机械产品生产加工表面喷涂处理系统的制作方法

文档序号:11059841阅读:606来源:国知局

本发明涉及一种机械产品生产加工表面喷涂处理系统,属于机械产品技术领域。



背景技术:

目前,机械产品生产加工处理过程中,经常需要采用合适的方式针对机械产品表面实现加工处理,以便的处理方式是采用合适的方式予以喷涂产品,改善喷涂效果,一般的喷涂产品效果,需要根据需要予以改进,以便更好地实现产品生产制造效果。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种机械产品生产加工表面喷涂处理系统,以便更好地针对机械产品生产加工喷涂原料进行提升,然后予以喷涂,改善使用效果。

为了实现上述目的,本发明的技术方案如下。

一种机械产品生产加工表面喷涂处理系统,包括进料系统,进料系统右侧设有提升系统,提升系统右侧上部设有供料管机构;提升系统左侧上部设有动力系统支架,动力系统支架上部安装有动力系统,提升系统中间位置安装有旋转机构支柱,旋转机构支柱上下部分别安装有上旋转机构和下旋转机构,动力系统和上旋转机构之间设有动力传输机构,上旋转机构和下旋转机构之间设有输送带,输送带上安装有多个输送板;提升系统右侧安装有出料系统,出料系统下部安装有多个出料管机构,出料系统上部左侧安装有自由升降系统,自由升降系统上部设有自动伸缩机构,自动伸缩机构上部安装有上活动链接系统,出料系统上部右侧安装有右活动链接系统,上活动链接系统和右活动链接系统上铰链设有分离处理板,分离处理板下部安装有下料系统,分离处理板上部安装有供料系统,供料系统右侧设有集料系统。

进一步地,出料系统左侧安装有隔离装置,隔离装置下部设有刮板。

进一步地,分离处理板上安装有多个分离处理孔。

进一步地,出料系统左侧下部和集料系统下部均安装有运动装置。

该系统中,将机械产品生产加工用喷涂原料从进料系统倒入提升系统下部,在动力系统的作用下,动力传输机构带动上旋转机构转动,上旋转机构再利用输送带带动下旋转机构转动,从而利用输送板将喷涂原料从提升系统下部输送到上部,喷涂原料到达供料管机构位置时从供料管机构排出掉落到供料系统内。利用自动伸缩机构调节自动伸缩机构的长度,增加供料系统的倾斜度,使喷涂原料能更好地下滑。喷涂原料在下滑的过程中,喷涂原料颗粒从分离处理孔进入下料系统,结块的喷涂原料滑入集料系统进行收集。隔离装置可以将喷涂原料颗粒挡在下料系统右侧,避免喷涂原料颗粒四散,喷涂原料颗粒继续下降掉落到出料系统内,最后从出料管机构排出铺设在产品上。利用运动装置带动系统向左移动,利用刮板将铺设的喷涂原料刮平。

该发明的有益效果在于:该发明系统能有效地针对机械产品生产加工喷涂原料进行提升,然后予以喷涂处理,便于调节高度,更好地使得喷涂原料下料后予以喷涂处理,使用方便,改善了机械产品生产加工效果。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明的具体实施方式进行描述,以便更好的理解本发明。

本发明实施例中的机械产品生产加工表面喷涂处理系统,包括进料系统,进料系统右侧设有提升系统,提升系统右侧上部设有供料管机构;提升系统左侧上部设有动力系统支架,动力系统支架上部安装有动力系统,提升系统中间位置安装有旋转机构支柱,旋转机构支柱上下部分别安装有上旋转机构和下旋转机构,动力系统和上旋转机构之间设有动力传输机构,上旋转机构和下旋转机构之间设有输送带,输送带上安装有多个输送板;提升系统右侧安装有出料系统,出料系统下部安装有多个出料管机构,出料系统上部左侧安装有自由升降系统,自由升降系统上部设有自动伸缩机构,自动伸缩机构上部安装有上活动链接系统,出料系统上部右侧安装有右活动链接系统,上活动链接系统和右活动链接系统上铰链设有分离处理板,分离处理板下部安装有下料系统,分离处理板上部安装有供料系统,供料系统右侧设有集料系统。出料系统左侧安装有隔离装置,隔离装置下部设有刮板。分离处理板上安装有多个分离处理孔。出料系统左侧下部和集料系统下部均安装有运动装置。

该系统在具体实施时,将机械产品生产加工用喷涂原料从进料系统倒入提升系统下部,在动力系统的作用下,动力传输机构带动上旋转机构转动,上旋转机构再利用输送带带动下旋转机构转动,从而利用输送板将喷涂原料从提升系统下部输送到上部,喷涂原料到达供料管机构位置时从供料管机构排出掉落到供料系统内。利用自动伸缩机构调节自动伸缩机构的长度,增加供料系统的倾斜度,使喷涂原料能更好地下滑。喷涂原料在下滑的过程中,喷涂原料颗粒从分离处理孔进入下料系统,结块的喷涂原料滑入集料系统进行收集。隔离装置可以将喷涂原料颗粒挡在下料系统右侧,避免喷涂原料颗粒四散,喷涂原料颗粒继续下降掉落到出料系统内,最后从出料管机构排出铺设在产品上。利用运动装置带动系统向左移动,利用刮板将铺设的喷涂原料刮平。

以上所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

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