具体实施例对本实用新型提供的过滤器以及酸洗设备作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0022]首先请参考图1，本实用新型提供一种过滤器，用于半导体湿法清洗中对酸液进行过滤，主要包括:壳体，及位于所述壳体中的滤网2 ;其中，所述壳体包括侧壁11、顶板12及底板13，所述侧壁11与所述顶板12及底板13相连接，所述侧壁11中设置有一感压膜，所述感压膜能够实时的侦测到所述过滤器内的压强，并传递信号至外界，由技术人员获知。那么，技术人员可以根据传递出的信号判断滤网2的质量状况，从而判断出酸液在过滤后是否合格，并能够预计出是否需要更换新的滤网。
[0023]请结合图2，其为对图1中的侧壁11的一部分(如虚线框所包绕部分)的局部放大图，所述侧壁11由内至外包括内壁113、感压膜112及外壁111，优选的，所述内壁113有着较佳的柔韧性，能够随着内部压强而变动明显，从而使得所述感压膜112也受到影响。
[0024]请继续参考图1，所述侧壁11的形状为圆筒形，所述滤网2的形状为一端敞开的空心圆柱形，所述滤网2的高度及底面积均小于所述侧壁11的高度及底面积。所述滤网2的敞开一端连接于所述顶板12，从而在所述滤网2与所述侧壁11及所述底板13之间形成有空隙，所述酸液经过所述空隙。具体的，所述过滤器包括穿过所述侧壁11的一进液管101和一排液管102，所述滤网2包括一开口 21，所述开口 21和所述排液管102相连通；所述进液管101与所述空隙相连通，所述酸液由所述进液管101进入所述空隙中，经所述滤网2过滤后渗入所述滤网2中，并经由所述开口 21和排液管102排出。此外，所述过滤器还包括一穿过所述底板13的废液排放口 103，经所述滤网2过滤后的废液由所述废液排放口 103排出。
[0025]在本实施例中，优选的，所述外壁111为透明的，并且较为坚固，能够保持所述过滤器的形状，例如可以是钢化玻璃。所述感压膜112优选为能够视所述过滤器内部压强而显示出若干种颜色，从而通过所述外壁显示出来，如此监控效果直接。例如，所述感压膜112可以是颗粒状结构，其在受到不同的压强下会产生不同的形变，从而折射出不同的颜色。优选的，所述感压膜112能够显示出3种颜色:白色、蓝色及红色，白色为所述过滤器内部压力低于工作压力时显示，例如一个未使用的过滤器，其应当显示为白色，若颜色异常则能够直接避免使用此过滤器；蓝色通常为过滤器处于正常工作压强时所能够显示的颜色；红色则是过滤器内部压强超过正常工作压强时显示，例如出现滤网2堵塞时，所述滤网2与壳体之间的压强增大，从而使得所述感压膜112受到的压强增大，进而显示出红色。
[0026]在另一优选实施例中，还可以对所述感压膜112的颜色进行更详细的分类，以针对不同强度的压强，并且通过采取每隔一定时期加以记录的方式，可以直观的展示出过滤器的质量变化，从而对过滤器的使用、更换及改进提出有效的指引。请参考图3，在多个时间段中，对本实用新型的过滤器进行记录，并结合预先获得的感压膜112在不同压强下所能对应的颜色，得到三种不同形式的曲线。如图3中Pl所示，对应的压强基本保持不变，故可以得出过滤器在该时期质量保持稳定；如P2所示，在该时期，过滤器内部压强随着时间变大，这表面滤网发生异常，例如是被堵塞，或者使用寿命将至，则可及时进行预警，以避免发生异常；同样的，如P3所示，在该时期，过滤器内部压强随着时间变小，则可能是例如滤网破损，甚至过滤器密封性变差等情况发生。技术人员通过实时监控过滤器可能会发现过滤器所显示的颜色一直处于正常范围中，但是通过一段时期压强的持续变动，则能够技术发现问题，降低或者避免损失。
[0027]上述实施例中采用的过滤器是直接通过感压膜的颜色变动来达到表征过滤器内部情况的变动，在其他的可选的实施例中，可以在所述过滤器中连接一显示屏，可以通过光电转换模块或者压力传感器等将感压膜的颜色变化或者受到的压强以数值显示在显示屏上，从而达到更加精确的监控效果。
[0028]考虑到实际工厂中，设备很多，各式各样的显示屏也很多，因此，若在仅需要大致了解过滤器的质量变化，优选为采用透明外壁，且感压膜能够随着压强的变动而显示出不同色彩的过滤器，从而一目了然。
[0029]结合上述过滤器，本实用新型提供一种酸洗设备，用于半导体制造过程中对晶圆进行清洗，所述酸洗设备包括酸槽、过滤器，所述酸液经所述过滤器后进入酸槽对待清洗晶圆进行清洗；其中，所述过滤器为如上所述的过滤器。采用所述的酸洗设备，能够有效的把控酸液的成分，使得酸液的成分尽可能的符合标准，以提高清洗质量，避免在清洗时引入新的杂质。
[0030]所述酸洗设备还包括其他模块，例如加热器，各种阀门等，这些模块可以直接采用现有技术中的模块，其连接与使用与现有技术相同，在此不做赘述。[0031]本实用新型提供的过滤器以及酸洗设备中在所述过滤器中设置有感压膜，与现有技术相比，能够实时侦测过滤器中的压强变化，从而间接反映处滤网的质量，能够及时发现异常，降低乃至避免损失。
[0032]进一步的，所述过滤器的外壁为透明的，所述感压膜能够根据内部压强而变化颜色，使得对过滤器的监控更加便捷有效。
[0033]显然，本领域的技术人员可以对实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包括这些改动和变型在内。
【权利要求】
1.一种过滤器，用于半导体湿法清洗中对酸液进行过滤，其特征在于，包括: 壳体以及位于所述壳体中的滤网； 其中，所述壳体包括侧壁，所述侧壁由内至外包括内壁、感压膜及外壁，所述感压膜侦测所述过滤器内的压强并传递信号至外界。
2.如权利要求1所述的过滤器，其特征在于，所述侧壁的形状为圆筒形，所述滤网的形状为一端敞开的空心圆柱形，所述滤网的高度及底面积均小于所述侧壁的高度及底面积。
3.如权利要求2所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器进一步包括与所述侧壁相连接的顶板和底板，所述滤网的敞开一端连接于所述顶板，所述滤网与所述侧壁及所述底板之间具有空隙，所述酸液经过所述空隙。
4.如权利要求3所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器包括穿过所述侧壁的一进液管和一排液管，所述滤网包括一开口，所述开口和所述排液管相连通；所述进液管与所述空隙相连通，所述酸液由所述进液管进入所述空隙，经所述滤网过滤后渗入所述滤网中，并经由所述开口和排液管排出。
5.如权利要求4所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器还包括一穿过所述底板的废液排放口，经所述滤网过滤后的废液由所述废液排放口排出。
6.如权利要求1所述的过滤器，其特征在于，所述过滤器还包括一显示屏，所述感压膜侦测到的压强由所述显示屏显示。
7.一种酸洗设备，用于半导体制造过程中对晶圆进行清洗，所述酸洗设备包括酸槽、过滤器，所述酸液经所述过滤器后进入酸槽对待清洗晶圆进行清洗；其特征在于，所述过滤器为如权利要求1?6中任一项所述的过滤器。
【文档编号】B01D29/33GK203425585SQ201320510138
【公开日】2014年2月12日 申请日期:2013年8月20日 优先权日:2013年8月20日
【发明者】杨勇, 杜亮 申请人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司