处理液体的等离子体装置及其使用方法与流程

本发明涉及离子体处理设备，特别涉及一种处理液体的等离子体装置及其使用方法。

背景技术：

1、等离子处理技术是最有效的对表面进行清洗、活化和涂层的处理工艺之一，通过对表面进行物理化学改性，提高表面附着力，可以用于处理各种材料，包括塑料、金属或者玻璃等。因此，应用等离子体技术对固体表面进行处理设备较多，但该技术对液体的穿透能力有限，因而限制了该技术在对大量和流动的液体进行处理技术中的广泛应用。

2、现有技术对液体处理的等离子体装置一般采用鼓泡式处理的方式，鼓泡式处理中，利用高压环境将液体融入液体中，再经转向组件进入低压装置，气体从液体内以气泡状态析出，通过电场的作用，气泡在反应器中形成等离子体区域，等离子体区域中形成有高能量和高温的等离子体，气泡在液体中流动能够使液体与等离子体充分接触和混合，使有机物和污染物发生氧化、裂解、解吸、分解等一系列反应，从而达到降解和去除其中的污染物的目的。

3、但在上述的现有构成的装置中，微小气泡由于在液体内的上升速度不均匀且过快，会使得气泡与液体不能充分接触混合，进而导致液体内气泡分布不均匀，如此会影响后续对液体等离子放电处理的处理效果。

技术实现思路

1、本发明的主要目的是提供一种处理液体的等离子体装置及其使用方法，能够控制气泡的上移速度，使气泡均匀分布在液体内，保障后续对液体等离子放电处理的处理效果。

2、为实现上述目的，本发明提出的一种处理液体的等离子体装置，包括：

3、反应器，所述反应器设有供液体流动的反应腔；

4、微气泡发生单元，所述微气泡发生单元设于所述反应器的下方，且连通所述反应腔，所述微气泡发生装置用于向所述反应腔内提供气泡；以及

5、压气组件，所述压气组件包括压气盘和驱动连接所述压气盘的驱动机构，所述压气盘活动设于所述反应腔内，所述驱动机构用于驱动所述压气盘沿所述反应器的高度方向活动，以控制气泡的流动速度。

6、可选地，所述反应器包括上封板、下封板以及玻璃管罩，所述玻璃管罩的上端连接所述上封板，所述玻璃管罩的下端连接所述下封板，所述上封板、所述下封板以及所述玻璃管罩共同围设形成所述反应腔，所述玻璃管罩靠近所述上封板的一端设有连通所述反应腔的进液管，所述玻璃管罩靠近所述下封板的一端设有连通所述反应腔的排液管。

7、可选地，所述处理液体的等离子体装置还包括等离子体发生单元，所述等离子体发生单元包括设于反应腔内且间隔设置的正电极柱和负电极柱，所述正电极柱和负电极柱其中之一连接所述上封板，另一连接所述下封板。

8、可选地，所述处理液体的等离子体装置包括多个所述等离子体发生单元，多个所述等离子体发生单元间隔设置，相邻的两个所述等离子体发生单元中，其中一个所述等离子体发生单元的所述正电极柱与另一个所述等离子体发生单元的所述负极柱相邻设置。

9、可选地，所述正电极柱和所述负电极柱均沿所述反应器的上下方向延伸设置；

10、所述压气盘上设有多个滑孔，各所述滑孔对应穿设一所述正电极柱或一所述负电极柱。

11、可选地，所述上封板靠近所述玻璃管罩的一侧壁和所述下封板靠近所述玻璃管罩的一侧壁分别形成有上环形槽和下环形槽，所述玻璃管罩的上端和下端分别通过密封圈插接于所述上环形槽内和所述下环形槽内；和/或

12、所述反应器还包括紧固螺栓，所述紧固螺栓的螺杆穿设所述上封板和所述下封板，所述紧固螺栓的两个螺母穿设于所述螺杆上，且分别抵接锁紧于所述上封板和所述下封板相互背离的一侧。

13、可选地，所述驱动机构包括驱动电机、丝杆和丝杆螺母，所述丝杆转动穿设于所述反应器，且伸入所述反应腔内，所述丝杆螺母活动套接于所述丝杆伸入所述反应腔内的一段上，所述驱动电机驱动连接所述丝杆远离所述反应腔的一端；

14、所述压气盘套设于所述丝杆螺母外侧。

15、可选地，所述反应器的底部开设有多个连通所述反应腔的鼓气孔道，多个鼓气孔道间隔设置，所述微气泡发生单元包括：

16、电解盒，所述电解盒的顶部设有出气口；

17、导气罩，所述导气罩连接所述电解盒，所述导气罩形成有导气通道，所述导气通道的进气端连通所述出气口；

18、多孔释放盘，所述多孔释放盘设于所述反应器与所述导气罩之间，所述多孔释放盘设有多个间隔设置的释放孔道，各所述释放孔道的进气端连通所述导气通道的出气端，各所述释放孔道的出气端分别对应连通各所述鼓气孔道；以及

19、多个单向阀，多个所述单向阀对应设于各所述释放孔道内。

20、可选地，所述反应器的顶部开设有多个连通所述反应腔的出气孔道，多个出气孔道间隔设置；

21、所述处理液体的等离子体装置还包括安全气阀和连接所述反应器的排气罩，所述排气罩形成有排气通道，所述排气通道的进气端连通多个所述出气孔道，所述排气通道的出气端设有所述安全气阀，所述安全气阀用于开启或关闭所述排气通道。

22、本发明还提出一种基于上述处理液体的等离子体装置的使用方法，其特征在于，所述使用方法包括以下步骤：

23、将液体导入反应器，当液体填充至预定位置时，停止导入液体；

24、将压气组件的压气盘初始位置调整至靠近所述反应器的底部；

25、启动微气泡发生单元生成气泡，气泡进入所述反应器内；

26、控制驱动机构驱动所述压气盘沿所述反应器的高度方向活动，直至所述压气盘靠近所述反应器的顶部，关闭所述微气泡发生单元停止生成气泡；

27、待放电处理完成一段时间后，将液体排出所述反应器。

28、本发明所提供的处理液体的等离子体装置在进行液体处理时，首先将压气组件的压气盘的初始位置调整至靠近反应器的底部，随后利用设于反应器底部的微小气泡发生单元产生气泡并引入反应器中与液体混合，在微小气泡发生单元产生气泡的过程中，控制驱动机构驱动压气盘沿反应器的高度方向运动，直至所述压气盘靠近所述反应器的顶部，关闭微气泡发生单元停止生成气泡。在压气盘上移的过程中，气泡能够在压气盘的压制作用下缓慢上升，可以增加气泡在液体中的停留时间，以促进气泡能够充分与液体混合均匀，进而保障后续对液体等离子放电处理的处理效果。

技术特征：

1.一种处理液体的等离子体装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述反应器包括上封板、下封板以及玻璃管罩，所述玻璃管罩的上端连接所述上封板，所述玻璃管罩的下端连接所述下封板，所述上封板、所述下封板以及所述玻璃管罩共同围设形成所述反应腔，所述玻璃管罩靠近所述上封板的一端设有连通所述反应腔的进液管，所述玻璃管罩靠近所述下封板的一端设有连通所述反应腔的排液管。

3.如权利要求2所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述处理液体的等离子体装置还包括等离子体发生单元，所述等离子体发生单元包括设于反应腔内且间隔设置的正电极柱和负电极柱，所述正电极柱和负电极柱其中之一连接所述上封板，另一连接所述下封板。

4.如权利要求3所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述处理液体的等离子体装置包括多个所述等离子体发生单元，多个所述等离子体发生单元间隔设置，相邻的两个所述等离子体发生单元中，其中一个所述等离子体发生单元的所述正电极柱与另一个所述等离子体发生单元的所述负极柱相邻设置。

5.如权利要求3所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述正电极柱和所述负电极柱均沿所述反应器的上下方向延伸设置；

6.如权利要求2所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述上封板靠近所述玻璃管罩的一侧壁和所述下封板靠近所述玻璃管罩的一侧壁分别形成有上环形槽和下环形槽，所述玻璃管罩的上端和下端分别通过密封圈插接于所述上环形槽内和所述下环形槽内；和/或

7.如权利要求1至6中任一项所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述驱动机构包括驱动电机、丝杆和丝杆螺母，所述丝杆转动穿设于所述反应器，且伸入所述反应腔内，所述丝杆螺母活动套接于所述丝杆伸入所述反应腔内的一段上，所述驱动电机驱动连接所述丝杆远离所述反应腔的一端；

8.如权利要求1至6中任一项所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述反应器的底部开设有多个连通所述反应腔的鼓气孔道，多个鼓气孔道间隔设置，所述微气泡发生单元包括：

9.如权利要求1至6中任一项所述的处理液体的等离子体装置，其特征在于，所述反应器的顶部开设有多个连通所述反应腔的出气孔道，多个出气孔道间隔设置；

10.一种如权利要求1至9任意一项所述的处理液体的等离子体装置的使用方法，其特征在于，所述使用方法包括以下步骤：

技术总结
本发明公开一种处理液体的等离子体装置及其使用方法，涉及离子体处理设备技术领域，本发明的处理液体的等离子体装置包括反应器、微气泡发生单元以及压气组件，反应器设有供液体流动的反应腔；微气泡发生单元设于反应器的下方，且连通反应腔，微气泡发生装置用于向反应腔内提供气泡；压气组件包括压气盘和驱动连接压气盘的驱动机构，压气盘活动设于反应腔内，驱动机构用于驱动压气盘沿反应器的高度方向活动，以控制气泡的流动速度。本发明能够控制气泡的上移速度，使气泡均匀分布在液体内，保障后续对液体等离子放电处理的处理效果。

技术研发人员：乐卫平,林伟群,刘涛
受保护的技术使用者：深圳市恒运昌真空技术有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15