一种高比表面积钡化合物制备装置的制作方法

1.本发明涉及钡化合物制备技术领域，更具体地说，涉及一种高比表面积钡化合物制备装置。


背景技术：

2.钡化合物在工业上有着广泛的应用，在钡化合物的实际应用中，比表面积越高的钡化合物，所产生的效果更佳，钡化合物的比表面积越大，说明细度越细，在现有的制备装置中，根据钡化合物的种类不同，需要多种制备装置，难以应对多种钡化合物的制备工作，在常规的制备装置中，原料的反应不充分、聚集反应等，均会对所得钡化合物的比表面积产生影响。因此，有必要提供一种高比表面积钡化合物制备装置，以解决上述背景技术中提出的问题。


技术实现要素：

3.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高比表面积钡化合物制备装置，包括：
4.机架，承载工作设备；
5.驱动装置，固定在机架上，为制备装置运行提供动力；
6.传动装置，设置在驱动装置顶部，固定在机架上，与驱动装置固定连接；
7.反应釜，固定在传动装置上方；
8.原料输送装置，与反应釜可转动连接。
9.进一步的，作为优选，所述电机，固定在机架上，为制备装置提供动力来源；
10.传动轴，竖直设置，与电机固定连接，与传动装置固定连接，与反应釜可转动连接，在电机的带动下，进行转动，进而带动传动装置进行转动；
11.延长轴，设置在传动轴上方，跟随传动轴进行转动。
12.进一步的，作为优选，所述传动装置包括：
13.中心齿轮，固定在传动轴底部，与反应釜底部可转动连接，在传动轴的带动下进行转动；
14.环绕齿轮，环形分布设置有多个，与中心齿轮相啮合，可转动固定在反应釜底部，在中心齿轮的带动下进行转动；
15.齿圈，与环形齿轮相啮合，在中心齿轮带动下，向与中心齿轮相反的转动反向转动；
16.固定连杆，连接各环绕齿轮中心，与环绕齿轮可转动连接，与反应釜底部固定连接，且所述固定连杆固定在机架上，对各环绕齿轮进行限位，同时对反应釜进行支撑。
17.进一步的，作为优选，所述外筒，底部与传动装置的齿圈固定连接，顶部与原料输送装置可转动连接，在传动装置的带动下，外筒跟随齿圈进行转动；
18.圆底，与外筒下方内壁可转动连接，与固定连杆固定连接，圆底始终处于固定状
态。
19.进一步的，作为优选，所述外筒中部内壁上设有环形分布的搅拌页，当外筒在传动装置带动下进行转动时，同时带动搅拌页进行转动，进而带动反应釜内经过分散的原料进行转动混合，且下部分设有单向排气口，在反应中产生气体时，及时排出，避免反应釜内部气压过大，所述圆底上设有排料口，原料经过充分反应后，逐渐落下到圆底上，经排料口排出，经过过滤烘干后，得到高比表面积的钡化合物。
20.进一步的，作为优选，所述原料输送装置包括：
21.固态输送组件，可转动固定在外筒的顶部，且固定在机架上，对固态原料进行进一步的分散研磨，使原材料更加精细；
22.液态输送组件，与固态输送组件固定连接，对液态原料进行分散工作，使原料分散为相对较小的水珠，并甩出；
23.气态输送组件，穿过固态输送组件顶部，部分设置在外筒内部，进行气体输送。
24.进一步的，作为优选，所述固态输送组件包括：
25.圆环斜面，底部可转动固定在外筒顶部，外侧固定在机架上，固态原料经圆环斜面进入固态输送组件内部；
26.内环，顶部固定在圆环斜面的内圈上，原料经圆环斜面进入到内环内；
27.磨碎扇，设置在内环内，与延长轴固定连接，且所述磨碎扇底部与内环底部处于同一水平面，在延长轴的带动下，磨碎扇进行转动，对原料进行分散磨碎工作；
28.磨碎装置，可转动设置在磨碎扇底部，在磨碎扇进行分散磨碎的同时，原料持续落入磨碎装置中。
29.进一步的，作为优选，所述磨碎装置设有上磨片和下磨片，所述上磨片与延长轴可转动连接，与内环底部固定连接，即上磨片和内环处于固定状态，延长轴带动磨碎扇在内环内转动，且上磨片上设有环形分布多个漏口，在磨碎扇的转动下，原料在上磨片顶部进行分散磨碎，同时符合规格的原料经漏口进入到磨碎装置中，所述下磨片与延长轴固定连接，在延长轴带动下进行转动，在上磨片的配合下，对原料进行进一步研磨，并甩出。
30.进一步的，作为优选，所述液态输送组件包括：
31.加压舱，固定在圆环斜面上，对液态原料进行储存，并加压输送；
32.输送管，固定在加压舱底部，穿过延伸轴与传动轴顶端可转动连接，对原料进行持续输送；
33.离心轮，由多个弧形扇叶呈环形分布构成，与搅拌页处于同一水平面，顶部中心固定在下磨片底部，与延长轴固定连接，底部中心与传动轴固定连接，在电机带动下，传动轴带动离心轮进行转动，进而带动延长轴和下磨片转动，进而带动磨碎扇进行转动。
34.进一步的，作为优选，所述输送管与离心轮相对应部分的两侧设有多个竖直分布的圆孔，在加压舱的作用下，原料经圆孔喷出，此时离心轮处于持续转动状态，进而对喷出原料进行收集打散，再甩出，与上方磨碎装置甩出的原料进行反应，同时在外筒内壁上搅拌页的转动作用下充分混合反应。
35.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
36.本发明中，通过原料输送装置的设置，根据原料的物理状态进行输送，适用于多种原料的混合反应，实现多种方式制备钡化合物，提高工作效率。
37.本发明中，通过各输送组件的设置，对原料进行分散，降低原料个体体积，使原材料充分混合，进行小范围反应，避免出现混合不均匀，以及聚集反应的出现，得到钡化合物更加精细，比表面积更高。
附图说明
38.图1为一种高比表面积钡化合物制备装置的整体结构示意图；
39.图2为一种高比表面积钡化合物制备装置中原料输送装置结构示意图；
40.图3为一种高比表面积钡化合物制备装置中传动装置结构示意图；
41.图4为一种高比表面积钡化合物制备装置中输送组件俯视图；
42.图中：1、机架；2、驱动装置；3、传动装置；4、反应釜；5、原料输送装置；21、电机；22、传动轴；23、延长轴；31、中心齿轮；32、环绕齿轮；33、齿圈；34、固定连杆；41、外筒；42、圆底；51、固态输送组件；52、液态输送组件；53、气态输送组件；411、搅拌叶；412、单向排气口；511、圆环斜面；512、内环；513、磨碎扇；514、磨碎装置；521、加压舱；522、输送管；523、离心轮；5141、上磨片；5142、下磨片；5143、漏孔；5221、圆孔。
具体实施方式
43.请参阅图1～4，本发明实施例中，一种高比表面积钡化合物制备装置，包括：
44.机架1，承载工作设备；
45.驱动装置2，固定在机架1上，为制备装置运行提供动力；
46.传动装置3，设置在驱动装置2顶部，固定在机架1上，与驱动装置2固定连接；
47.反应釜4，固定在传动装置3上方；
48.原料输送装置5，与反应釜4可转动连接。
49.本实施例中，所述驱动装置2包括：
50.电机21，固定在机架1上，为制备装置提供动力来源；
51.传动轴22，竖直设置，与电机21固定连接，与传动装置3固定连接，与反应釜4可转动连接，在电机21的带动下，进行转动，进而带动传动装置3进行转动；
52.延长轴23，设置在传动轴22上方，跟随传动轴22进行转动。
53.本实施例中，所述传动装置3包括：
54.中心齿轮31，固定在传动轴22底部，与反应釜4底部可转动连接，在传动轴22的带动下进行转动；
55.环绕齿轮32，环形分布设置有多个，与中心齿轮31相啮合，可转动固定在反应釜4底部，在中心齿轮31的带动下进行转动；
56.齿圈33，与环形齿轮32相啮合，在中心齿轮31带动下，向与中心齿轮31相反的转动反向转动；
57.固定连杆34，连接各环绕齿轮32中心，与环绕齿轮32可转动连接，与反应釜4底部固定连接，且所述固定连杆34固定在机架1上，对各环绕齿轮32进行限位，同时对反应釜4进行支撑。
58.本实施例中，所述反应釜4包括：
59.外筒41，底部与传动装置3的齿圈33固定连接，顶部与原料输送装置5可转动连接，
在传动装置3的带动下，外筒41跟随齿圈33进行转动；
60.圆底42，与外筒41下方内壁可转动连接，与固定连杆34固定连接，圆底42始终处于固定状态。
61.本实施例中，所述外筒41中部内壁上设有环形分布的搅拌页411，当外筒41在传动装置3带动下进行转动时，同时带动搅拌页411进行转动，进而带动反应釜4内经过分散的原料进行转动混合，且下部分设有单向排气口412，在反应中产生气体时，及时排出，避免反应釜4内部气压过大，所述圆底42上设有排料口，原料经过充分反应后，逐渐落下到圆底42上，经排料口排出，经过过滤烘干后，得到高比表面积的钡化合物。
62.本实施例中，所述原料输送装置5包括：
63.固态输送组件51，可转动固定在外筒41的顶部，且固定在机架1上，对固态原料进行进一步的分散研磨，使原材料更加精细；
64.液态输送组件52，与固态输送组件51固定连接，对液态原料进行分散工作，使原料分散为相对较小的水珠，并甩出；
65.气态输送组件53，穿过固态输送组件51顶部，部分设置在外筒41内部，进行气体输送。
66.本实施例中，所述固态输送组件51包括：
67.圆环斜面511，底部可转动固定在外筒41顶部，外侧固定在机架1上，固态原料经圆环斜面511进入固态输送组件51内部；
68.内环512，顶部固定在圆环斜面511的内圈上，原料经圆环斜面511进入到内环512内；
69.磨碎扇513，设置在内环512内，与延长轴23固定连接，且所述磨碎扇513底部与内环512底部处于同一水平面，在延长轴23的带动下，磨碎扇513进行转动，对原料进行分散磨碎工作；
70.磨碎装置514，可转动设置在磨碎扇513底部，在磨碎扇513进行分散磨碎的同时，原料持续落入磨碎装置514中。
71.本实施例中，所述磨碎装置514设有上磨片5141和下磨片5142，所述上磨片5141与延长轴23可转动连接，与内环512底部固定连接，即上磨片5141和内环512处于固定状态，延长轴23带动磨碎扇513在内环512内转动，且上磨片5141上设有环形分布多个漏口5143，在磨碎扇513的转动下，原料在上磨片5141顶部进行分散磨碎，同时符合规格的原料经漏口5143进入到磨碎装置514中，所述下磨片5142与延长轴23固定连接，在延长轴23带动下进行转动，在上磨片5141的配合下，对原料进行进一步研磨，并甩出。
72.本实施例中，所述液态输送组件52包括：
73.加压舱521，固定在圆环斜面511上，对液态原料进行储存，并加压输送；
74.输送管522，固定在加压舱521底部，穿过延伸轴23与传动轴22顶端可转动连接，对原料进行持续输送；
75.离心轮523，由多个弧形扇叶呈环形分布构成，与搅拌页411处于同一水平面，顶部中心固定在下磨片5142底部，与延长轴23固定连接，底部中心与传动轴22固定连接，在电机21带动下，传动轴22带动离心轮523进行转动，进而带动延长轴23和下磨片5142转动，进而带动磨碎扇513进行转动。
76.本实施例中，所述输送管522与离心轮523相对应部分的两侧设有多个竖直分布的圆孔5221，在加压舱521的作用下，原料经圆孔5221喷出，此时离心轮523处于持续转动状态，进而对喷出原料进行收集打散，再甩出，与上方磨碎装置514甩出的原料进行反应，同时在外筒41内壁上搅拌页411的转动作用下充分混合反应。
77.具体实施时，根据所制备的钡化合物准备原料，根据原料的物理状态，自不同的输送组件输送到反应釜4中，进行制备时，电机21运行，带动传动轴22转动，进而带动整体制备装置运行，固态原料经圆环斜面511进入到内环512中，在磨碎扇513和上磨片5141的配合下，对原料进行初步磨碎，进而原料通过漏孔5143进入到磨碎装置514中，在下磨片5142的持续转动下进行再次磨碎并甩出，液态原料在加压舱521的作用下，经输送管522上圆孔5221喷出，进而进入到持续转动的离心轮523中，在离心轮523的作用下进行打散甩出，气态原料自圆环斜面511顶部的气态输送组件53持续输入反应釜4中，在传动轴22和延长轴23的作用下，固态和液态原料在同向转动下甩出进反应，气态原料在气态输送组件53作用下保持向下运动，进而参与反应，同时在传动装置3带动下，外筒41带动搅拌页411向与传动轴22相反的转动反向转动，进而对甩出的细小原料进行反向带动，使原料进行充分混合反应，得到化合物进行下落，经圆底42上的排料口排出，经过过滤烘干后，得到高比表面积的钡化合物。
78.以上所述的，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。