1.一种用于电镀添加剂的稀释装置，包括搅拌箱(1)，其特征在于：所述搅拌箱(1)顶部设有若干组支撑杆(2)，且若干组支撑杆(2)顶部连接有两组原料箱(3)，每组所述原料箱(3)顶部均设有入料口(4)，每组所述原料箱(3)内壁均设有两组加热器(5)，且每组加热器(5)表面均设有加热板(6)，每组所述原料箱(3)底部均设有出料管(7)，且出料管(7)内壁设有两组伸缩器(8)，每组所述伸缩器(8)的内壁均设有伸缩杆(9)，所述伸缩杆(9)远离伸缩器(8)的一端连接有密封门(10)。
2.根据权利要求1所述的一种用于电镀添加剂的稀释装置，其特征在于：所述搅拌箱(1)内部设有若干组ph值检测器(11)，且每组ph值检测器(11)表面均设有检测探头(12)，所述搅拌箱(1)两侧内壁设有两组固定座(13)，且每组固定座(13)表面均设有旋转电机(14)，所述旋转电机(14)表面连接有旋转轴(15)，且旋转轴(15)表面设有若干组搅拌棒(16)。
3.根据权利要求1所述的一种用于电镀添加剂的稀释装置，其特征在于：所述搅拌箱(1)底部内壁设有导流板(17)，且导流板(17)中部设有导流口(18)，所述导流口(18)底部设有出料口(19)，且出料口(19)一侧外壁设有阀门(20)。
4.根据权利要求1所述的一种用于电镀添加剂的稀释装置，其特征在于：每组所述加热器(5)底部均设有线路(21)，且线路(21)远离每组加热器(5)的一端设有控制器(22)，所述控制器(22)表面设有显示屏(23)，且显示屏(23)下方设有两组控制按钮(24)。
5.根据权利要求1所述的一种用于电镀添加剂的稀释装置，其特征在于：所述搅拌箱(1)外壁设有稳定圈(25)，且稳定圈(25)两侧底部设有两组支撑柱(26)，每组所述支撑柱(26)底部均连接有底板(27)。