本发明涉及气体混合,尤其涉及一种半导体用高纯气体混合反应系统。
背景技术:
1、半导体制造过程中可能涉及多种气体之使用,例如:多层薄膜的制造即需要使用多种气体。在制程中不同种类之气体通过混合而供应至晶圆表面进行反应,而气体混合的均匀度可决定晶圆表面沉积的质量。
2、薄膜沉积对成膜均匀性要求很高,这就对进反应腔前的气体混合的均匀性提出了更高的要求,现有的方法一般是将所有气体直接充入混气管内进行混合,但是这样会导致不同成分的气体出现分层状况,无法有效地混合在一起,导致气体混合效果差。
技术实现思路
1、本发明要解决的技术问题是:为了解决现有技术中的技术问题,本发明提供半导体用高纯气体混合反应系统。
2、本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种半导体用高纯气体混合反应系统,包括气体供应件,设有至少两件;微通道反应器,与气体供应件连接,以将不同气体供应件供应的气体混合;管式反应器,与微通道反应器连接,以促进微通道反应器输出的气体的混合。
3、本发明的半导体用高纯气体混合反应系统,气体供应件向微通道反应器供气,通过微通道反应器进行初步混合,再通过管式反应器进行再次混合,结合微流技术,大幅提升气体的混合效果,并通过管式反应器控制气体的混合时间并强化混合效果,继而实现高精度的气体混合。
4、进一步,所述气体供应件包括气源瓶、第一输送管道和设于第一输送管道上的流量控制件,所述第一输送管道的一端与气源瓶连接,另一端与微通道反应器连接。
5、进一步,所述流量控制件采用微小流量控制器。
6、进一步,所述流量控制件包括流量计和控制阀,所述控制阀能够根据流量计反馈的数据调节开度。
7、进一步,所述第一输送管道上设有减压阀,所述减压阀位于气源瓶与流量控制件之间。
8、进一步,所述管式反应器的输出端连接有在线分析仪,所述在线分析仪的输出端连接有第一输出管路和第二输出管路,所述第一输出管路连接有合格品收集件,所述第二输出管路连接有不合格品收集件。
9、进一步,所述第一输出管路和第二输出管路上均设有背压阀。
10、进一步,所述不合格品收集件上连接有反应输出管,以导出不合格气体进行再利用。
11、进一步,所述微通道反应器和管式反应器内均设有换热通道,以对微通道反应器和管式反应器的温度进行控制。
12、进一步,所述管式反应器内的管路采用直管或盘管。
13、本发明的有益效果是,
14、1、气体供应件向微通道反应器供气,通过微通道反应器进行初步混合,再通过管式反应器进行再次混合,结合微流技术,大幅提升气体的混合效果,并通过管式反应器控制气体的混合时间并强化混合效果,继而实现高精度的气体混合;
15、2、通过微小流量控制器的设置,实现多路闭环的控制,利用微小流量控制器的监测加调控,将气体混合精度进一步提高,进而与微通道反应器和管式反应器结合,精确控制气体的混合程度、流动方向和反应速度,实现高纯、高精度、高效的气体混合;
16、3、通过气体分析仪将合格与不合格的混合气体分离,并将不合格的气体再次进行利用,提升利用率,减少浪费。
1.一种半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,包括
2.根据权利要求1所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述气体供应件包括气源瓶(1)、第一输送管道(11)和设于第一输送管道(11)上的流量控制件(13),所述第一输送管道(11)的一端与气源瓶(1)连接,另一端与微通道反应器(2)连接。
3.根据权利要求2所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述流量控制件(13)采用微小流量控制器。
4.根据权利要求2所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述流量控制件(13)包括流量计和控制阀,所述控制阀能够根据流量计反馈的数据调节开度。
5.如权利要求2所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述第一输送管道(11)上设有减压阀(12),所述减压阀(12)位于气源瓶(1)与流量控制件(13)之间。
6.如权利要求1所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述管式反应器(3)的输出端连接有在线分析仪,所述在线分析仪的输出端连接有第一输出管路和第二输出管路,所述第一输出管路连接有合格品收集件(44),所述第二输出管路连接有不合格品收集件(45)。
7.如权利要求6所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述第一输出管路和第二输出管路上均设有背压阀(43)。
8.如权利要求6所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述不合格品收集件(45)上连接有反应输出管(46),以导出不合格气体进行再利用。
9.如权利要求1所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述微通道反应器(2)和管式反应器(3)内均设有换热通道,以对微通道反应器(2)和管式反应器(3)的温度进行控制。
10.如权利要求1所述的半导体用高纯气体混合反应系统,其特征在于,所述管式反应器(3)内的管路采用直管或盘管。