本申请涉及半导体制造,具体涉及一种自清洁废气排出装置。
背景技术:
1、晶圆在涂胶显影等加工工艺中,会产生大量的废气,而这些废气往往包含许多胶质(如光刻胶、hmds等),这些胶质会在排出的过程中粘结在管路中,长此以往,会将管路堵塞,影响废气的排出,从而影响工艺效率。
技术实现思路
1、有鉴于此,本说明书实施例提供一种自清洁废气排出装置,提升了废气排出效率,实现了自动清洁效果,进而提高了工艺效率。
2、本说明书实施例提供以下技术方案:
3、所述自清洁废气排出装置,包括排气管路、至少一个进气口和至少一个冷凝管,所述冷凝管紧贴所述排气管路内壁或外壁设置,所述冷凝管包括进水口和出水口。
4、在一些实施例中,所述冷凝管设于所述排气管路内壁。
5、在一些实施例中,所述冷凝管设于所述排气管路内壁,所述进水口、所述出水口均设于所述排气管路外壁。
6、在一些实施例中,所述排气管路上还设有至少一个密封板。
7、在一些实施例中,所述密封板可拆卸固定于所述排气管路的开口上。
8、在一些实施例中,所述进气口连通至废气产生装置,所述冷凝管的进水口通入工业循环冷却水。
9、与现有技术相比,本说明书实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到的有益效果至少包括:
10、通过排气管路内通入或吸入废气时,同时通过进水口通入冷却水,然后流经紧贴排气管路内壁或外壁设置的冷凝管,当高温废气遇到冷却水,由于冷凝效应气体中的各类胶质会吸附在冷凝管表面,从气体排出口排出的气体便不会含有胶质,保护与气体排出口相连接的下游管路,避免包含排气管路在内的整个管路被废气的胶质堵塞,从而提升了废气排出效率,实现了自动清洁效果,进而能够提高工艺效率。
1.一种自清洁废气排出装置,其特征在于,包括排气管路(1)、至少一个进气口(11)和至少一个冷凝管(2),所述冷凝管(2)紧贴所述排气管路(1)内壁或外壁设置,所述冷凝管(2)包括进水口(21)和出水口(22),所述排气管路(1)上还设有至少一个密封板(3),所述密封板(3)可拆卸固定于所述排气管路(1)的开口上。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述冷凝管(2)设于所述排气管路(1)内壁。
3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述冷凝管(2)设于所述排气管路(1)内壁,所述进水口(21)、所述出水口(22)均设于所述排气管路(1)外壁。
4.根据权利要求1至3任一项所述的装置,其特征在于,所述进气口(11)连通至废气产生装置,所述冷凝管(2)的所述进水口(21)通入工业循环冷却水。