本实用新型涉及化工设备，特别涉及一种有机硅乳液型表面控制剂的反应釜。
背景技术：
表面控制剂是目前生产活动中常用的，表面控制剂生产中一般会用到反应釜，但是现有反应釜一般都是需要人工手动控制，控制很麻烦，这就导致表面控制剂的反应物不能充分混匀，从而影响了其产品质量。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种监控精准且混合充分反应速度快的有机硅乳液型表面控制剂的反应釜。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种有机硅乳液型表面控制剂的反应釜，其包括反应釜体，所述反应釜还包括上层喷淋组件和下层喷淋组件，所述上层喷淋组件包括上层泵、与所述上层泵相连通且下端部位于所述反应釜体内的上层喷管以及安装于所述上层喷管上方且位于所述反应釜体内的上层分散盘，所述下层喷淋组件包括下层泵、连接在反应釜体上端部上且与下层泵相连接的下层进料管、连接在反应釜体下端部且与下层泵相连接回料管，所述下层进料管包括主管、与所述主管相连通的多个环形管，所述环形管上开设有多个开口朝上的出料口。
所述环形管包括两个，且两个环形管同轴设置。
两个所述环形管的出料口错位设置。
相邻的两个环形管中，位于下方的环形管的出料口正对位于上方的环形管的下端面。
所述反应釜体的侧壁上斜向上设置有正对环形管所围的内部空间。
所述反应釜体内设有环形的安装底座，所述安装底座上设有监控器。
所述监控器包括温控器、浓度感应器以及压力感应器。
由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：利用上层喷淋组件和下层喷淋组件将反应剂打散，使反应剂能迅速充分混合，极大地提高了反应速度和制备的表面控制剂的质量。
附图说明
附图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图所示的实施例对本实用新型作进一步描述。
如图1所示，有机硅乳液型表面控制剂的反应釜包括反应釜体1，所述反应釜还包括上层喷淋组件和下层喷淋组件。
所述上层喷淋组件包括上层泵2、与所述上层泵2相连通且下端部位于所述反应釜体1内的上层喷管3以及安装于所述上层喷管3上方且位于所述反应釜体1内的上层分散盘4。所述下层喷淋组件包括下层泵5、连接在反应釜体1上端部上且与下层泵5相连接的下层进料管6、连接在反应釜体1下端部且与下层泵5相连接回料管14，所述下层进料管6包括主管7、与所述主管7相连通的多个环形管8，所述环形管8上开设有多个开口朝上的出料口9。所述环形管8包括两个，且两个环形管8同轴设置。两个所述环形管8的出料口9错位设置。位于上方的且相邻的两个出料口9的轴线之间具有一个位于下方的出料口9的轴线。位于下方的且相邻的两个出料口9的轴线之间具有一个位于上方的出料口9的轴线。相邻的两个环形管8中，位于下方的环形管8的出料口9正对位于上方的环形管8的下端面。
所述反应釜体1的侧壁上斜向上设置有正对环形管8所围的内部空间的喷吹管10，喷吹管10间朝反应釜体1内喷气，辅助打散反应剂。为实现自动监控，所述反应釜体1内设有环形的安装底座15，所述安装底座上设有监控器。所述监控器包括温控器11、浓度感应器12以及压力感应器13，监控器包括温控器11、浓度感应器12以及压力感应器13分别具有两个按序匀部于安装底座上。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。