技术总结
本实用新型属于半导体封装制造领域，具体涉及一种简易高洁净度操作台，包括洁净室，所述洁净室的室顶设有风机过滤机组，所述洁净室内设有点玻机梳料操作台、净风系统，所述净风系统包括风机、预过滤器、静压箱、过滤器、出风面，所述风机与所述预过滤器连接，所述预过滤器与所述静压箱连接，所述静压箱与所述过滤器连接，所述净风系统一端的外表面为出风面，所述净风系统的出风面面向点玻机梳料操作台的台面，本实用新型通过过在点玻机梳料操作台面增加净风系统，操作简单、低噪声、维护少、震动小、可调速，操作台面的洁净度从原10万级降低到现5万级，进一步减少了污染，提高了产品整体电性良率。电性良率。电性良率。
技术研发人员：汪良恩 杨华 朱京江 查扬
受保护的技术使用者：安徽安美半导体有限公司
技术研发日：2020.06.30
技术公布日：2021/4/17