一种用于化工废气催化的填料装置的制作方法

文档序号:18921267发布日期:2019-10-19 03:37阅读:138来源:国知局
一种用于化工废气催化的填料装置的制作方法

本实用新型涉及化工废气处理技术领域,具体为一种用于化工废气催化的填料装置。



背景技术:

催化填料装置是化工生产过中常见的废气处理方式之一,其通过液体与气体在反应塔内与催化填料层的接触以完成废气的处理。现有的催化填料装置往往使得液体与气体自由运动并完成接触;然而,由于液体与气体在未加以干预状态下具有一定的方向性,其往往难以均匀接触,致使反应效果受到影响。为解决以上问题,本实用提供了一种用于化工废气催化的填料装置。

在中国实用新型专利申请公开说明书CN 205145977 U中公开的化工行业废气的催化填料装置,该废气的催化填料装置,虽然改善了液体、气体以及填料之间的接触面积,进而使得其反应效果得以改善,但是,该废气的催化填料装置,难以将液体和气体混合均匀,反应效果不明显,不利于推广使用。



技术实现要素:

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种用于化工废气催化的填料装置,解决了现有的废气填料装置反应效果差的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:

一种用于化工废气催化的填料装置,包括反应塔,所述反应塔的顶部一端固定连接有进液管,所述进液管的顶部另一端固定连接有出气管,所述反应塔的底部一端固定连接有进气管,所述反应塔的底部另一端固定连接有出液管;

所述反应塔的内腔顶端固定连接有分流块,所述分流块的上端开设有锥形槽,所述分流块的中部开设有分流孔,所述反应塔的内腔中部设有搅拌装置,所述反应塔的内腔底端固定连接有第一扰流板和第二扰流板,所述第一扰流板和第二扰流板上均开设有扰流孔;

所述搅拌装置包括填料箱、第一固定座和第二固定座,所述第一固定座有两个,两个第一固定座位于填料箱的两端,所述第二固定座有两个,两个第二固定座位于填料箱的两侧,所述第一固定座和第二固定座均与反应塔固定连接。

可选的,所述填料箱的一端固定连接有第一转轴,所述第一转轴与第一固定座活动连接,所述填料箱的另一端固定连接有第二转轴,所述第二转轴的一端贯穿反应塔并固定连接有变速齿轮,所述变速齿轮的下方设有电机;

所述填料箱包括固定盘和固定环,所述填料箱的内部设有填料。

可选的,所述电机的底端固定连接有支撑座,所述支撑座与反应塔固定连接,所述电机上固定连接有齿轮,所述变速齿轮与电机上的齿轮啮合连接。

可选的,所述第一固定座的边缘处开设有环形滑槽,所述环形滑槽内贴合连接有环形滑块,所述环形滑块的一端与填料箱固定连接。

可选的,所述第一扰流板位于第二扰流板的上方,所述扰流孔呈倾斜状,所述第一扰流板上的扰流孔与第二扰流板上的扰流孔呈反向交错排列。

可选的,所述第二固定座的内侧呈弧形,所述第二固定座与填料箱贴合连接。

可选的,所述固定环的表面开设有通孔,所述填料内设有西塔环。

可选的,所述第一转轴和第二转轴均通过轴承与第一固定座活动连接。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种用于化工废气催化的填料装置,具备以下有益效果:

(1)该用于化工废气催化的填料装置,通过设置进液管、出气管、进气管和出液管,达到了气液单向交叉流通的效果,增加了气液的反应速率,通过设置搅拌装置,能够使气液分布的更加均匀,反应更加充分,提高了气液的催化效率,增加了填料装置的工作效率。

(2)该用于化工废气催化的填料装置,通过设置分流块,能够提高气液的接触面积,达到了良好的反应效果,通过设置第一扰流板和第二扰流板,能够使气体均匀分布,增加了气液与液体的接触面积,提高了反应速率,改善了催化效果。

附图说明

图1为本实用新型结构的主视示意图;

图2为本实用新型结构的剖面示意图;

图3为本实用新型搅拌装置结构的剖面示意图;

图4为本实用新型第二固定座结构的示意图。

图中:1-反应塔、2-进液管、3-出气管、4-进气管、5-出液管、6-分流块、7-锥形槽、8-分流孔、9-搅拌装置、10-第一扰流板、11-第二扰流板、12-扰流孔、13-填料箱、14-第一固定座、15-第二固定座、16-固定盘、17-固定环、18-填料、19-第一转轴、20-第二转轴、21-变速齿轮、22-电机、23-支撑座、24-环形滑槽、25-环形滑块、26-轴承。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;可以是机械连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。

请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:

一种用于化工废气催化的填料装置,包括反应塔1,反应塔1的顶部一端固定连接有进液管2,进液管2的顶部另一端固定连接有出气管3,反应塔1的底部一端固定连接有进气管4,反应塔1的底部另一端固定连接有出液管5,通过设置进液管2、出气管3、进气管4和出液管5,达到了气液单向交叉流通的效果,增加了气液的反应速率;

反应塔1的内腔顶端固定连接有分流块6,分流块6的上端开设有锥形槽7,分流块6的中部开设有分流孔8,通过设置分流块6,能够提高气液的接触面积,达到了良好的反应效果,反应塔1的内腔中部设有搅拌装置9,反应塔1的内腔底端固定连接有第一扰流板10和第二扰流板11,第一扰流板10和第二扰流板11上均开设有扰流孔12,通过设置第一扰流板10和第二扰流板11,能够使气体均匀分布,增加了气液与液体的接触面积,提高了反应速率,改善了催化效果;

搅拌装置9包括填料箱13、第一固定座14和第二固定座15,第一固定座14有两个,两个第一固定座14位于填料箱13的两端,第二固定座15有两个,两个第二固定座15位于填料箱13的两侧,第一固定座14和第二固定座15均与反应塔1固定连接,通过设置搅拌装置,能够使气液分布的更加均匀,反应更加充分,提高了气液的催化效率,增加了填料装置的工作效率;

填料箱13的一端固定连接有第一转轴19,第一转轴19与第一固定座14活动连接,填料箱13的另一端固定连接有第二转轴20,第二转轴20的一端贯穿反应塔1并固定连接有变速齿轮21,变速齿轮21的下方设有电机22;

填料箱13包括固定盘16和固定环,填料箱13的内部设有填料18。

作为本实用新型的一种可选技术方案:

电机22的底端固定连接有支撑座23,支撑座23与反应塔1固定连接,电机22上固定连接有齿轮,变速齿轮21与电机22上的齿轮啮合连接。

作为本实用新型的一种可选技术方案:

第一固定座14的边缘处开设有环形滑槽24,环形滑槽24内贴合连接有环形滑块25,环形滑块25的一端与填料箱13固定连接,通过设置环形滑槽24和环形滑块25,既为填料箱13提供了活动轨道,起到了支撑作用,又达到了密封作用。

作为本实用新型的一种可选技术方案:

第一扰流板10位于第二扰流板11的上方,扰流孔12呈倾斜状,第一扰流板10上的扰流孔12与第二扰流板11上的扰流孔12呈反向交错排列,通过这样设置,提高了气液的反应效率,增加了填料装置的工作效率。

作为本实用新型的一种可选技术方案:

第二固定座15的内侧呈弧形,第二固定座15与填料箱13贴合连接。

作为本实用新型的一种可选技术方案:

固定环17的表面开设有通孔,填料18内设有西塔环,西塔环一种新型的实验填料,广泛应用于实验室及小批量、高纯度产品的分离过程,它能达到精馏、过滤,耐腐、耐酸、耐高温,由金属丝网制成的环状填料,直径与高度相等,结构简单、工艺简化、成本低、节能环保。

作为本实用新型的一种可选技术方案:

第一转轴19和第二转轴20均通过轴承26与第一固定座14活动连接。

该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接,并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。

综上所述,该用于化工废气催化的填料装置,使用时,首先将化工废气由进气管4通入到反应塔1内,再将催化液由进液管2通入到反应塔1内,然后打开电机22,电机22通过变速齿轮21带动第二转轴20旋转,第二转轴20通过带动填料箱13旋转,化工废气首先经过第二扰流板11和第一扰流板10,然后进入到填料箱13内,再经过分流块6后从出气管3排出,催化液首先经过分流块6,然后进入到填料箱13内,再经过第一扰流板10和第二扰流板11后从出液管5排出,在气液流动时,达到了充分的接触,化工废气得到的充分的催化。

需要说明的是,在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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