专利名称：一种用于去除流道内流动液体中杂质的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于去除从流道内流动的液体中筛分或过滤出的杂质的装置，特别是用在为水处理厂中的装置。该装置具有部分地浸在液体中由一些相互间隔并基本上为半圆形的栅条10形成的无动力圆柱形滤栅表面8、围绕滤栅表面8的轴线2旋转并带有从圆柱的内部向其外部伸入栅条10之间的清除部件15的清除杆12以及在滤栅表面8沉积杂质并将杂质从流道3的液体中导出的传送装置17，该传送装置包括带有使杂质进入的开口23的管状壳体22和位于壳体22内被驱动的螺旋丝杠20。尽管该装置特别适用于废水处理厂，但它也可用在其它技术领域的实际应用中，即纺织和塑料工业、屠宰房、家禽场、制革厂等，例如从液体中去除杂质，即筛分或将刮杂质。
背景技术：
上述这种装置已在DE4006970A1公开了。其中的滤栅表面的半圆形栅条彼此间被固定，固定成一种具有内凹面的滤栅表面。栅条只围绕圆周线的下部部分地延伸。不覆盖栅条的圆柱部分是用薄钢板制的半圆柱形壁式的覆盖物的覆盖的。圆柱的前端部设计有开口，以使含有杂质的液体能够进入。液体从圆柱的内侧向其外侧流过滤栅表面，所以杂质沉积在内侧，即沉积在栅条的凹入侧。带有清除部件的清除杆围绕圆柱的轴线旋转。旋转时清除杆上的消除部件以梳状形式从内侧向外侧伸入栅条间的狭窄通道，并且将杂质集聚起来。一个传送装置设置在滤栅表面的圆柱外，该传送装置包括一个管状壳体、一个轴和一个位于轴上的螺旋丝杠。该传送装置上还有一个使杂质进入的开口。除了入口和出口外，将管状壳体设计成封闭的。在薄钢板覆盖物和半圆形栅条的起始点之间设有一个空间。该空间用于将杂质从滤栅表面输送给传送装置。在该杂质的输送区中设有一梳状分离装置。改变清除杆的旋转方向则产生使由清除杆上的清除部件集聚的杂质疏松开的效果，以便于杂质落入传送装置的开口中。但这种效果在迎面流来液体的地方是不明显的。由于液体的进入只可能经过圆柱的前端，并且应该用尽可能大的滤栅表面来沉积杂质，所以液面应设在一适宜的高度上。然而，在这种情况下，至少大部分传送装置的开口位于液面以下，因此疏松的杂质能够从梳状分离装置上掉入液体中。因为传送装置的壳体被设计成封闭形的，所以液体的流动只可能发生在滤栅表面的区域中，这样产生了由梳状分离装置疏松的杂质连续不断地掉入液体中而没能从液体中清除出去的危险。结果杂质的集聚发生在滤栅表面。然而，如果将液面选择在很低的高度，则传送装置所配置的开口用来接收杂质，但是在这种情况下，滤栅表面的有效面积实际上减小了且效率降低了。这些所述缺点是否与液面的高度相关的。另外一个缺点在于清除杆和清除部件是与半圆形栅条的内圆周相配合的。该清除杆面对滤栅表面凹下侧设置，即处在含有区域中，这样产生了由梳状分离装置疏松的杂质连续不断地掉入液体中而没能从液体中清除出去的危险。结果杂质的集聚发生在滤栅表面。然而，如果将液面选择在很低的高度，则传送装置所配置的开口用来接收杂质，但是在这种情况下，滤栅表面的有效面积实际上减小了且效率降低了。这些所述缺点是与液面的高度相关的。另外一个缺点在于清除杆和清除部件是与半圆形栅条的内圆周相配合的。该清除杆面对滤栅表面凹下侧设置，即处在含有杂质的液体中的位置上。这样会导致杂质沉积在清除杆上，使杂质结缕。清除杆上的清除部件，以通过滤栅表面的液体的流动方向，进入滤栅表面是一个显著的缺点。通过栅条之间的狭窄通道将大部分杂质挤压这样，这部分杂质留在液体中使此装置的清除效果受到了限制。
另一种从流通内流动的液体中消除杂质的装置公开在DE3019127C2中。其中，世为相互之间固定地连接起来的一些栅条形成了一个滤栅表面，栅条分布在圆柱大约270°的圆周上。这里液体也从内向外流过栅条间的狭窄通道，即栅条的凹下侧面对着流道中迎面而来的液体。该液体经前端侧的开口进入圆柱内侧。带有清除部件的消除杆与栅条相配合。驱动传送器用于驱动消除杆运动。具有一个壳体、一个轴和一个螺旋丝杠的传送装置与圆柱轴线共轴地设置。此外，传送装置壳体上的开口位于液面下，甚至部分地脱离杂质的下落区，这样会导致产生杂质沉积在滤栅表面后又落回到液体中并进入再次沉积在滤栅表面再次落入的循环，而不进入传送装置的危险。这里也有挤压部分杂质通过栅条间狭窄通道的效果。这部分杂质留在液体中不能被消除出去。
发明的公开本发明的目的是改进最初所描述的这种装置，使其能够用在不同深度并具有不同液面高度的流道中，并且使正常的杂质清除不受各种条件的影响。
根据本发明可获得上述类型的装置，其中，滤栅表面无动力的至少约为半圆形的成型滤条，以其凸圆表面面对液体的流动方向放置在流道中，从而杂质沉积在滤栅表面的外侧，清除杆上的清除部件，以与箭头所指的液体穿过栅条间狭窄通道的流动方向，相反的方向从圆柱的内侧向外侧伸入栅条之间，没有半圆形栅条覆盖的圆柱部分设计成敞开的，并且传送装置以其轴线向下倾斜的方式放置在流道的底上。
本发明是以使液体从圆柱的外侧向其内侧流过半圆形栅条的概念为出发点的。杂质沉积在栅条的凸圆表面上。圆柱的前端面是封闭的，因此液体只可按从凸圆外表面向凹圆内表面的方向通过栅条间的狭窄通道的方式进入装置内部。半圆形的栅条以其凸圆面对着流道中迎面而来的液体的形式放置，而在已有技术中是凹面对着迎面而来的液体。由于这个变化，得到不再象已有技术中已知装置那样依赖于装置的工作条件的优点，即滤栅表面能够以最佳的方式来应用，而不受液面变化的影响。至少可以改变传送装置向下倾斜的位置来适应特定的条件。该装置在流道中不占用太大的空间。本发明特别有利于将滤栅表面以其轴线垂直地放置在流道中，这样流道中的装置长度可很短。另一个显著的优点在于能够进行标准化。可简单地通过添加或御掉栅条和清除杆上的清除部件使装置适应所使用的环境。这样就能够将由独立的构件组成的装置，安装在远离制造厂的外国。
几乎是半圆形的栅条分布在圆柱的半个圆周上，即180°地分布，并且在栅条的两端有伸出部分。每个栅条为手杖形，其中伸出部分可能有不同的长度。面对着传送装置的伸出部分设计得比另一端的伸出部分长。装配好的轴或杆以及利用中间隔离块装配好的栅条，位于两伸出部分间的区域中。这样轴和隔离块不妨碍带消除部件的消除杆的旋转。另一方面，这样的栅条支承方式是以在半圆部分中，按预定的相互间隔组装栅条。清除部件在轴和杆的附近进入相邻栅条间的狭窄通道，因此这是一个靠隔离块的高度固定地控制距离地方。旋转时，清除部件能够以彼此相同的关系弹性地组装的半圆形栅条接触。这不是缺点，这种磨损使产品的公差以自修正的方式逐渐消失。在清除部件的自由端从栅条的凸圆表面出来的路线上，产生了从消除部件向栅条的杂质输送，而不需要特殊的疏松部件。液体沿这条路线流动，以使传送杂质并将此杂质导入传送装置中。
从清除部件到传送的装置的杂质传输线位地液面之下。这是一个显著的优点，它提供了用液体流作为杂质的疏松和传输工具的可能。为了此目的，传送装置的壳体上必须设计有若干沿开口轴线长度分布的小孔。这样，液体不只流过滤栅表面，还流过传送装置的开口，以便有助于将杂质从滤栅表面的尽头传输进传送装置内，并防止在滤栅表面上的第二次沉积。有利地利用了液体的流动。杂质集聚在传送装置壳体开口的前面。集聚的杂质靠处在液面下的螺旋丝杠传送，并向上导出液面。部分流体通过传送装置壳体上的小孔回流到液体中。
本发明另一个显著的优点是消除杆的和消除部件的轴，工作于干净的液体侧。这样防止了杂质沉积在消除杆和消除部件上。同时避免了挤压杂质通过栅条间的狭窄通道，这是因为清除部件是以与液体流运方向相反的方向动作通过滤栅表面的。消除部件从圆柱的内侧向其外侧，穿过狭窄通道并且遍及栅条的外表面，以便能够抓住并集聚沉积的杂质。通过滤栅表面不挤压游动的杂质而是使这些杂质沉积在滤栅表面的凸圆侧。
传送装置对集聚的杂质有显著的洗涤作用，这种洗涤是通过液面下的运动并，使带有小孔的传送装置壳体部分，它向来实现的。
本发明提供了使该装置的两个单元标准化的优点，即具有预定直径的传送装置能够用来，与具有不同圆柱直径和栅条直径的沉积单元配合。只就局部布置来说，该传送装置是一个必须相对沉积单元放置的独立结构件。将两个单元相互连接起来是不必要的。该新装置能够用了各种应用中，例如，只要在必须进行清洁的液体中。此装置能够在有正常宽芳的非常深的流道中使用。
一个连接壁可位于半圆形栅条和传送装置壳体的开口之间。圆柱形滤栅表面和传送送装置设计成，以各自轴心线与流道呈不同角度的位置来放置。连接壁可延伸到传送装置下。连接壁可以设计成封闭的，例用薄钢板封闭。然而，连接壁还可由半圆形栅条上手杖形的伸出部分组成，并且制成有缝隙的。在各种情况下，连接壁都是一个与栅条和传送装置壳体两者相切设置的平面。因此，这一优点使得滤栅表面的位置不受在流道中设置的传送装置的影响，并使得这两个单元相互结合起来。这特别有利于以轴线垂直的方式放置滤栅单元，并以轴线向下倾斜的方式放置传送装置。
传送装置壳体可具有沿其开口轴线长度分布的若干小孔。这有利于由消除部件集聚的杂质进入传送装置的开口中。
使用隔离块的滤栅表面的半圆形栅条，可以彼此隔开的方式可替换地安装和固定在轴上。这样可简单地实现标准化，并在使用该装置的地方可进行适应性的调节。另一方面，还能够成批地以低成本生产滤栅表面的构件。隔离块的使用，特别是使用呈圆盘形的隔离块，有可能简单地用相同的栅条形成不同宽度的狭窄通道。这只需要不同高度的隔离块。这种不同宽度的狭窄通道能够在不同的装置上实现，也可在单独一个装置上实现，将该滤栅表面分成具有不同宽度狭窄通道的不同部分。在该滤栅表面的下部区域上，狭窄通道具有较窄的宽度，而在该滤栅表面的上部区域的备用部分具有较宽宽度的狭窄通道，这是很有用的。低液面的液体被小心地弄干净。由于在具有较宽的狭窄通道的上部区域减小了水力阻力，所以高液面的大量液体可较快地通过装置。甚至可以安排紧急溢流。
传送装置壳体可按照至可在壳体开口轴线长度上，延伸的筛网或长条露空壁的形式设计。在传送装置下部设计孔时，使自由区总面积足够大，来避免推动流体进入滤栅表面方向是重要的。一般希望所使用的传送装置附近的液体液将集聚的杂质导入传送装置，而不是导入滤栅单元的滤栅表面。
连接壁可有一封闭的平面，并可平行于流动方向位地流道中。该连接壁还可支承滤栅表面。
带清除部件的清除杆，可由能简单地进行替换或装配好的构件构成。这样，能使消除杆和消除部件，适应具有其它长度的轴线的滤栅表面。
可以将两个滤栅表面与其两个清除杆结合起来，这两个清除杆附属于一个常用的传送装置，并且以相反的方向运动。很明显传送装置壳体的开口必须相对流道中间处的一个垂直平面对称地设计，以便于接收来自两个滤栅单元的杂质。用这种方法，该装置可以适应不同宽度的流道。
该传送装置可包括一个杂质的挤压区，该区安排在一个斜槽的上游。在此区域中，壳体上也带有一些小孔，通过这些小孔在挤压区受杂质阻挡的液体，能够回到流道中。在这个挤压区中，由压缩紧的杂质形成了一个阻挡物。杂质将通过斜槽落入一个容器或类似的装置中。
位于一侧的清除杆和位于另一侧的传送装置都可有独立的驱动的装置。这样，创造出了必须在流道中局部相关地放置的独立单元。将各个装置连接起来是不必要的，而单独地控制各装置是很有用的。可选择清除部件的环绕速度，低于流道中液体的流动速度，以便使由液体流动产生的疏松作用更有效。另外，旋转和停止的次数能够分别以不同的方式来控制。
类似圆柱的滤栅表面的前端侧是封闭的，所以液体只可能通过滤栅表面进入滤栅单元。若以轴线垂直地方式放置滤栅表面，则其前端侧被流道的底部封闭。若以一种向下倾斜的方式放置滤栅表面，则必须在流道底部上设有台阶或者用类似的东西来封闭滤栅表面的前端侧。
下面将图示本发明的最佳实施例并根据附图进行说明。
附图的简要说明
图1是本装置第一实施例的侧视图，图2是沿图1中II-II线通过此装置的截面图，图3是本装置第二实施例的侧视图，图4是图3所示装置的俯视图，图5是沿图3中V-V线通过此装置的截面图，图6是本装置第三实施例的侧视图，图7是图6所示装置的俯视图，图8是本装置第四实施例的侧视图，图9是本装置第五实施例的侧视图。
实施发明的最佳方式图1示意地示出了具有基本部件的装置1的侧面。该装置1以其轴心线2倾斜的方式安置在流道3中，图中只显示了流道的底部4和侧壁。含有待筛分或过滤的杂质的液体，在流道3中以5所示的方向流动。流道中液体的水平面可以在两个极限值间变化。图中示出了一个较低的液面6和一个较高的液面7。但此液面也可更高或更低，例如，在液面受暴寸的影响时。
该装置1包括滤栅表面8，其是由许多延伸成圆柱表面9的半个圆周的栅条10组成。这些栅条10只被简要地图示出了。栅条10依次沿着圆柱表面9的高度和长度设置，以便在栅条10之间形成狭窄通道11来让液体流过。由于半圆形栅条10的相对配置，是以其凸圆面侧对着流动方向5放置的，则液体从外部向内部流过圆柱表面9。这样，滤栅表面8形成了圆柱表面9的外侧。液体中含有的、待去除的杂质将沉积在圆柱的滤栅表面8上，同时去除了杂质的干净液体将流地狭窄通道11。由圆柱的半个圆柱9形成的滤栅表面8，依靠流道3底部4的一个台阶来放置，使液体流过狭窄通道11。很明显半个圆柱表面9的底侧，及底侧与流道3侧壁的连接处是封闭的。这些详细的结构没有清楚地表示出来。
U形钩状的清除杆12固定地与轴13相连，该轴的轴心线设置在装置1的轴心线2上，也就是圆柱的轴线上。轴13支承轴在轴承座中(未清楚示出)。轴13伸出液面并由简要图示出的电机14驱动。清除杆12装有清除部件15，其布置在相对于栅条10间的狭窄通道11的位置。旋转时清除部件15以梳状形式，从圆柱体的内部向其外部伸入栅条10间的狭窄通道11。清除部件15分布在栅条10的外侧，这样一方面在轴13和清除杆12的一个旋转过程中，确保将沉积在栅条10外侧的所有杂质集聚起来，另一方面可按照清除杆12的旋转方向16将以此方向集聚的杂质，向外传输并传送到侧面。传送运动事实上经常发生在位于半圆柱表面较低部分的液面6或7的下面，而在圆柱表面的上部，集聚和传送的物质会升高并高于液面。但是在半圆的传送路径端头杂质会再次被推到液面下。
从带滤栅表面8的装置1的侧面看(图1和2)，一个独立的传送装置17也以轴线倾斜的位置位于流道3中。该传送装置17与装置1既没有驱动连接也没能有结构部件上的连接。装置1和传送装置17可以是完全独立的单元，只是相互依存地放置在流道3中。该传送装置17包括一个带有螺旋丝杠20的轴19(图2)。一具电机21与轴19的顶部相连来驱动传送装置17的轴19。一个减速装置可位于电机21和轴19之间。该传送装置的另一个基本部件是一个管状壳体22，该壳体包围着传送装置17的大部分长度。只是在较低的相对滤栅表面9或半圆柱表面轴线长度的部分，壳体22上设有开口23，以便靠清除部件15从装置1中收集传送的杂质。另一方面，在流道3的下游，壳体22具有若干使液体通过的小孔、狭缝或类似结构24。这些小孔，狭缝或类似结构24，沿着壳体轴线的长度或高度分布。在传送装置17或壳体22上部区域中有一个挤压区25，并且该挤压区位于斜槽26之前。在该挤压区25中的轴19上去除了螺旋丝杠20，以便轴19延伸至电机21。筛分、沉积、集聚、传送和压缩紧的杂质通过斜槽26被注入接收器，即一种容器中，或者注入另外的传送装置中。在挤压区25这个范围内，壳体22可以带有若干小孔27(图3)，从压缩紧的杂质中流出的液体将通过这些小孔流回流道3中。小孔24和27可以具有相同的尺寸和形状，或者具有适用这些目的的不同形式。
最好如图2所示，许多半圆形栅条10的一端与流道3的一个侧壁接触。而在这些栅条10的另一端有伸出部分28，这些伸出部分形成了沉积在滤栅表面8上，并通过清除部件15集聚和传送的杂质的输送线。根据图2所示的相对位置，传送装置壳体2 2以伸出部分28，与壳体开口23相接触的形式放置。这相对轴心线2这些伸出部分28基本上是指向径向的，并且进入流道3中液体的流动方向5中。液体以箭头29所指方向进入栅条10间的狭窄通道11。由于传送装置17壳体22上的开口24的位置，使部分液体以箭头30所示方向流动(图2)。一般这种流动产生一种传输运动，该运动靠以箭头30方向流动的液体，传递给由清除部件15及伸出部分28组成的传输线传送，并且进入传送装置17壳体22内部的杂质。只从长度上来说，消除部件15的自由端延伸至伸出部分28的自由端。杂质从消除部件15向伸出部分28的移动是由这些具体的机械部件的构成和液体沿箭头30方向的流动造成的。这种移动发生在液面之下，即在液体能够展示出其输送效果的地方。这样，在箭头30方向上的液体流动通常有利于使杂质通过壳体22的开口23，传送进入传送装置17和轴19上的螺旋丝杠20的区域中。在箭头30方向上的液体流动使杂质产生环形流，并通过壳体22中螺旋丝杠20的运动增加了洗涤效果。用这种方法，有机物从杂质中脱开，这些有机物仍然存留在液体中，而由传送装置17去除的杂质通过洗涤效应被清除。
如图2和图3所示，栅条10可以借助于隔离块31固定在轴32上，而隔离块31的高度决定了狭窄通道的宽度。轴32和隔离块31位于清除部件15自由端的旋转路径外。栅条10可带有以避免液体中的做成圆盘形。对于应用在为不同的目的而装配的装置的不同实例，隔离块31可具有不同的高度。
不仅仅是涉及不同的装置，也可就一个装置上的一个滤栅表面而言。在滤栅的下部装配着具有较小宽度的隔离块31，而在滤栅的上部装配着具有较大宽度的隔离块31，这是很有用的，以便在低液面6与高液面7这样的情况比较时，具有不同的筛分效果，如下大寸时就会产生不同的效果。一般来说，结构组件系统提供了可简单地改变滤栅表面8的轴线长度的可能性，使装置适应不同的条件，或者必要时更换单个栅条10。同样地，与滤栅表面8由独立的构件10、31、32组成一样，清除杆12可被分成独立的构件34、35和36，如图3所示的实施例。因此，产生了在结构组件内改变清除杆12的轴线长度的可能性。各构件34、35和36的轴线长度能够按模数尺寸来设计。
也可以将两个用于在滤栅表面8上沉积杂质的单元和一个单一的传送装置17放置在一起，如图4和5所示。传送装置17位于中间，并且两个单元的清降杆12以相反的方向旋转。因此这两个单元以从滤栅表面向传送装置17的方向传送杂质。这里是利用流道3中箭头30方向上的液体流动来将杂质传送给传送装置17的，因此螺旋丝杠20能够作用于杂质上。
图6和图7图示了具有其他特殊优点的本装置的另一个实施例。半圆柱形的滤栅8表面8的轴线2坚直地设在流道3中。在半圆形栅条10的一端有长的伸出部分37，结果开成了一个手杖的形状。这些伸出部分37的流道3中以流动方向5的方向延伸。并且这些伸出部分73形成了一个有矩形面积的连接壁38。然而，在结构上重要的只是位于传送装置17之上，并在半圆形栅条10和传送装置壳体22间形成切向过渡区的三角形部分。这样，由许多伸出部分37组成的连接壁38是一个可设有一些狭隙开口的平面，如图6所示。但连接壁也可设计成封闭的，例如用薄钢板封闭。正是由于有了连接壁38，位于一侧的带滤栅表面8的单元和位于另一侧的传送装置17可以设计成独立的单元，并可分别放入流道3中。边样，滤栅表面8的轴心线2坚直地定位，而传送装置17的轴心线18以可能的不同角度向下倾斜地定位。这种可能性在图6中用双头箭头39图示出了。轴32被设置在伸出部分37的区域中，而半圆形的栅条10是不受轴个可设有一些狭隙开口的平面，如图6所示。但连接壁也可设计成封闭的，例如用薄钢板封闭。正是由于有了连接壁38，位于一侧的带滤栅表面8的单元位于另一侧的传送装置17可以设计成独立的单元，并可分别放入流道3中。这样，滤栅表面8的轴心线2竖直地定位，而传送装置17的轴心线18以可能的不同角度向下倾斜地定位。这种可能性在图6中用双头箭头39图示出了。轴32被设置在伸出部分37的区域中，而半圆形的栅条10是不受轴32约束的。在这里伸出部分37设有开口，轴32通过这些开伸出。伸出部分的间隔以及栅条10间的狭窄通道11的宽度是由隔离块31的高度决定的。在栅条10的另一端没有设计得比伸出部分37短的伸出部分40。在这里的轴32设置在清除部件15旋转所不经过的区域。这样使半圆形的栅条10定位，并在各栅条间保持准确的间隔，特别是在消除部件15进入狭窄通道11的线路上，这样才使清除部件15的进入没有困难。在消除部件15旋转时，栅条10在其挠性范围内产生自适应变化。清除部件15在滤栅表面8的凸圆外侧集聚和推动杂质。杂质沿着清除部件15的自由端，从半圆形栅条10中移出的路线离开清除部件15并靠液体的流动被传输，最后导入传送装置17。杂质被聚集到连接壁38和传送装置17壳体22之间的共同线上。以箭头41所指方向驱动螺旋丝杠20，以便将杂质导入传送装置17中。图7图示了流道3中液体的流动。在栅条10区域中，流动方向是以箭29所指通过滤栅的方向来垂直于凸圆表面的。在流道的侧壁上，其中一个侧壁如图所示设置有液体的导流插件42。此由影响了液体的流动方向并避免在角部沉积杂质。
比较图6与图9，很明显使用了不同高度的隔离块31。这在所有实施例中都是可能的。由此可获得具有不同宽度的狭窄通道11的筛分装置。而且也可将一个捋刮装置的滤栅表面分成不同的部分，如在有溢流危险的部分(图9)使用不同宽度的隔离块。
在图8所示的实施例中，滤栅表面8的轴线处于向下倾斜的位置。以虚线表示的栅条10的伸出部分37，以具有一翘曲的方式形成。连接壁38由三角形薄钢板覆盖。因此，连接壁38是封闭的。
图9所示的实施例类似于图6所示的实施例。在滤栅表面8的上部区域中有溢流的危险。正常的最高液面6已示出了。为了便于疏松来自连接壁38伸出部分37的杂质，将一个喷射杆44放置在液面下，以此产生以向着传送装置17的方向通过伸出部分37之间的狭隙的流动。在通常的最高液面之上的区域中，可设置一个喷嘴杆45，以此来对传送装置17中的杂质进行清洗。很明显壳体22的这个区域被设计成敞开的或者开口23延伸至此区域中。
权利要求
1.一种用于去除流道(3)内流动的液体中筛分或过滤出的杂质的装置，特别是用于为水处理厂中的装置，该装置包括部分地浸入在液体中由一些相互间隔并基本上为半圆形的栅条(10)形成的无动力圆柱形滤栅表面(8)，围绕着滤栅表面(8)的轴线(2)旋转并带有从圆柱的内部向其外部伸入栅条(10)之间的清除部件(15)的清除杆(12)，以及在滤栅表面(8)沉积杂质并将此杂质从流道(3)的液体中导出的传送装置(7)，该装置装有使杂质进入的开口(23)的管状壳体(22)和位于壳体(22)内一个驱动杠(20)，其特征在于滤栅表面(8)的无动力且至少为半圆形的成型栅条(10)，以其凸圆面对着液体的流动方向(5)的方式放置在流道(3)中，因此杂质沉积在滤栅表面(8)的外侧，清除杆(12)上的清除部件(15)，以与箭头(29)所指通过栅条(10)间的狭窄通道11的液体流动方向相反的方向，从圆柱的内侧向其外侧伸入栅条(10)之间，将设有半圆形栅条(10)覆盖的圆柱部分，设计成敞开的，并且传送装置(17)以其轴线(18)由下倾斜的方式放置在流道(3)的底部上。
2.根据权利要求1的装置，其中，连接壁(38)位于半圆形滤条(10)和传送装置(17)壳体(22)的开口(23)之间，并且具有轴线(2)的圆柱形滤栅表面(8)和具有轴线(18)的传送装置(17)被设计成以相对流道(3)的不同的角度来放置。
3.根据权利要求1或2的装置，其中，传送装置(17)的壳体(22)带有沿着开口(23)的轴线长度分布的一些小孔(24)。
4.根据权利要求1的装置，其中，使用隔离块(31)的滤栅表面(8)的半圆形滤条(10)，以彼此隔开的方式可替换地安装并固定在轴(32)上。
5.根据权利要求4的装置，其中，设有不同高度的隔离块(31)，以便于改变栅条(10)间狭窄通道(11)的宽度。
6.根据权利要求1的装置，其中，传送装置(17)的壳体(22)至少沿其壳体(22)上的开口(23)的轴线长度设计成筛网或狭缝露空壁形式。
7.根据权利要求2的装置，其中，连接壁(38)具有封闭的平面，并平行于流动方向(5)放置在流道(3)中。
8.根据权利要求1的装置，其中，带有清除部件(15)的清除杆(12)由能够简单地更换或装配好的构件(34、35、36)组成。
9.根据权利要求1的装置，其中，传送装置(17)含有一个杂质的挤压区(25)，该挤压区(25)位于斜槽(26)的上游。
10.根据权利要求1的装置，其中，处于一侧的清除杆(12)和处于另一侧的传送装置(17)分别带有独立的驱动装置(14、21)。
全文摘要
本发明涉及一种用于去除从流道(3)内流动的液体中筛分或过滤出的杂质的装置，特别是用于废水处理厂中的装置。该装置包括部分地浸在液体中并由彼此间隔设置的一些基本为半圆形的栅条(10)，形成的无动力的圆柱形滤栅表面(8)。该装置还包括围绕滤栅表面(8)的轴线(2)旋转，并具有从圆柱的内侧向外侧伸入栅条(10)之间的清除部件(15)的清除杆(12)。还有一个杂质传送装置(17)，它依赖于滤栅表面(8)设置并将杂质导出流道(3)液体外。
文档编号B01D29/90GK1158091SQ96190697
公开日1997年8月27日 申请日期1996年7月3日 优先权日1995年7月4日
发明者汉斯·格奥尔格·胡贝尔 申请人:汉斯·格奥尔格·胡贝尔