具有轨道凹槽的球磨罐以及球磨装置的制作方法

本技术涉及球磨罐，尤其涉及一种具有轨道凹槽的球磨罐以及球磨装置。

背景技术：

1、球磨是一种主要以磨球为介质，利用撞击、挤压、摩擦等方式来实现物料粉碎、研磨、分散混合或复合反应的材料处理方式。在球磨的过程中，磨球会在球磨罐内进行高速运动，磨球在球磨罐内的运动方式可分为泻落式、抛落式和离心式磨球运动，磨球不同的运动方式能够取得不同研磨效果。

2、抛落式的磨球运动指的是在球磨机翻转作用下，磨球沿罐体的内壁做圆周运动上升，达到一定高度后脱离罐体内壁，沿抛物线轨迹下落，具有较大的冲击作用，使得磨球具有更高的能量和球磨效率，因此，抛落式的磨球运动方式所取得的研磨效果最佳。泻落式的磨球运动方式中球磨罐内的磨球的上升高度较小，由于磨球本身的重力作用从球荷顶部滑滚下来，呈泻落状态，因此磨球的冲击力很小。离心式的磨球运动方式运动中，磨球处于离心运转状态，随罐体旋转而不下落，几乎没有冲击研磨作用。

3、综上所述，磨球在罐体内的上升高度是影响研磨效果的关键因素，通常而言可通过采用高转速的球磨机保证磨球在球磨罐内的上升高度，然而高转速的球磨机的设备较为昂贵，导致球磨成本过高。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供了一种具有轨道凹槽的球磨罐以及球磨装置，在球磨罐内设置轨道凹槽，能够对球磨罐内的磨球进行支撑和引导，使得球磨罐在常规球磨机的带动下能够提升磨球的上升高度，进而提高研磨效果。

2、第一方面，本实用新型提供一种具有轨道凹槽的球磨罐，包括：

3、罐体，设有用于放置磨球的研磨室，所述研磨室的内壁设有用于引导磨球运动的轨道凹槽，所述轨道凹槽自下而上围绕所述研磨室的内壁螺旋延伸设置；

4、罐盖，可拆卸设于所述罐体的上方，以打开或封闭所述研磨室。

5、本实用新型提供的具有轨道凹槽的球磨罐，通过在研磨室的内壁上开设引导磨球运动的轨道凹槽，在球磨罐被球磨机的驱使下转动时，磨球能够进入轨道凹槽内，并在轨道凹槽的支撑和导向下沿研磨室的内壁螺旋上升，有助于提升磨球的上升高度和抛物线顶点，进而保证磨球获得更高的冲击力和球磨能量，增强球磨罐的球磨效果。

6、进一步地，所述轨道凹槽的数量为一个以上，所有所述轨道凹槽沿所述罐体的轴向间隔设于所述研磨室的内壁上。

7、采用上述技术方案，通过增加轨道凹槽的数量，使得研磨室的内壁能够同时对多个磨球进行支撑和引导，有助于提高研磨效果。

8、进一步地，所述轨道凹槽的竖直横截面呈波浪线朝所述研磨室的内壁延伸设置，所述轨道凹槽的凹槽宽度沿所述研磨室的内壁自下而上呈线性变化设置。

9、采用上述技术方案，轨道凹槽的凹槽宽度沿研磨室的内壁自下而上呈线性变化设置，线性变化设置可以为线性递增设置，也可以为线性递减设置，使得轨道凹槽能够接收不同规格的磨球，进而提高轨道凹槽的通用性。

10、进一步地，所有所述轨道凹槽的凹槽宽度的线性变化相同；或者，至少有两个所述轨道凹槽的凹槽宽度的线性变化相反。

11、进一步地，所述轨道凹槽的最大凹槽宽度为d1，2mm＜d1≤15mm，所述轨道凹槽的最小凹槽宽度为d2，2mm＜d2≤15mm，d1≥d2，所述轨道凹槽的凹槽深度为d3,1mm≤d3≤15mm。

12、进一步地，所述轨道凹槽的竖直横截面呈波浪线朝所述研磨室的内壁延伸设置，所述轨道凹槽的凹槽宽度沿所述研磨室的内壁自下而上均相等设置。

13、进一步地，所述研磨室的内壁上还设有第一引导槽和第二引导槽，所述第一引导槽和所述第二引导槽分别设于所述轨道凹槽的相对两端，且所述第一引导槽的凹槽宽度和所述第二引导槽的凹槽宽度均背向所述轨道凹槽呈线性递减设置。

14、采用上述技术方案，通过设置第一引导槽和第二引导槽对磨球进行引导，方便磨球进入或脱离轨道凹槽。

15、进一步地，所述研磨室的底部设有凹底，所述罐盖的朝向所述研磨室的一侧设有凹顶。

16、采用上述技术方案，通过在研磨室和罐盖上设置凹底、凹顶，能够增大磨球在研磨室内的可运动高度，有助于磨球获得更大的冲击力和球磨能量，从而提高研磨效果。

17、进一步地，所述轨道凹槽围绕所述研磨室的侧壁延伸多圈，相邻两圈所述轨道凹槽之间形成有凸棱，所述凸棱的相对两侧均设有圆角。

18、采用上述技术方案，通过在凸棱的相对两侧设置圆角，有助于减小磨球撞击凸棱后产生的撞击磨损。此外，在完成球磨后，圆角的设置同样方便对物料进行刮取、收集。

19、第二方面，本实用新型还提供一种球磨装置，包括：

20、上述任一具有轨道凹槽的球磨罐；

21、球磨机，所述罐体的底部设于所述球磨机上，所述球磨机能够带动所述罐体绕轴线转动

22、由上可知，本实用新型提供的具有轨道凹槽的球磨罐，通过在研磨室的内壁上开设引导磨球运动的轨道凹槽，在球磨罐被球磨机的驱使下转动时，磨球能够进入轨道凹槽内，并在轨道凹槽的支撑和导向下沿研磨室的内壁螺旋上升，有助于提升磨球的上升高度和抛物线顶点，进而保证磨球获得更高的冲击力和球磨能量，增强球磨罐的球磨效果。

23、本申请的其他特征和优点将在随后的说明书阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本申请实施例了解。本申请的目的和其他优点可通过在所写的说明书、以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

技术特征：

1.一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，所述轨道凹槽（120）的数量为一个以上，所有所述轨道凹槽（120）沿所述罐体（100）的轴向间隔设于所述研磨室（110）的内壁上。

3.根据权利要求2所述的一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，所述轨道凹槽（120）的竖直横截面呈波浪线朝所述研磨室（110）的内壁延伸设置，所述轨道凹槽（120）的凹槽宽度沿所述研磨室（110）的内壁自下而上呈线性变化设置。

4.根据权利要求3所述的一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，所有所述轨道凹槽（120）的凹槽宽度的线性变化相同；或者，至少有两个所述轨道凹槽（120）的凹槽宽度的线性变化相反。

5.根据权利要求1所述的一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，所述轨道凹槽（120）的竖直横截面呈波浪线朝所述研磨室（110）的内壁延伸设置，所述轨道凹槽（120）的凹槽宽度沿所述研磨室（110）的内壁自下而上均相等设置。

6.根据权利要求5所述的一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，所述研磨室（110）的内壁上还设有第一引导槽（130）和第二引导槽（140），所述第一引导槽（130）和所述第二引导槽（140）分别设于所述轨道凹槽（120）的相对两端，且所述第一引导槽（130）的凹槽宽度和所述第二引导槽（140）的凹槽宽度均背向所述轨道凹槽（120）呈线性递减设置。

7.根据权利要求1所述的一种具有轨道凹槽的球磨罐，其特征在于，所述研磨室（110）的底部设有凹底（111），所述罐盖（200）的朝向所述研磨室（110）的一侧设有凹顶（210）。

8.一种球磨装置，其特征在于，包括：

技术总结
本技术公开了一种具有轨道凹槽的球磨罐以及球磨装置，属于球磨罐技术领域，具有轨道凹槽的球磨罐包括罐体和罐盖，罐体设有用于放置磨球的研磨室，研磨室的内壁设有用于引导磨球运动的轨道凹槽，轨道凹槽自下而上围绕研磨室的内壁螺旋延伸设置；罐盖可拆卸设于罐体的上方，以打开或封闭研磨室。本技术公开的具有轨道凹槽的球磨罐，轨道凹槽能够对球磨罐内的磨球进行支撑和引导，使得球磨罐在常规球磨机的带动下能够提升磨球的上升高度，进而提高研磨效果。

技术研发人员：罗熳,叶建华
受保护的技术使用者：有研（广东）新材料技术研究院
技术研发日：20231122
技术公布日：2024/1/15