预涂布装置的制作方法

本技术涉及钙钛矿太阳能，具体涉及一种预涂布装置。

背景技术：

1、对于当前在基板吸附平台上的涂布基板(玻璃基板)进行涂布时，涂布刀头首先在涂布基板以外区域完成涂布刀头润湿和清洁动作，然后移动到玻璃基板上方(涂布头距离基板表面间隙一般为50μm-100μm)，将涂布刀头内溶液均匀地涂布到玻璃基板表面，在涂布开始位置，为了形成稳定的膜，开始位置溶液会比较多，随着刀头移动，膜面的起始区域上会拉出一段深浅交错的条纹，条纹目前没办法完全消除，只能通过调节涂布机的机头出液量和涂布速度来适当改善，但改善后条纹长度仍约2cm左右，在一定程度上还是会影响膜面的外观。因此，针对对上述条纹需要寻找便捷有效的解决方案。

技术实现思路

1、本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种预涂布装置。该预涂布装置不仅可有效的消除涂布起始阶段在基板上带来的条纹现象，提高膜的均匀性，且便于预涂布平台表面的清洗以能够重复使用。

2、本实用新型的一个方面，本实用新型公开了一种预涂布装置。根据本实用新型的实施例，该装置包括：

3、预涂布平台；

4、移载台，所述预涂布平台位移调节在所述移载台的上端以使所述预涂布平台的一端靠近或远离涂布基板的一端；

5、旋转组件，所述移载台的下端固定在所述旋转组件上，所述旋转组件可纵向旋转带动所述移载台上下翻转；

6、清洗组件，所述清洗组件设置在所述旋转组件的下方，且用于对翻转朝下状态的所述预涂布平台的已涂布表面进行清洗。

7、根据本实用新型上述实施例的预涂布装置，包括预涂布平台、移载台、旋转组件和清洗组件，预涂布平台位移调节在移载台的上端以使预涂布平台的一端靠近或远离涂布基板的一端，当预涂布平台的一端靠近且紧邻涂布基板的一端，且预涂布平台的上表面和涂布基板的上表面平齐，此时涂布刀从预涂布平台开始涂布，涂布起始阶段的溶液条纹存在在预涂布平台上，从而避免了在涂布基板上出现溶液条纹，提高了膜的质量。移载台的下端固定在旋转组件上，旋转组件可纵向旋转带动移载台上下翻转，当涂布多次后，需要对预涂布平台进行清洗，此时只需要将预涂布平台在移载台上移动，远离涂布基板，且通过旋转组件的纵向旋转，使移载台带动预涂布平台上下翻转，形成一定的水平夹角，清洗组件设置在旋转组件的下方，且用于对翻转朝下状态的预涂布平台的已涂布表面进行清洗，从而使预涂布平台重复利用。由此，该预涂布装置不仅可有效的消除涂布起始阶段在基板上带来的条纹现象，提高膜的均匀性，且便于预涂布平台表面的清洗以能够重复使用。

8、根据本实用新型上述实施例的预涂布装置还可以具有如下技术特征：

9、在本发明的一些实施例中，所述移载台与所述旋转组件之间设置有升降机构，所述升降机构驱动所述移载台相对于所述旋转组件升降调节。由此，可以调节预涂布平台的高度，减小预涂布平台上表面和涂布基板上表面的对接误差。

10、在本发明的一些实施例中，所述预涂布平台靠近所述涂布基板一端包含有匹配型面，且与所述涂布基板靠近所述预涂布平台的一端的轮廓外缘相匹配。由此，提高预涂布平台上表面和涂布基板上表面的对接精度。

11、在本发明的一些实施例中，还包括设置在所述移载台上端的位移调节机构，所述位移调节机构包含有相对于所述涂布基板远近位移调节的调节座，且所述预涂布平台设置在所述调节座上。由此，通过位移调节机构使得预涂布平台相对于涂布基板进行远近间距调节。

12、在本发明的一些实施例中，所述调节座与所述预涂布平台之间包含有偏转调节结构，在所述预涂布平台的位移平面内，所述预涂布平台相对于所述移载台偏转调节以使得所述预涂布平台与所述涂布基板的侧边拼接对齐。由此，可以提高预涂布平台上表面和涂布基板上表面的对接精度。

13、在本发明的一些实施例中，所述偏转调节结构包括转轴，所述调节座上开设有安装孔，所述转轴在轴向固定且周向活动的设置在所述安装孔内，且所述转轴在径向上间距于安装孔内壁；在垂直于远近调节的位移方向上包含有两组间距设置的位移调节机构，两组所述位移调节机构相对于所述涂布基板独立的位移以使所述预涂布平台相对于所述移载台偏转。由此，可以提高预涂布平台上表面和涂布基板上表面的对接精度。

14、在本发明的一些实施例中，所述预涂布平台靠近所述涂布基板一端的侧壁两端分别设有压力传感器。由此，可以提高预涂布平台上表面和涂布基板上表面的对接精度。

15、在本发明的一些实施例中，还包括风干组件，所述风干组件包括出风口，所述风干组件风干清洗后的所述预涂布平台。由此，可以对清洗后的预涂布平台进行干燥。

16、在本发明的一些实施例中，所述出风口的风覆盖尺寸不小于所述预涂布平台的尺寸。由此，可以提高预涂布平台的干燥效率。

17、在本发明的一些实施例中，还包括废液收集槽，所述清洗组件包含喷淋头，所述喷淋头位于所述废液收集槽的上端。由此，可以对清洗预涂布平台的清洗液进行收集，防止环境的污染。

18、本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

技术特征：

1.一种预涂布装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的预涂布装置，其特征在于，所述移载台与所述旋转组件之间设置有升降机构，所述升降机构驱动所述移载台相对于所述旋转组件升降调节。

3.根据权利要求1或2所述的预涂布装置，其特征在于，所述预涂布平台靠近所述涂布基板一端包含有匹配型面，且与所述涂布基板靠近所述预涂布平台的一端的轮廓外缘相匹配。

4.根据权利要求1或2所述的预涂布装置，其特征在于，还包括设置在所述移载台上端的位移调节机构，所述位移调节机构包含有相对于所述涂布基板远近位移调节的调节座，且所述预涂布平台设置在所述调节座上。

5.根据权利要求4所述的预涂布装置，其特征在于，所述调节座与所述预涂布平台之间包含有偏转调节结构，在所述预涂布平台的位移平面内，所述预涂布平台相对于所述移载台偏转调节以使得所述预涂布平台与所述涂布基板的侧边拼接对齐。

6.根据权利要求5所述的预涂布装置，其特征在于，所述偏转调节结构包括转轴，所述调节座上开设有安装孔，所述转轴在轴向固定且周向活动的设置在所述安装孔内，且所述转轴在径向上间距于安装孔内壁；

7.根据权利要求6所述的预涂布装置，其特征在于，所述预涂布平台靠近所述涂布基板一端的侧壁两端分别设有压力传感器。

8.根据权利要求1或2所述的预涂布装置，其特征在于，还包括风干组件，所述风干组件包括出风口，所述风干组件风干清洗后的所述预涂布平台。

9.根据权利要求8所述的预涂布装置，其特征在于，所述出风口的风覆盖尺寸不小于所述预涂布平台的尺寸。

10.根据权利要求1所述的预涂布装置，其特征在于，还包括废液收集槽，所述清洗组件包含喷淋头，所述喷淋头位于所述废液收集槽的上端。

技术总结
本技术公开了一种预涂布装置。预涂布装置包括预涂布平台、移载台、旋转组件和清洗组件，预涂布平台位移调节在移载台的上端以使预涂布平台的一端靠近或远离涂布基板的一端；移载台的下端固定在旋转组件上，旋转组件可纵向旋转带动移载台上下翻转；清洗组件设置在旋转组件的下方，且用于对翻转朝下状态的预涂布平台的已涂布表面进行清洗。该预涂布装置不仅可有效的消除涂布起始阶段在基板上带来的条纹现象，提高膜的均匀性，且便于预涂布平台表面的清洗以能够重复使用。

技术研发人员：刘兆远,王雪戈
受保护的技术使用者：极电光能有限公司
技术研发日：20230817
技术公布日：2024/3/21