技术特征：
1.一种等离子设备，其特征在于，所述等离子设备包括：等离子发生组件，所述等离子发生组件包括两个等离子电极，两个所述等离子电极间隔设置，且两个所述等离子电极之间的空间形成为等离子腔，两个所述等离子电极的一侧边之间的间隔形成与所述等离子腔连通的进气口；气流引导结构，所述气流引导结构上开设有至少两个分流孔，各个所述分流孔间隔设置，所述气流引导结构设置于所述进气口处，以使所述分流孔与所述等离子腔连通；及进气组件，所述进气组件设置于所述气流引导结构背向于所述等离子腔的一侧，所述进气组件能够通过所述分流孔进气至所述等离子腔。2.根据权利要求1所述的等离子设备，其特征在于，所述气流引导结构设置于两个所述等离子电极之间，且所述气流引导结构朝向所述等离子电极的一侧与该等离子电极之间具有间距。3.根据权利要求2所述的等离子设备，其特征在于，所述进气组件包括至少两个进气管道，至少两个所述进气管道设置于所述气流引导结构背向于所述等离子腔的一侧，且其中至少一所述进气管道对位于所述气流引导结构与一所述等离子电极之间的间隙，至少另一所述进气管道对位于所述气流引导结构与另一所述等离子电极之间的间隙。4.根据权利要求1所述的等离子设备，其特征在于，所述分流孔的数量为多个，多个所述分流孔间隔排列，且多个所述分流孔的排列方向与一所述等离子电极朝向另一所述等离子电极的方向相交。5.根据权利要求4所述的等离子设备，其特征在于，所述分流孔的尺寸与该分流孔所在位置的气流流速呈负相关关系。6.根据权利要求4所述的等离子设备，其特征在于，各个所述分流孔在所述气流引导结构上的分布密度与所述分流孔所在位置的气流流速呈负相关关系。7.根据权利要求1-6任一项所述的等离子设备，其特征在于，所述气流引导结构朝向所述进气组件的表面为光滑平面或光滑弧面。8.根据权利要求1-6任一项所述的等离子设备，其特征在于，还包括置料框架，所述置料框架设置于所述等离子腔内并与所述等离子电极间隔设置，所述置料框架内形成有置料插槽，所述置料插槽贯穿所述置料框架朝向所述进气口的一侧形成连通口，所述气流引导结构设置于所述置料框架的连通口上，并覆盖所述连通口，以使所述分流孔与所述置料插槽连通。9.根据权利要求8所述的等离子设备，其特征在于，所述连通口的尺寸大于所述分流孔的尺寸。10.根据权利要求1-6任一项所述的等离子设备，其特征在于，还包括等离子箱体，所述等离子电极设置于所述等离子箱体内，所述进气口形成于所述等离子腔的顶壁，所述进气组件设置所述等离子箱体的顶壁上。
技术总结
本实用新型涉及一种等离子设备，等离子设备包括等离子发生组件、气流引导结构及进气组件，等离子发生组件包括两个等离子电极。两个间隔设置的等离子电极形成等离子腔，以使等离子腔能够形成等离子场。当进气组件通过进气口进气至等离子腔内，实现气体在等离子腔内的电离，形成等离子气体。由于气流引导结构设置于进气口处，气流引导结构上的分流孔与等离子腔连通，进而进气组件通过气流引导结构进气至等离子腔内时，需要经过分流孔的引流。利用气流引导结构上的分流孔，实现对进气组件喷出的气流的引导引流作用，进而便于使得气流通过分流孔后能够更加均匀地分布于等离子腔内，提高等离子体的产生效率，进而提高等离子体处理的效率。率。率。
技术研发人员：吕尚亿 梁冠雄 丁雪苗 赵芝强 赵公魄
受保护的技术使用者：珠海宝丰堂电子科技有限公司
技术研发日：2021.10.20
技术公布日：2022/5/10