一种用于高粘度料浆喷雾干燥的雾化装置的制作方法

本实用新型涉及机械领域，尤其是涉及一种高粘度浆料喷雾干燥的雾化装置，用于将高粘度的料浆进行雾化。

背景技术：

随着电子信息技术的高速发展，电子陶瓷材料应用领域正在从传统的消费类电子产品转向数字化的信息产品，包括通信设备、计算机和数字化音视频设备等，产品也向小型化发展，喷雾干燥造粒技术是电子陶瓷生产的关键技术，而离心喷雾造粒干燥技术是目前工业生产中使用最广泛的干燥技术之一，在陶瓷生产过程中，将高粘度的陶瓷浆料雾化成细小的具有流动性好的细小颗粒尤为重要，陶瓷颗粒越细小，陶瓷产品在后工序生产中也越能小型化，在现有的雾化技术中，高粘度的陶瓷料浆存在难雾化，雾化不均匀，出料率低等问题，使得此类产品小型化生产困难，成品率低，产品一致性也不好。

技术实现要素：

有鉴于背景技术所述，本实用新型提供一种可均匀雾化高粘度料浆、安全可靠、实用寿命长的离心雾化干燥用的雾化装置。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

一种用于高粘度料浆喷雾干燥的雾化装置，其包括雾化盘、设置于所述雾化盘中央的高速轴，以及沿周向均匀设置于所述雾化盘上方的多根输料管，所述输料管的入口均与高粘度料浆容器连通，其出口均正对所述雾化盘的中央附近，且该出口与所述雾化盘的表面之间有间隙，所述雾化盘中间低，围边高。

优选的，所述的雾化盘包括中间的较低的底部和外围的较高的盘边，所述底部和所述盘边平滑连接。

优选的，所述底部和所述盘边弧形连接。

优选的，所述雾化盘的底部为平面。

优选的，所述雾化盘的底部和盘边没有夹角，从所述输料管的出口处至所述雾化盘的边缘以相同或相近的角度倾斜向上。

优选的，所述雾化盘的边沿沿周向固定有多个分配柱，所述多个分配柱的上端均由一固定环固定。

优选的，所述输料管的出口与所述雾化盘表面之间有5mm左右的距离。

本实用新型具有以下优点：

雾化盘设计成碟状，从而使得工作面的面积增加，增加了雾化盘与陶瓷浆料的接触面积，也增加了浆料在雾化盘上的停留时间，使得陶瓷浆料在雾化盘上形成的浆料膜更均匀，更细小。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的雾化装置的立体结构示意图；

图2为本实用新型的雾化装置的剖面图。

具体实施方式

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合附图和具体的实施例对本实用新型的技术方案进行详细说明。需要指出的是，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要理解的是，术语“顶部”、“底部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

本实施例提供一种用于高粘度料浆喷雾干燥的雾化装置，其包括圆形雾化盘1，设置于雾化盘1中央的高速轴2，以及设置于雾化盘1上方的两根输料管3。

所述的两根输料管3对称设置于雾化盘1上方，且每一输料管1的入口均与高粘度料浆容器连通，其出口均正对雾化盘1的中央附近，且该出口与雾化盘1的表面之间有5mm左右的距离。

所述的雾化盘1，其为碟形，即包括中间的较低的底部11和外围的较高的盘边12，底部11和盘边12平滑连接，最好为弧形连接。雾化盘1具有光滑的上表面。一种实施方式是，底部11为平面，如图1-2所示。但并不限于此，例如：底部和盘边也可以是连续而没有夹角，从输料管3的出口处至雾化盘边缘以相同或相近的角度倾斜向上。

雾化盘1的边沿沿周向固定有多个分配柱4，多个分配柱4的另一端即上端由一固定环5固定。

本实施例之雾化装置工作时，由高速轴2驱动雾化盘1做高速旋转运动，由输料管3向雾化盘1上表面供应陶瓷料浆，陶瓷料浆在雾化盘1表面形成一层薄膜，在离心力的作用下，该薄膜向雾化盘1外沿运动，由于雾化盘1的盘边较高，料浆运动需要爬坡，导致其速度减缓，而后再在离心力的作用下绕过分配柱4向外甩出形成线状料浆，而后再形成雾滴。碟形的雾化盘1使得陶瓷浆料在雾化盘1上停留时间更长，成膜面积更大，薄膜更均匀，从而使得最后制成的雾滴也会更均匀。

事实上，在实际应用中，输料管的数目也不限于2，还可以是3、4，只要其出口沿周向均匀设置于雾化盘表面上方即可。雾化盘也不限于圆形，也可以是多边形，只要其为轴对称结构即可。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。