过滤器润湿系统及供液系统的制作方法

本实用新型属于集成电路制造领域，特别是涉及一种有机溶剂的过滤器润湿系统及供液系统。

背景技术：

光刻工艺是半导体制造工艺中非常重要的工艺，它是在光照作用下，借助光致抗蚀剂(又名光刻胶)将掩膜版上的图形转移到基底上的过程。光刻工艺过程中需要使用光刻胶和显影液等多种有机溶剂，而如果有机溶剂中含有气泡或颗粒等杂质，将导致转移图形的品质下降甚至导致图形转移完全失败。因而在现有的光刻工艺的用于供应有机溶剂的供液系统中，需要使用过滤器去除有机溶剂当中含有的气泡和颗粒等杂质。过滤器的材质通常分为亲水性材质和疏水性材质，疏水性材质的过滤器在使用前通常需要预润湿，只有经过充分预润湿的过滤器才能用于过滤。因为如果过滤器不经润湿或润湿不充分就会产生气泡，气泡的产生一方面会造成喷涂系统的压力不稳定，另一方面气泡随光阻喷涂到基底表面会导致光刻图形缺陷，影响产品良率，所以对此类疏水性材质的过滤器在使用前进行预润湿非常重要。现有技术中并没有专门的预润湿装置。为防止过滤器在预润湿过程中被污染，现有技术中都是利用设备本身的供液管路给对应的备用过滤器做预润湿，但预润湿时间可能长达12小时以上，严重影响设备的产出及复机时间。这对于动辄上亿的光刻设备而言是一种极大的浪费，导致不必要的制造成本上升。

技术实现要素：

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种过滤器润湿系统及供液系统，用于解决现有技术中因利用供液管路给备用过滤器做预润湿，导致设备的产出率下降、生产成本上升等问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种过滤器润湿系统，包括过滤装置、排放管路及润湿管路，所述过滤装置包括至少一个过滤器；所述排放管路与所述过滤装置的排污口相连接，用于排放经所述过滤装置过滤后产生的残液；所述润湿管路一端与所述排放管路相连接，用于对备用过滤器进行预润湿。

可选地，所述过滤装置包括一个过滤器，所述过滤器包括进液口、出液口及排污口，所述过滤器的进液口、出液口及排污口与所述过滤装置的进液口、出液口及排污口一一对应。

在另一可选方案中，所述过滤装置包括第一过滤器和第二过滤器，所述第一过滤器和所述第二过滤器均包括进液口、出液口及排污口，所述第一过滤器的进液口与所述过滤装置的进液口相对应，所述第一过滤器的出液口与所述第二过滤器的进液口相连接，所述第二过滤器的排污口与所述排放管路相连接。

在一可选方案中，所述润湿管路的另一端与所述排放管路相连接，所述备用过滤器连接于所述润湿管路上。

可选地，所述润湿管路上设置有过滤器支架，用于放置所述备用过滤器。

可选地，所述润湿管路上设置有阀门，所述阀门设置于所述润湿管路与所述排放管路相邻的一端。

可选地，所述过滤器润湿系统还包括回收容器，所述回收容器与所述排放管路相连接，用于回收所述排放管路排放的残液。

更可选地，所述过滤器润湿系统还包括延时器，所述延时器与所述阀门相连接，用于在经设定的时间后将所述阀门关闭。

在另一可选方案中，所述润湿管路的另一端与所述回收容器相连接。

本实用新型还提供一种供液系统，所述供液系统包括供液管路、过滤装置、喷涂装置、排放管路及润湿管路，所述供液管路一端连接至液体供给源；所述过滤装置包括进液口、出液口及排污口，所述过滤装置的进液口与所述供液管路远离所述液体供给源的一端相连接，所述过滤装置用于过滤所述供液管路中的液体含有的杂质；所述喷涂装置与所述过滤装置的出液口相连接，用于将过滤后的液体喷涂至基底上；所述排放管路与所述过滤装置的排污口相连接，用于排放经所述过滤装置过滤后产生的残液；所述润湿管路一端与所述排放管路相连接，用于对备用过滤器进行预润湿。

可选地，所述过滤装置包括一个过滤器，所述过滤器包括进液口、出液口及排污口，所述过滤器的进液口、出液口及排污口与所述过滤装置的进液口、出液口及排污口一一对应。

在另一可选方案中，所述过滤装置包括第一过滤器和第二过滤器，所述第一过滤器和所述第二过滤器均包括进液口、出液口及排污口，所述第一过滤器的进液口与所述供液管路远离所述液体供给源的一端相连接，所述第一过滤器的出液口与所述第二过滤器的进液口相连接，所述第二过滤器的出液口与所述喷涂装置相连接，所述第二过滤器的排污口与所述排放管路相连接。

可选地，所述润湿管路的另一端与所述排放管路相连接，所述备用过滤器连接于所述润湿管路上。

可选地，所述润湿管路上设置有过滤器支架，用于放置所述备用过滤器。

可选地，所述润湿管路上设置有阀门，所述阀门设置于所述润湿管路与所述排放管路相邻的一端。

可选地，所述供液系统还包括回收容器，所述回收容器与所述排放管路相连接，用于回收所述排放管路排放的残液。

可选地，所述供液系统还包括稳压泵，所述稳压泵连接于所述第一过滤器和所述第二过滤器之间，用于将所述第一过滤器过滤后的液体以稳定功率输出至所述第二过滤器内。

可选地，所述供液系统还包括延时器，所述延时器与所述阀门相连接，用于在经设定的时间后将所述阀门关闭。

可选地，所述润湿管路的另一端与所述回收容器相连接。

可选地，所述供液系统还包括储存容器，所述储存容器连接于所述液体供给源和所述过滤装置之间的所述供液管路上，所述储存容器用于储存所述液体供给源供给的液体。

如上所述，本实用新型的过滤器润湿系统及供液系统，具有以下有益效果：本实用新型的过滤器润湿系统及供液系统可以在正常的供液过程中进行备用过滤器的预润湿而无需占用设备的工作时段，因而可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

附图说明

图1及图2显示为本实用新型的实施例一的过滤器润湿系统的结构示意图。

图3显示为本实用新型的实施例二的供液系统的结构示意图。

图4显示为本实用新型的实施例三的供液系统的结构示意图。

元件标号说明

11 供液管路

12 液体供给源

13 过滤装置

131 第一过滤器

132 第二过滤器

14 喷涂装置

15 润湿管路

16，24 排放管路

17 过滤器支架

18 阀门

19 回收容器

20 稳压泵

21 延时器

22 储存容器

31 备用过滤器

41 液压泵

42 质量流量计

43 液压计

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。

请参阅图1至图4。需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，虽图示中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局形态也可能更为复杂。

实施例一

图1及图2显示为本实用新型实施例一的过滤器润湿系统的结构示意图。如图1及图2所示，

所述过滤器润湿系统包括过滤装置13、排放管路16及润湿管路15，所述过滤装置13包括至少一个过滤器；所述排放管路16与所述过滤装置13的排污口相连接，用于排放经所述过滤装置13过滤后产生的残液；所述润湿管路15一端与所述排放管路16相连接，用于对备用过滤器31进行预润湿。本实用新型的过滤器润湿系统利用排放管路16上的残液进行备用过滤器31的预润湿，可以在正常的供液过程中进行备用过滤器31的预润湿而无需占用设备的工作时段，因而可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

作为示例，所述过滤装置13的进液口通常连接至供液管路，以对来自供液管路的液体进行过滤，而过滤后产生的残液则经所述排放管路16排放，本实用新型则利用此残液对备用过滤器31进行预润湿，因为半导体制造厂光刻工艺段使用的各类有机溶剂，包括光刻胶、丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)、六甲基二硅胺(HMDS)及二甲苯等，主要存在的杂质就是气泡，因而所述排放管路16主要是为了排放液体中的气泡，而这个气泡包含光阻本身存在的气泡及因过滤器产生的气泡，但在排放气泡的过程中气泡上不可避免地会带出一定量的液体，因而过滤后产生含气泡的液体，该液体经所述排放管路16排放，可以用来进行备用过滤器31的预润湿。所述过滤装置13的出液口通常连接至设备使用端，比如一喷涂装置14，对此将在本说明书的其他实施例中做进一步说明。即经所述过滤装置13过滤后产生的残液只是因含气泡而不适合光刻涂布工艺而已，其除气泡外含其他的杂质很少，因而用来对备用过滤器31进行预润湿可以无需担心对备用过滤器31造成污染。

在一示例中，所述润湿管路15的另一端与所述排放管路16相连接，所述备用过滤器31连接于所述润湿管路15上。当然，在其他示例中，所述润湿管路15的另一端也可以直接与厂务的排污系统相连接或者连接至其他回收装置，对此将在后文继续提及。

备用过滤器31既可以直接连接于所述润湿管路15上，也可以在所述润湿管路15上设置过滤器支架17，用于放置所述备用过滤器31，通过设置所述过滤器支架17以便于备用过滤器31的安装和取放。在安装有所述过滤器支架17的情况下，如果不需要进行预润湿作业时，可以在所述过滤器支架17上安装伪过滤器(dummy filter)以防止漏液。所述润湿管路15可以不止一条，或者在同一所述润湿管路15上可以同时进行多个所述备用过滤器31的预润湿，本实施例中不做严格限制。

作为示例，所述润湿管路15上设置有阀门18，所述阀门18设置于所述润湿管路15与所述排放管路16相邻的一端，以在需要进行备用过滤器31的预润湿时，打开所述阀门18即可。当然，所述阀门18可以不止一个，比如在放置有备用过滤器31的情况下，于所述备用过滤器31的两侧各安装一个阀门18，两个所述阀门18可以是同一类型，比如都是自动开关阀，此时可以设置与其中一个所述阀门18相连接的延时器21，比如将所述延时器21与相邻于所述备用过滤器31的进液口的所述阀门18相连接，以在经过预定的时间后将所述阀门18关闭，以停止预润湿作业。所述预定的时间通常是所述备用过滤器31所需的预润湿时间，该时间通常在所述备用过滤器31出厂时确定。当然，与所述备用过滤器31的进液口相邻的所述阀门18也可以选用手动阀，由工作人员根据需要打开或关闭以进行预润湿作业，而相应的另一侧的阀门18则可以选择自动开关阀，本实施例中不做严格限制。

所示排放管路16的残液除流经所述润湿管路15以用于所述备用过滤器31的预润湿作业外，余下的残液可以直接连接至厂务的排污系统进行无害化处理后排放。当然，也可以如本实施例中所示，于所述供液系统中设置回收容器19，所述回收容器19与所述排放管路16相连接，用于回收所述排放管路16排放的残液，回收后的残液可以回收利用，极大节约资源，降低生产成本。所述润湿管路15的另一端同样可以与所述回收容器19相连接。

如图1所示，在一示例中，所述过滤装置13包括一个过滤器，所述过滤器包括进液口、出液口及排污口，所述过滤器的进液口、出液口及排污口与所述过滤装置13的进液口、出液口及排污口一一对应。

如图2所示，在另一示例中，所述过滤装置13包括第一过滤器131和第二过滤器132，所述第一过滤器131和所述第二过滤器132均包括进液口、出液口及排污口，所述第一过滤器131的进液口与所述过滤装置13的进液口相对应，所述第一过滤器131的出液口与所述第二过滤器132的进液口相连接，所述第二过滤器132的排污口与所述排放管路16相连接。在所述过滤装置13包括所述第一过滤器131和所述第二过滤器132的情况下，所述第一过滤器131的进液口连接至供液管路，所述第一过滤器131的排污口既可以连接至厂务的排污系统，也可以连接至回收装置或者在所述第一过滤器131的排放管路上也可以设置所述润湿管路15。当然，所述过滤装置13还可以包括3个或3个以上更多个过滤器，或者所述过滤装置13还可以为其他任何可以过滤的装置，本实施例中不做严格限制。

本实用新型的过滤器润湿系统可以用于润湿任何需要预润湿的过滤器，特别是光刻胶、丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)、六甲基二硅胺(HMDS)及二甲苯等各类有机溶剂，尤其是各类疏水性有机溶剂的过滤器的润湿，这类疏水性有机溶剂对应使用的疏水性材质的过滤器在使用前需进行预润湿，且预润湿过程通常长达数小时甚至数十小时。采用本实用新型的过滤器润湿系统可以在正常的供液过程中进行备用过滤器的预润湿而无需占用设备的工作时段，因而可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

实施例二

图3显示为本实用新型实施例二的供液系统的结构示意图，如图3所示，所述供液系统包括供液管路11、过滤装置13、喷涂装置14、排放管路16及润湿管路15，所述供液管路11一端连接至液体供给源12；所述过滤装置13包括进液口、出液口及排污口，所述过滤装置13的进液口与所述供液管路11远离所述液体供给源12的一端相连接，所述过滤装置13用于过滤所述供液管路11中的液体含有的杂质；所述喷涂装置14与所述过滤装置13的出液口相连接，用于将过滤后的液体喷涂至基底上；所述排放管路16与所述过滤装置13的排污口相连接，用于排放经所述过滤装置13过滤后产生的残液；所述润湿管路15一端与所述排放管路16相连接，用于对备用过滤器31进行预润湿。本实用新型的供液系统，通过设置与排放管路相连接的润湿管路以利用排放管路中的残液对备用过滤器进行预润湿，可以在正常的供液过程中进行备用过滤器的预润湿而无需占用设备的工作时段，因而可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

作为示例，所述液体供给源12包括光刻胶、丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)、六甲基二硅胺(HMDS)及二甲苯等各类有机溶剂，尤其是各类疏水性有机溶剂，这类疏水性有机溶剂对应使用的疏水性材质的过滤器在使用前需进行预润湿，只有经过充分预润湿的过滤器才能用于过滤。因为如果过滤器不经润湿或润湿不充分就会产生气泡，气泡的产生一方面会造成喷涂系统的压力不稳定，另一方面气泡随光阻喷涂到基底表面会导致光刻图形缺陷，影响产品良率，所以对此类疏水性材质的过滤器在使用前进行预润湿非常重要。但预润湿过程通常长达数小时甚至数十小时。现有技术中都是利用供液系统的供液管路11进行预润湿作业，预润湿作业过程中供液系统无法进行正常的供液使得光刻设备不得不停机，导致设备产出率极大下降、生产成本上升，而本实用新型对此类问题提出了改善对策。

所述过滤装置13用于对所述供液管路11中的液体含有的杂质进行过滤，该杂质主要包括气泡和颗粒杂质，在光刻胶液体中尤其以气泡居多，气泡会导致光刻胶涂布不均匀，而不均匀的光刻胶涂布会导致转移图形质量下降甚至图形转移完全失败，而通过所述过滤装置13可以有效去除气泡，当然，所述过滤装置13在去除气泡之类的杂质过程中，杂质上会不可避免地带出一些液体，因而过滤之后会产生残液，该含气泡的残液经所述排放管路16排出。即经所述过滤装置13过滤后产生的残液只是因含气泡而不适合光刻涂布工艺而已，其除气泡外含其他的杂质很少，因而用来对备用过滤器31进行预润湿可以无需担心对备用过滤器31造成污染。本实施例中，作为示例，所述过滤装置13包括一个过滤器，所述过滤器包括进液口、出液口及排污口，所述过滤器的进液口、出液口及排污口与所述过滤装置13的进液口、出液口及排污口一一对应，即在只有一个过滤器的情况下，所述过滤器就等同于所述过滤装置13，因而两者的进液口、出液口及排污口是完全一致的。所述过滤器优选空气过滤器，且根据不同的工艺需要可以选用不同规格。

所述喷涂装置14可以包含一个或多个喷嘴，且在与所述喷涂装置14相邻的管路上设置质量流量计42，以确保所述喷涂装置14喷涂的液体量符合工艺要求，同时还可以设置阀门18以在需要时开启喷涂液体的供应。

所述润湿管路15的一端与所述排放管路16相连接，而另一端可以直接连接至厂务端的排污系统或者如本实施例中所示与所述排放管路16相连接，即所述润湿管路15的两端都与所述排放管路16相连接，而所述备用过滤器31连接于所述润湿管路15上。所述备用过滤器31既可以根据需要直接连接于所述润湿管路15中，在预润湿完成后从所述润湿管路15拆除即可，也可以在润湿管路15上安装过滤器支架17以专门放置所述备用过滤器31，因而所述备用过滤器31可以很方便地安装或拆除。在安装有所述过滤器支架17的情况下，如果不需要进行预润湿作业时，可以在所述过滤器支架17上安装伪过滤器(dummy filter)以防止漏液。所述润湿管路15可以不止一条，或者在同一所述润湿管路15上可以同时进行多个所述备用过滤器31的预润湿，本实施例中不做严格限制。

作为示例，可以在所述润湿管路15上设置阀门18，所述阀门18设置于所述润湿管路15与所述排放管路16相邻的一端，且还可以在所述备用过滤器31的两端各安装一个阀门18，两个所述阀门18可以是同一类型，比如都是自动开关阀，此时可以设置与其中一个所述阀门18相连接的延时器21，比如将所述延时器21与相邻于所述备用过滤器31的进液口的所述阀门18相连接，以在经过预定的时间后将所述阀门18关闭，以停止预润湿作业。所述预定的时间通常是所述备用过滤器31所需的预润湿时间，该时间通常在所述备用过滤器31出厂时确定。当然，与所述备用过滤器31的进液口相邻的所述阀门18也可以选用手动阀，由工作人员根据需要打开或关闭以进行预润湿作业，而相应的另一侧的阀门18则可以选择自动开关阀，本实施例中不做严格限制。

所示排放管路16的残液除流经所述润湿管路15以用于所述备用过滤器31的预润湿作业外，余下的残液可以直接连接至厂务的排污系统进行无害化处理后排放。当然，也可以如本实施例中所示，于所述供液系统中设置回收容器19，所述回收容器19与所述排放管路16相连接，用于回收所述排放管路16排放的残液，回收后的残液可以回收利用，极大节约资源，降低生产成本。所述润湿管路15的另一端同样可以与所述回收容器19相连接。

所述供液系统既可以将所述液体供给源12的液体直接输送至所述喷涂装置14，也可以如本实施例中所示设置一储存容器22，所述储存容器22连接于所述液体供给源12和所述过滤装置13之间的所述供液管路11上，所述储存容器22用于储存所述液体供给源12供给的液体，利用所述储存容器22对来自所述液体供给源12的液体进行缓冲存储，可以避免因所述液体供给源12的供应不稳定影响喷涂作业。在所述液体供给源12和所述储存容器22之间的所述供液管路11上可以设置液压泵41，用于将所述液体供给源12中的液体供应至所述储存容器22中，还可以在所述供液管路11上设置质量流量计42，用于对所述供液管路11中的液体质量流量进行计量，还可以设置与所述储存容器22相连接的液压计43，以对所述储存容器22中的液体压力进行计量，因而在所述储存容器22中的液体量不足时，可以及时开启所述液压泵41以向所述储存容器22中补给液体，也可以将所述液压计43和所述液压泵41相连接，以在所述液压计43检测到所述储存容器22中的液体量不足时自动开启所述液压泵41进行液体的补给。所述储存容器22上还可以设置一排放管路24，于所述排放管路24上还可以设置一阀门18，以在液体出现品质问题时或在工艺更换需要更换液体时将所述储存容器22中的液体进行排放并对所述储存容器22进行清洗。采用本实施例的供液系统，可以在正常的供液过程中同时进行备用过滤器31的预润湿，因而可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

实施例三

图4显示为本实用新型实施例三的供液系统的结构示意图，如图3所示，本实施例中的供液系统的具体结构与实施例二中所述的供液系统的具体结构大致相同，二者的区别在于：实施例一中所述过滤装置13仅包括一个所述过滤器，而本实施例中所述过滤装置13包括第一过滤器131和第二过滤器132，所述第一过滤器131和所述第二过滤器132均包括进液口、出液口及排污口，所述第一过滤器131的进液口与所述供液管路11远离所述液体供给源12的一端相连接，所述第一过滤器131的出液口与所述第二过滤器132的进液口相连接，所述第二过滤器132的出液口与所述喷涂装置14相连接，所述第二过滤器132的排污口与所述排放管路16相连接。所述第一过滤器131和所述第二过滤器132的型号可以相同也可以不相同，优选不同，且优选所述第二过滤器132的过滤等级高于所述第一过滤器131的过滤等级，以进一步提高过滤效果。通过所述第一过滤器131和所述第二过滤器132对液体进行双重过滤，可以有效提高过滤效果，确保过滤后的液体的纯度，有利于生产良率的提高。在设置有所述第一过滤器131和所述第二过滤器132的情况下，还可以设置连接于所述第一过滤器131和所述第二过滤器132之间的稳压泵20，用于将所述第一过滤器131过滤后的液体以稳定功率输出至所述第二过滤器132内，以保证最终供应至所述喷涂装置14的液体的液压稳定，保证喷涂工艺的稳定进行。在设置有所述稳压泵20的情况下，即便所述第一过滤器131和所述第二过滤器132的距离较长也无妨，比如将所述第一过滤器131设置在靠近厂务端的化学供给房而将所述第二过滤器132设置在靠近工艺生产端，比如靠近所述喷涂装置14，在满足厂内的布局优化的情况下可以确保供应至所述喷涂装置14的液体量满足工艺要求。在安装有所述第一过滤器131和所述第二过滤器132的情况下，优选将所述润湿管路15设置于与所述第二过滤器132的排放管路16相连接，因为经所述第二过滤器132过滤后排放的残液纯净度更高，有利于减小对所述备用过滤器31的污染。所述排放管路16可以连接至所述回收容器19，所述润湿管路15的一端与所述排放管路16相连接，另一端既可以同样连接至所述排放管路16，也可以直接连接至所述回收容器19，或者连接至厂务端的排污系统进行无害化处理后排放，本实施例中不做严格限制。而所述第一过滤器131的排污口可以直接连接至厂务端的排污系统，也可以和所述第二过滤器132连接至同一所述回收容器19或者连接至其他单独的回收容器，本实施例中不做严格限制。考虑到现有的光刻胶供应纯度都非常高，因而光刻胶中含有的杂质基本以气泡为主，故根据需要同样可以设置与所述第一过滤器131的排污口相连接的润湿管路15以对所述备用过滤器31进行预润湿，具体的设置方式与前述内容相同，此处不再赘述。此外，根据需要，所述过滤装置13包含的过滤器的数量还可以为3个或3个以上，3个或3个以上的所述过滤器依次相连接以对供应的液体进行层层过滤，提高过滤等级，且相应地在相邻的每两个所述过滤器之间还可以设置所述稳压泵20，以将前一所述过滤器过滤后的液体以稳定的功率输送至下一个所述过滤器，直至最后一个所述过滤器将充分过滤净化后的液体输送至所述喷涂装置14中。在有3个或3个以上所述过滤器的情况下，除与所述喷涂装置14直接相连的所述过滤器的排放管路16可以设置所述润湿管路15，其他所述过滤器的排污口既可直接连接至厂务端的排污系统，也可以连接至同一个或不同的回收装置，本实施例中不做严格限制。本实施例中未提及的其他结构均与实施例二中相同，具体请参阅实施例二，出于简洁的目的此处不再赘述。

综上所述，本实用新型提供一种过滤器润湿系统及供液系统，所述过滤器润湿系统包括过滤装置、排放管路及润湿管路。所述供液系统包括供液管路、过滤装置、喷涂装置、排放管路及润湿管路，所述供液管路一端连接至液体供给源；所述过滤装置包括进液口、出液口及排污口，所述过滤装置的进液口与所述供液管路远离所述液体供给源的一端相连接，所述过滤装置用于过滤所述供液管路中的液体含有的杂质；所述喷涂装置与所述过滤装置的出液口相连接，用于将过滤后的液体喷涂至基底上；所述排放管路与所述过滤装置的排污口相连接，用于排放经所述过滤装置过滤后产生的残液；所述润湿管路一端与所述排放管路相连接，用于对备用过滤器进行预润湿。本实用新型的过滤器润湿系统及供液系统利用排放管路上的残液进行备用过滤器的润湿，可以在正常的供液过程中进行备用过滤器的预润湿而无需占用设备的工作时段，因而可以有效节约设备的停机时间，提高设备产出率，降低生产成本。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。