技术特征：
技术总结
本发明公开了一种用于降解土霉素废水的g‑C3N4‑PANI复合光催化材料的制备方法，属于复合光催化材料的合成技术领域。本发明的技术方案要点为：将g‑C3N4加入到硫酸溶液中并超声混合均匀得到溶液A；在冰浴条件下向溶液A中加入苯胺，搅拌混合均匀得到溶液B；继续在冰浴条件下向溶液B中加入(NH4)2S2O8，在冰浴条件下继续搅拌反应8h得到溶液C；将溶液C进行抽滤，再用水和酒精反复洗涤三次，然后置于真空干燥箱中于40℃干燥24h后研磨得到g‑C3N4‑PANI复合光催化材料。本发明制得的复合光催化材料具有较好的性能和光吸收性能，而且具有可见光响应的光催化性能，在模拟太阳光条件下具有高效降解土霉素废水的性能。
技术研发人员：孙剑辉;谭露;董淑英;王淼
受保护的技术使用者：河南师范大学
技术研发日：2018.08.01
技术公布日：2019.01.04