本发明属于农药喷雾技术领域，具体涉及一种气力雾化静电喷头及喷雾系统。
背景技术：
当前行业存在的问题：静电喷头主要以压力雾化、感应式充电为主。其中，1)在0.3mpa下压力雾化的雾滴粒径约为100-300微米，难以雾化为更小的雾滴，而更小雾滴有助于感应式荷电过程。2)直接充电法是使液体带电最直接有效的方法，但直接充电法使整个喷雾系统，甚至整个喷雾机都带电。这就要求喷雾系统具有良好的绝缘性，万一漏电存在安全隐患。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足提供一种气力雾化静电喷头及喷雾系统，其结构简单，稳定可靠，与传统的低速气流辅助输运相比，大大缩短了荷电雾滴的输运时间，提高药液沉积效果。
为实现上述技术目的，本发明采取的技术方案为：
一种气力雾化静电喷头及喷雾系统，其中：包括空压机、气体射流嘴、金属网、电极座、电极、第一铜针、第二铜针、高压电源、泵、药液箱、进液管和提升药箱，所述的空压机通过管路与气体射流嘴顶端的进气口连接，所述的进液管安装在气体射流嘴上的斜安装孔里且进液管通过管路与提升药箱底部出口连接，所述的提升药箱顶端通过管路与泵连接，所述的泵通过管路与药液箱底部的出口连接，所述的电极座固定安装在气体射流嘴底部的中心孔里，所述的电极安装在电极座上，所述的第一铜针安装在电极座上的安装孔里且第一铜针尾部与电极连接，所述的第二铜针安装在气体射流嘴上的安装孔里且第二铜针通过电极座上的通孔里，所述的金属网安装在电极座中心孔内且金属网与第二铜针尾部连接，所述的高压电源两端都通过导线分别与第一铜针和第二铜针连接。
为优化上述技术方案，采取的具体措施还包括：
上述的气体射流嘴中心孔内靠近中部位置设有拉法尔管。
上述的金属网的目数为16～20目。
上述的进液管左端进液口距离拉法尔管出口处l小于5mm。
上述的气体射流嘴中拉法尔管最小截面面积与出口面积比在1.15～1.45之间。
本发明采用空压机或罗茨风机为供气源，因为喷雾系统管路复杂，要求气源具有高压特性(相对风机而言)。
本发明工作原理：高压气流进入气体喷嘴后，在拉法尔管作用下加速、压缩后，在吸入室形成负压。在大气压作用下，药液从提升药箱进入气体喷嘴。进入喷嘴后的药液在高速气流作用下，雾化为雾滴后，雾滴沉积在金属网上。而金属网与高压电源连接，经过金属网的雾滴直接荷电后喷出，在出口处，安装感应电极，荷电雾滴在电极作用下，进一步荷电。
其中，金属网目数越大有助于雾滴荷电，但增大了气流阻力。为使进液口在较理想的负压区，建议进液口距离拉法尔管出口处l小于5mm。为使气体喷嘴在吸入室产生更大的负压，建议拉法尔管最小截面面积与出口面积比在1.15～1.45之间。如果属于超低量喷雾，可将吸入管直接与喷雾机药箱相连，只依靠气体喷嘴产生的负压来供液，可删除该系统中的提升药箱、泵等辅助部件。
本发明采用高速气流将不带电的液体雾化成雾滴后，在金属网上直接充电，由于液滴属于离散状态、且受高速气流影响，电流不会随着雾滴进入喷雾系统，因此不存在安全隐患，且未充上电的雾滴通过电极进行感应式充电，保证荷电效果。
本发明的优点在于以下几点：所形成的雾滴具有更大的荷电量，稳定可靠且结构简单；与传统的低速气流辅助输运相比，大大缩短了荷电雾滴的输运时间，提高药液沉积效果。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
其中的附图标记为：空压机1、气体射流嘴2、金属网3、电极座4、电极5、第一铜针6、第二铜针7、高压电源8、泵9、药液箱10、进液管11、提升药箱12。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的具体实施方式作出进一步说明：
一种气力雾化静电喷头及喷雾系统，其中：包括空压机1、气体射流嘴2、金属网3、电极座4、电极5、第一铜针6、第二铜针7、高压电源8、泵9、药液箱10、进液管11和提升药箱12，所述的空压机1通过管路与气体射流嘴2顶端的进气口连接，所述的进液管11安装在气体射流嘴2上的斜安装孔里且进液管11通过管路与提升药箱12底部出口连接，所述的提升药箱12顶端通过管路与泵9连接，所述的泵9通过管路与药液箱10底部的出口连接，所述的电极座4固定安装在气体射流嘴2底部的中心孔里，所述的电极5安装在电极座4上，所述的第一铜针6安装在电极座4上的安装孔里且第一铜针6尾部与电极5连接，所述的第二铜针7安装在气体射流嘴2上的安装孔里且第二铜针7通过电极座4上的通孔里，所述的金属网3安装在电极座4中心孔内且金属网3与第二铜针7尾部连接，所述的高压电源8两端都通过导线分别与第一铜针6和第二铜针7连接。
实施例中，气体射流嘴2中心孔内靠近中部位置设有拉法尔管。
实施例中，金属网3的目数为16～20目。
实施例中，进液管11左端进液口距离拉法尔管出口处l小于5mm。
实施例中，气体射流嘴2中拉法尔管最小截面面积与出口面积比在1.15～1.45之间。
以上仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，应视为本发明的保护范围。