一种加压型篮式分散研磨设备的制作方法

1.本实用新型涉及分散研磨设备技术领域，特别是涉及一种加压型篮式分散研磨设备。


背景技术：

2.篮式研磨机工作原理为自吸叶轮高速吸料
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研磨篮内极细的研磨
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分散盘高速旋转产生分散、混合、循环效应
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由此形成吸料、研磨、出料的高效率循环，解决了物料翻动的难题，避免循环死角，短时间内可得到出色的研磨效果的机器，适用于小批量生产(换色容易)，预分散和研磨可在容器内完成。主轴可以调速，运转平稳，噪音小，附属设备少，清洗方便，更换研磨介质容易。
3.在现有技术中，篮式研磨机是在常压条件下对物料进行分散研磨搅拌，导致篮式研磨机生产效率较低，且物料混合不均匀。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于克服篮式研磨机生产效率较低，且物料混合不均匀的问题，提供一种加压型篮式研磨设备。
5.一种加压型篮式分散研磨设备，包括：
6.底座；所述底座上表面通过抬升装置可升降地设置有支撑臂；
7.转动升降部；所述转动升降部设置在支撑臂的右端；所述转动升降部包括转动装置和导向杆组；
8.所述支撑臂的右端底部通过导向杆组设置有研磨篮，所述研磨篮内部设置有腔体；所述导向杆组上可滑动地设置有密封盖；
9.所述支撑臂的右端底部还设置有升降气缸组，所述升降气缸组的输出端与密封盖上表面固定连接，驱动密封盖上下移动；
10.所述转动装置包括电机和驱动轴，所述电机安装在支撑臂的上表面；所述驱动轴一端与电机的输出端相连接，驱动轴的另一端依次穿过支撑臂、密封盖，并在腔体内套接设置有分散研磨件；
11.所述分散研磨件包括第一分散盘、第二分散盘和研磨盘，其中第一分散盘设置在分散研磨件的上端；所述研磨盘设置在分散研磨件的下端；所述第二分散盘设置在第一分散盘与研磨盘之间；
12.容器；所述容器可取放地设置在研磨篮的下方。
13.优选的技术方案：所述抬升装置为升降油缸。
14.优选的技术方案：所述底座上表面还设有支撑杆；所述支撑杆与支撑臂左端相连接。
15.优选的技术方案：所述支撑臂左端向外延伸有限位部；所述支撑杆内部开设有限位滑槽；所述限位部通过抬升装置滑动设置在限位滑槽内。
16.优选的技术方案：所述密封盖直径与容器内部直径一致；所述密封盖侧边设有与容器内部相抵的橡胶层。
17.优选的技术方案：所述研磨盘侧边与腔体内壁相抵，且相抵处设有多个研磨块。
18.优选的技术方案：所述第二分散盘直径大于第一分散盘直径。
19.优选的技术方案：所述第一分散盘与第二分散盘外周均设有上分散齿与下分散齿；所述上分散齿与下分散齿交错设置。
20.本实用新型的有益效果是：
21.1、通过设置第一分散盘与第二分散盘的重叠设置，使得物料能够在容器内快速进行分散搅拌，使得物料能够快速充分混合。
22.2、通过设置密封盖橡胶圈与容器内壁紧密相抵，并通过升降杆组向下推送，使得容器内部形成高压状态，对物料进行高压分散研磨搅拌，有效地增加了物料的混合效果与生产效率。
附图说明
23.图1为本实用新型的立体结构示意图；
24.图2为本实用新型的整体主视结构示意图；
25.图3为本实用新型的俯视结构示意图；
26.图4为本实用新型的分散研磨部剖视结构示意图；
27.图5为a部放大示意图；
28.图6为本实用新型的第一分散盘结构立体示意图；
29.图7为本实用新型的密封盖整体结构示意图。
30.图中附图如下所示：底座1、抬升装置2、支撑臂11、支撑杆12、限位部111、限位滑槽121、转动升降部3、转动装置31、电机311、驱动轴312、导向杆组32、研磨篮4、腔体41、密封盖5、升降气缸组6、分散研磨件7、第一分散盘71、第二分散盘72、研磨盘73、上分散齿74、下分散齿75、容器8、研磨块9。
具体实施方式
31.以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。
32.需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
33.实施例1
34.如图1～7所示，
35.一种加压型篮式分散研磨设备，包括：
36.底座1；所述底座1上表面通过抬升装置2可升降地设置有支撑臂11；所述抬升装置2为升降油缸。所述底座1上表面还设有支撑杆12；所述支撑杆12与支撑臂11左端相连接。所述支撑臂11左端向外延伸有限位部111；所述支撑杆12内部开设有限位滑槽121；所述限位部通过抬升装置2滑动设置在限位滑槽121内。
37.上述方案中，支撑臂11通过升降油缸在底座1上进行升降活动，并通过支撑杆12的限位滑槽121与支撑臂11的限位部111的配合，使得支撑臂11能够在右端安装有转动升降部3与分散研磨件7的情况下，保持支撑臂11的稳定性与平衡性。有效地保障了篮式分散研磨设备的长期使用性。
38.转动升降部3；所述转动升降部3设置在支撑臂11的右端；所述转动升降部3包括转动装置31、导向杆组32；
39.所述支撑臂11的右端底部通过导向杆组32设置有研磨篮4，所述研磨篮4内部设置有腔体41；所述导向杆组32上可滑动地设置有密封盖5；所述密封盖5直径与容器8内部直径一致；所述密封盖5侧边设有与容器8内部相抵的橡胶层。
40.上述方案中，导向杆的作用是对研磨篮4进行固定，还能对密封盖5提供导向作用；密封盖5的直径与容器8内部直径一致，使得密封盖5能够顺利的进入容器8内部，并形成密封；而橡胶层则是为密封性提供保障。
41.所述支撑臂11的右端底部还设置有升降气缸组6，所述升降气缸组6的输出端与密封盖5上表面固定连接，驱动密封盖5上下移动；
42.上述方案中，升降气缸组6是有多两个升降气缸组6成的，升降气缸的工作源能够听过外接压缩空气设备进行提供；升降气缸固定在支撑臂11的下表面，输出端与密封盖5的上表面固定；驱动升降气缸时，将使得密封盖5向下移动，并进入容器8内部形成密封；在升降气缸的持续相依推送时，容器8内部将于密封盖5形成高压状态，使得物料之间的间隙减小，提高物料的混合效率。
43.所述转动装置31包括电机311和驱动轴312，所述电机311安装在支撑臂11的上表面；所述驱动轴312一端与电机311的输出端相连接，驱动轴312的另一端依次穿过支撑臂11、密封盖5，并在腔体41内套接设置有分散研磨件7；
44.上述方案中，电机311用于对驱动轴312进行转动；驱动轴312带动第一分散盘71、第二分散盘72、研磨盘73进行转动，对容器8内部的物料提供分散与研磨效果。
45.所述分散研磨件7包括第一分散盘71、第二分散盘72和研磨盘73，其中第一分散盘71设置在分散研磨件7的上端；所述研磨盘73设置在分散研磨件7的下端；所述第二分散盘72设置在第一分散盘71与研磨盘73之间；所述研磨盘73侧边与腔体41内壁相抵，且相抵处设有多个研磨块9。所述第二分散盘72直径大于第一分散盘71直径。所述第一分散盘71与第二分散盘72外周均设有上分散齿74与下分散齿75；所述上分散齿74与下分散齿75交错设置。
46.上述方案中，分散研磨件7的作用是对物料进行分散、研磨、搅拌、混合等操作的部件；通过一分散盘与第二分散盘72的高速转动作用，将容器8内的物料进行转动，并在边缘位置产生涡流，使得物料容器8内部形成旋涡，将物料吸引至研磨篮4内部；并通过第一分散盘71与第二分散盘72边缘的上分散齿74与下分散齿75，对物料进行剪切、混合、循环等效果，并持续对物料进行翻动，有效地增加了分散研磨设备的研磨效果；通过第二分散盘72的
物料将在持续吸料的作用下，进入研磨盘73与研磨篮4之间的研磨块9的空隙内，通过研磨块9的相互挤压摩擦，对物料进行再次研磨；有效地增加了物料的研磨效果。
47.容器8；所述容器8可取放地设置在研磨篮4的下方。
48.容器8是圆柱形桶装物体，通常是容纳需要进行分散研磨处理的物料；通过分散研磨件7在容器8内对物料进行分散研磨处理，并方便工作人员对物料进行搬运与使用。
49.本实用新型的工作原理如下：
50.工作人员首先启动提升装置，使得支撑臂11通过升降油缸的带动，向上提升；分散研磨件7的高度提升至比容器8高度高时，将容器8推放置分散研磨件7的正下方，并使得容器8能够顺利与密封盖5进行安装。
51.将物料倾倒入容器8内部，关闭提升装置，使得提升装置泄压，并带动支撑臂11向下移动，使得分散研磨件7进入容器8内部，并在研磨篮4底部距离容器8底部15-20cm高度时停止，避免研磨篮4与分散研磨件7无法工作。
52.启动转动装置31，使得电机311带动驱动轴312进行转动，驱动轴312将会带动第一分散盘71、第二分散盘72、研磨盘73进行转动，对容器8内的物料进行分散、研磨、搅拌、混合处理；研磨盘73侧边与腔体41内壁相抵的位置的研磨块9将在驱动轴312的带动下，将会快速转动挤压，使得经过研磨盘73的物料，将会在研磨块9的挤压下进行快速研磨。
53.再启动升降气缸组6，使得密封盖5通过导向杆向下移动，并缓慢进入容器8内部，使得容器8内部形成密封条件；并在升降气缸组6的持续向下推送下，密封盖5将继续向下移动，使得容器8内部在密封盖5的挤压下形成高压状态，对容器8内部的物料提供较大气压的压力，使得物料的密度得到提升，并在分散研磨件7的分散研磨处理下，进行快速的研磨分散处理。
54.以上所述实施例仅表达了本实用新型的具体实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。