一种可调式反应釜及其控制方法与流程

本发明属于反应釜，尤其涉及一种可调式反应釜及其控制方法。

背景技术：

1、在食品、医药、化工等行业的中反应釜是一种常见的生产设备；而反应釜的广义理解即有物理或化学反应的，根据不同的工艺条件需求进行容器的与参数配置，设计条件、过程、检验及制造、验收需依据相关，以实现的加热、蒸发、冷却及低高速的混配反应功能。尤其是相关化工及制药行业中，是用来完成硫化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的容器。而反应釜大部分都包括釜体及釜体内部的搅拌叶及冷却或加热系统，通过搅拌叶进行原料混合搅拌并通过冷却或加热对釜体内的温度进行控制，为原料提供良好的反应条件；而在原料反应不同阶段下的反应效果受混合的均匀度及温度的影响；其中原料的混合均匀度受与搅拌的速度、搅拌叶有直接的关系，同时搅拌效果不理想又导致釜体内的原料加热或冷却不均匀；但是传统的反应釜内参与混合搅拌的数量搅拌叶固定，从而在搅拌速度及冷却或加热系统的工作数据均在理想数值时还是会对混合效果及加热或冷却的效果带来影响。

技术实现思路

1、本发明的目的是针对上述存在的技术问题，提供一种结构简单且能根据反应的不同阶段调节进行搅拌的搅拌叶的数量，从而保证混合与加热或冷却的效果及均匀。

2、有鉴于此，本发明提供一种可调式反应釜，包括：

3、釜体，釜体的上端带有可开启的釜盖，釜体的底部一侧设在有出料口，釜盖上端的一侧设置有进料口；

4、驱动电机，釜体底部设置有驱动电机，驱动电机的电机轴延伸入釜体内；

5、驱动轴，驱动轴位于釜体内，且与驱动电机的电机轴固定连接；

6、温控组件，所述的温控组件包括加热与冷却盘管，加热与冷却盘管盘绕在釜体的内壁处，搅拌轴同轴设置在温控组件的中部；

7、搅拌组件，若干搅拌组件等距设置在驱动轴上，且搅拌组件包括安置套筒及若干按圆周均匀分布在安置套筒外壁的搅拌叶；

8、调节支撑组件，若干调节支撑组件等距分布在驱动轴上，且与搅拌组件交替分布；

9、下压调节机构，在釜盖的中部设置有朝下设置的下压调节机构，下压调节机构与位于驱动轴最上部的调节支撑组件相抵；

10、上旋转配合机构，在驱动轴最上部的调节支撑组件上设置有与下压配合组均配合的上旋转配合机构；

11、其中驱动轴的截面呈正多边形，安置套筒中部设置有与驱动轴相适配的正多边形的轴孔，且调节支撑组件及搅拌组件均与驱动轴滑动配合。

12、在上述技术方案中，进一步的，调节支撑组件包括：

13、上支撑盘，上支撑盘为圆形，在上支撑盘的下端形成有与其同轴设置的上限位部，且在上支撑盘上设置有贯穿上限位部的上限位孔，上限位孔为与驱动轴滑动配合的正多边形孔；

14、下支撑盘，下支撑盘为圆形，位于上支撑盘的下侧，在下支撑盘的上端形成有与其同轴设置的下限位部，且上限位部与下限位部相对设置，并在下支撑盘上设置有贯穿下限位部的下限位孔，下限位孔为与驱动轴滑动配合的正多边形孔；

15、中间保持架，在上支撑盘与下支撑盘之间设置有其连接与支撑作用的中间保持架；

16、外支撑架，在上支撑盘与下支撑盘之间设置有若干按圆周均匀分布的外支撑架。

17、在上述技术方案中，进一步的，中间保持架包括：

18、内支撑环，内支撑环与上限位部及下限位部同轴设置且套设在驱动轴上；

19、内支撑架，在内支撑环上设置有若干按圆周均匀分布的内支撑架，且内支撑架与外支撑架交替分布；

20、其中内支撑架包括：

21、支撑杆，在内支撑环外侧设置有与内支撑环垂直设置且与内支撑环处在同一平面上的支撑杆；

22、浮动筒，在支撑杆上均套设有一个与支撑杆滑动配合的浮动筒；

23、上连杆，在浮动筒的上侧均设置有一个上连杆，上连杆的一端与浮动筒的上侧旋转连接，另一端与上支撑盘的下端旋转连接，且上连杆从内支撑环向上支撑盘方向呈向外倾斜；

24、下连杆，在浮动筒的下侧设置有一个下连杆，下连杆的一端与浮动筒的下侧旋转连接，另一端与下支撑盘的上端旋转连接，且下连杆从内支撑环向下支撑盘方向呈向外倾斜；

25、外限位块，在支撑杆的端部设置有外限位块，外限位块与浮筒的一端相抵；

26、内支撑弹簧，在支撑杆上套设有内支撑弹簧，内支撑弹簧的一端与浮动筒的另一端相抵，内支撑弹簧的另一端与内支撑环相抵。

27、在上述技术方案中，进一步的，外支撑架包括：

28、上支撑套筒，在上限位部的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的上支撑孔，每个上支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭端的上支撑套筒，且封闭端朝远离上支撑孔的方向设置；

29、下支撑套筒，在下限位部的侧壁上设置有若干按圆周均匀分布的下支撑孔，每个下支撑孔上均螺纹连接有一个一端呈封闭状端的下支撑套筒；且封闭端朝远离下支撑孔的方向设置；

30、上伸缩杆，在上支撑套筒的封闭端中部设置有贯穿的上通孔，上通孔上设置有滑动配合的上伸缩杆，且上伸缩杆位于上支撑套筒内的一端形成有防止脱离上通孔的上支撑块，上伸缩杆远离上支撑套筒的一侧形成有上旋转卡接块；

31、下伸缩杆，在下支撑套筒的封闭端中部设置有贯穿的下通孔，下通孔上设置有滑动配合的下伸缩杆，且下伸缩杆位于下支撑套筒内的一端形成有防止脱离上通孔的下支撑块，下伸缩杆远离下支撑套筒的一侧形成有下旋转卡接块；

32、弹性支撑架，在上旋转卡接块及下旋转卡接块上设置有其弹性支撑的弹性支撑架；

33、上伸缩弹簧，在上支撑孔内设置有上伸缩弹簧，上伸缩弹簧的一端与上支撑孔底部相抵，另一端与上支撑块相抵；

34、下伸缩弹簧，在下支撑孔内设置有下伸缩弹簧，下伸缩弹簧的一端与下支撑孔底部相抵，另一端与下支撑块相抵。

35、在上述技术方案中，进一步的，弹性支撑架包括：

36、上旋转连接杆，上旋转连接杆的一端形成有与上旋转卡接块旋转配合的上旋转卡接块，且上旋转连接杆的另一端向下且远离下伸缩杆的端部方向倾斜；

37、下旋转连接杆，下旋转连接杆的一端形成有与下旋转卡接块旋转配合的下旋转卡接块，且下旋转连接杆的另一端向上且远离上伸缩杆的端部方向倾斜，且下旋转连接杆的中部与上旋转连接杆的中部交叉并旋转连接呈x型；

38、上连接弹簧，上连接弹簧的一端与上旋转卡接块固定连接，另一端与位于上伸缩杆所在侧的下旋转连接杆的端部固定连接；

39、下连接弹簧，下连接弹簧的一端与下旋转卡接块固定连接，另一端与位于下伸缩杆所在侧的上旋转连接杆的端部固定连接；

40、中间保持杆，中间保持杆的一端垂直设置在上支撑盘或下支撑盘上，另一端向上旋转连接杆与下旋转连接杆的交叉处延伸，并形成有滑槽，滑槽上设置有可上下滑动的销轴，且销轴从上旋转连接杆与下旋转连接杆的交叉处形成有旋转配合孔，销轴穿入旋转配合孔并与其旋转连接。通过中间保持杆的中部开设有供上旋转连接杆及下旋转连接杆安置并对其限位的限位槽。

41、在上述技术方案中，进一步的，下压调节机构包括：

42、上延伸套筒，在釜盖上端中部形成有上延伸套筒，上延伸套筒釜体内部连通；

43、下压驱动缸，下压驱动缸为电动伸缩杆，设置在上延伸套筒上端，且下压驱动缸的驱动端延伸入上延伸套筒内；

44、下压保持架，在下压驱动缸的驱动端上设置有下压保持架，下压保持架呈环柱型镂空状，并位于驱动轴上侧且与驱动轴同轴设置，且下压保持架可套设在驱动轴外；

45、下旋转保持架，在下压保持架的下端设置有下旋转保持架，且下旋转保持架套设在驱动轴的上端；

46、其中下压驱动缸带动下压保持架向驱动轴方向移动，同时带动下旋转保持架向位于驱动轴最上部的调节支撑组件抵去并挤压调节支撑组件，促使调节支撑组件压缩。

47、在上述技术方案中，进一步的，下旋转保持架包括：

48、上保持环，上保持环的上端与下压保持架固定连接，在下保持环的下端形成有旋转配合槽；

49、下保持环，下保持环设置在上保持环下侧的旋转配合槽上；

50、旋转滚珠，在下保持环的两侧与旋转配合槽之间设置有若干均匀分布的可自由滚动的旋转滚珠；

51、其中旋转配合槽从上保持环的端面向内包括依次设置的：

52、外扩槽，外扩槽的截面宽度大于下保持环的宽度，且呈阶梯状；

53、内旋转安置槽，内旋转安置槽的截面宽度小于等于下保持架的截面宽度，且在内旋转安置槽的两侧侧壁分别设置有两个弧状的外侧安置槽；

54、下保持环从配合槽内向外包括依次连接的：

55、上旋转连接部，上旋转连接部位于内旋转安置槽内，且其两侧形成有呈等腰梯形状的配合凸起，上旋转连接部与两侧的配合凸起形成的最大截面宽度小于等于内旋转安置槽的截面宽度，并在每个配合凸起的两个斜边分别上设置有弧状的内侧安置槽，外侧安置槽与内侧安置槽配合形成安置旋转滚珠的槽部；

56、中间缩口部，中间缩口部的截面宽度小于上旋转连接部的截面宽度，且中间缩口部位于外扩槽与内旋转安置槽的连接处上；

57、外接触部，外接触部延伸出外扩槽且外接触部的截面宽度大于上旋转连接部的截面宽度；

58、且下保持环通过下接触部与上旋转配合机构相抵配合。

59、在上述技术方案中，进一步的，上旋转配合机构包括：

60、配合凸环，配合凸环一体成型在驱动轴最上部的调节支撑组件中上支撑盘的上侧端面上，配合凸环与下保持环同轴设置且配合凸环的截面宽度大于下保持环；

61、旋转配合组件，在配合凸环的端面上设置有若干按圆周分布的安置孔，每个安置孔上均设置有一个旋转配合组件；

62、其中旋转配合组件包括：

63、配合底座，配合底座螺纹固定在安置孔上，且配合底座的上端面向内形成有阶梯孔；

64、内配合块，在配合底座没设置有内配合块，且内配合块位于阶梯孔的底部；

65、上滚动接触组件，在内支撑块的上部设置有上滚动接触组件；

66、上旋转限位盖，在配合底座上设置有限位上滚动接触组件的上旋转限位盖。

67、在上述技术方案中，进一步的，上滚动接触组件包括：

68、上摆动接触块，上摆动接触块的侧壁呈球面，且上旋转限位盖上设置有与上摆动接触块滚动配合的球面槽限位槽；

69、上滚动球面槽，在上摆动接触块的上端设置有上削平部，在上削平部向内形成有上滚动球面槽；

70、上滚动组件，上滚动组件设置在上滚动球面槽上，包括上滚动支撑珠、上保持滚球及上限位盖，其中若干上滚动支撑珠设置在上滚动球面槽内壁上且沿上滚动球面槽内壁均匀分布，上保持滚球设置在上滚动球面槽内且与上滚动支撑珠接触且部分延伸出上滚动球面槽，上限位盖设置在上滚动球面槽的上端并限制上保持滚球脱离；

71、下滚动球面槽，在上摆动接触块的下端设置有下削平部，在下削平部向内形成有下滚动球面槽；

72、下滚动组件，下滚动组件设置在下滚动球面槽上，包括下滚动支撑珠、下摆动滚球及下限位盖，其中若干下滚动支撑球设置在下滚动支撑球面槽内壁上且沿下滚动球面槽内壁均匀分布，下摆动滚球设置在下滚动球面槽内、与下滚动支撑珠接触且部分延伸出下滚动球面槽，下限位盖设置在下滚动球面槽上并限制下摆动滚球脱离，内配合块的上端设置有与下摆动滚球螺纹固定的螺纹杆。

73、从而能在上保持环出现局部倾斜时也能对齐进行良好的支撑与接触的效果。

74、在上述技术方案中，进一步的，还包括：

75、控制台，控制台上部设置有触摸屏，控制台的底部内设置有控制柜，控制器内设置有控制器、控制电路及变频器，触摸屏与控制器通讯连接；

76、液位传感器，在釜体内设置有检测釜体内液位的液位传感器，且液位传感器将检测到的数据传送至控制器内；驱动电机及下压驱动缸均有控制器通过变频器控制运行；

77、其中控制器控制可调式反应釜的控制方法包括：

78、搅拌组件数量确定，控制器根据液位传感器检测的到液位计算能产于搅拌的搅拌组件的最大数量后通过触摸屏显示；

79、搅拌模式设定，通过触摸屏向控制器设定搅拌模式，搅拌模式设定包括搅拌阶段数设定、不同阶段参与搅拌的搅拌组件数量设定及不同阶段的持续时间及搅拌轴的转速设定；

80、反应釜运行，控制器控制反应釜运行，在不同阶段通过驱动电机实现搅拌的转速控制；并通过控制下压驱动缸驱动端的伸出距离控制参与搅拌的搅拌组件数量。

81、本发明的有益效果为：

82、1.通过设置调节支撑组件能便于调节相邻的搅拌组件的间距；

83、2.通过设置下压驱动缸为下压驱动组件能更好的进行控制下压的距离；

84、3.设置的下旋转保持架与上旋转配合机构配合能确保运行的稳定。