一种简易高洁净度操作台的制作方法

1.本实用新型属于半导体封装制造技术领域，具体涉及一种简易高洁净度操作台。


背景技术：

2.半导体主要就是把原件集成到一个极其微小的硅片上，制造环境中的灰尘对于原件来说是一个非常庞大的物体，如果环境中存在灰尘，会毁掉晶体管原件，因此必须做到生产环境极其清洁。
3.在半导体器件的生产过程中，制程品质控制中对洁净室的洁净度要求是其中一项。传统方法是在室内屋顶增加ffu风机过滤机组，风机从ffu顶部将空气吸入并经过滤器过滤，过滤后的洁净空气在整个出风面以一定的风速匀速送出,为洁净室提供高质量的洁净空气，但存在局部空间或工作操作台地方净化不充分。


技术实现要素：

4.本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种简易高洁净度操作台，在原有屋顶已有风机过滤机组的情况下，通过设计在点玻机梳料操作台面增加净风系统，进一步净化梳料操作台面空气，减少污染，保持高度洁净状态，提高产品电性良率。
5.本实用新型所采取的技术方案是：一种简易高洁净度操作台，包括洁净室，所述洁净室的室顶设有风机过滤机组，所述洁净室内设有点玻机梳料操作台、净风系统，所述净风系统包括风机、预过滤器、静压箱、过滤器、出风面，所述风机与所述预过滤器连接，所述预过滤器与所述静压箱连接，所述静压箱与所述过滤器连接，所述净风系统一端的外表面为出风面，所述净风系统的出风面面向点玻机梳料操作台的台面。
6.进一步地，所述点玻机梳料操作台包括台面、台柱、底座，所述台面底部两边各设有台柱，所述台柱与所述底座连接。
7.进一步地，所述台面表面下端设有凹槽。
8.进一步地，所述靠近净风系统的台柱的高度大于另一边台柱。
9.进一步地，所述台面上设有均匀分布的孔洞。
10.进一步地，所述孔洞直径大小为3mm-5mm。
11.本实用新型的有益效果是：风机过滤机组净化了室内空气后，通过在点玻机梳料操作台面增加净风系统，增强了操作台面的洁净度，进一步减少了污染，提高了产品整体电性良率，静压箱不仅减少了噪声产生，而且使得震动小，台柱一边高一边低，使吹出的灰尘由于重量和风力滚到台面表面下端，积累到凹槽内，便于打扫。
附图说明
12.图1为本实用新型的结构示意图；
13.图2为本实用新型的侧视图。
具体实施方式
14.下面结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。
15.实施例1
16.如图1和图2所示的一种简易高洁净度操作台，包括洁净室1，所述洁净室1的室顶设有风机过滤机组2，所述洁净室1内设有点玻机梳料操作台3、净风系统4，所述净风系统4包括风机41、预过滤器42、静压箱43、过滤器44、出风面45，所述风机41与所述预过滤器42连接，所述预过滤器42与所述静压箱43连接，所述静压箱43与所述过滤器44连接，所述净风系统4一端的外表面为出风面45，所述净风系统4的出风面45面向点玻机梳料操作台3的台面31。
17.所述点玻机梳料操作台1包括台面31、台柱32、底座33，所述台面31底部两边各设有台柱32，所述台柱32与所述底座33连接。
18.所述台面31表面下端设有凹槽34，将灰尘集中到一起，以便清理。
19.所述靠近净风系统4的台柱32的高度大于另一边台柱32，使灰尘更容易流入凹槽34内。
20.所述台面31上设有均匀分布的孔洞35，所述孔洞35直径大小为3mm-5mm，方便放置半导体元件，使半导体元件可以固定住。
21.本实施例的工作过程是：打开风机过滤机组2，将室外空气过滤后通入室内，打开净风系统4，通过风机41将空气吸入预过滤器42，经由静压箱43进入过滤器44过滤，将过滤后的空气以水平气流的状态送到出风面45，将半导体元件的一端插入孔洞35之中，将可能存在的灰尘被吹到台面31上的凹槽34内，当净风结束后，清扫凹槽34，将灰尘清理干净以备下次使用。
22.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。