反应釜搅拌轴定位机构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及到复合材料加工技术领域，具体地说，是一种反应釜搅拌轴定位机构。
【背景技术】
[0002]在复合材料加工领域会使用到反应釜，与其他医药领域或其他相关化学领域不同的是，其所使用的反应釜的结构往往与其他领域所使用的反应釜存在一定的差异。
[0003]反应釜在生产运行过程中，需要利用深入其内部的搅拌装置来不停地对反应物进行搅拌混匀。现有的一些反应釜结构主要包括釜体和连接于电机并深入到釜体内部的搅拌装置，该搅拌装置由深入反应釜体内部的搅拌轴以及连接在搅拌轴上的搅拌桨组成，搅拌轴靠近所述釜体底部的一端为自由端。由于所述搅拌桨需要长期执行搅拌动作，且容易受到搅拌物的碰撞，因此搅拌桨如果长期使用，会造成搅拌轴松动或变形从而影响其稳定性；另外现有的反应釜只设置单一搅拌桨，搅拌效果不佳，影响反应速率。
【实用新型内容】
[0004]针对现有技术的不足，本实用新型的目的是提供一种反应釜搅拌轴定位机构，该机构通过将搅拌轴的下端进行多次限位固定，能够有效增加其稳定性，另外，还能够实现二次搅拌，提高反应速率。
[0005]为达到上述目的，本实用新型表述一种反应釜搅拌轴定位机构，包括反应釜，在所述反应釜的釜体内设置有搅拌轴，该搅拌轴的上部伸出所述反应釜的釜体，其关键在于:所述搅拌轴上分别安装有第一搅拌桨与第二搅拌桨，所述第一搅拌桨位于所述第二搅拌桨的上方，在所述反应釜的底部固定有一圈导轨，所述第二搅拌桨的自由端伸入所述导轨中，在所述反应釜底部的中心固定有底座，在该底座内由下到上依次设置有底板与限位盘，在所述限位盘的上表面与下表面均开设有至少三个滚珠坑，在所述滚珠坑内放置有滚珠，所述限位盘的上表面通过滚珠与所述压板接触，所述限位盘的下表面通过滚珠与所述底板接触，所述搅拌轴的下端穿过所述压板与所述限位盘固定连接。
[0006]本机构将搅拌轴的下端固定在限位盘内，在搅拌轴工作运转时，通过限位盘上的滚珠在底座转动，使得搅拌轴的运转更加稳定，能够有效延长搅拌轴的使用寿命；通过第二搅拌桨与导轨的配合能够实现对搅拌轴二次限位，进一步增强了搅拌轴的稳定性。另外，设置第一搅拌桨与第二搅拌桨能够使得搅拌更加均匀，有助于调高反应速率。
[0007]更进一步的，所述第一搅拌桨与第二搅拌桨均呈弧形结构，其中，所述第一搅拌桨的敞口端朝上，所述第二搅拌桨的敞口端朝下。
[0008]采用上述结构，能够使得搅拌更加均匀，使得反应釜内反应物充分接触，保证生产出广品的品质。
[0009]更进一步的，在所述压板上设置有轴承套，在所述搅拌轴上设置有与所述轴承套相配合的轴承。
[0010]通过轴承与轴承套的配合，能够减少搅拌轴与压板之间的干涉，增加了搅拌轴在转动过程中的稳定性。
[0011]更进一步的，所述滚珠坑沿圆周均匀分布在所述限位盘上。
[0012]通过上述结构，能够使得搅拌轴旋转产生的作用力均匀分散在限位盘上，使得搅拌轴的转动更加稳定。
[0013]本实用新型的显著效果是:本机构将搅拌轴的下端固定在限位盘内，在搅拌轴工作运转时，通过带动限位盘上的滚珠在底座转动，避免了搅拌轴与固定底座直接接触，使得搅拌轴的运转更加稳定，能够有效延长搅拌轴的使用寿命；通过第二搅拌桨与导轨的配合能够实现对搅拌轴二次限位，使得进一步增强了搅拌轴的稳定性。
【附图说明】
[0014]图1是本实用新型的结构示意图；
[0015]图2是图1中第二搅拌桨与导轨配合的示意图；
[0016]图3是图1中限位盘的结构示意图。
【具体实施方式】
[0017]下面结合附图对本实用新型的【具体实施方式】以及工作原理作进一步详细说明。
[0018]如图1-图2所示，一种反应Il搅拌轴定位机构，包括反应Il 1，在所述反应Il I内设置有搅拌轴2，该搅拌轴2的上部伸出所述反应釜I的釜体，其特征在于:所述搅拌轴2上分别安装有第一搅拌桨3与第二搅拌桨4，所述第一搅拌桨3位于所述第二搅拌桨4的上方，在所述反应釜I的底部固定有一圈导轨5，所述第二搅拌桨4的自由端伸入所述导轨5中，在所述反应釜I底部的中心固定有底座6，该底座6上开设有安装槽，在所述安装槽内由下到上依次设置有底板7与限位盘8，在所述限位盘7的上表面与下表面均开设有至少三个滚珠坑，在所述滚珠坑内放置有滚珠9，在所述底座6上盖装有压板10，所述限位盘8的上表面通过滚珠9与所述压板10接触，所述限位盘8的下表面通过滚珠9与所述底板7接触，所述搅拌轴2的下端穿过所述压板10与所述限位盘8固定连接。
[0019]参见附图1，所述第一搅拌桨3与第二搅拌桨4均呈弧形结构，其中，所述第一搅拌桨3的敞口端朝上，所述第二搅拌桨4的敞口端朝下。
[0020]从图1中还可以看出，在所述搅拌轴2上穿设有轴承11，在所述压板10上设置有与所述轴承11相配合的轴承套12。
[0021]如图3所示，所述滚珠坑沿圆周均匀分布在所述限位盘8上。
[0022]在反应釜I的使用过程中，搅拌轴2的下端固定在限位盘8上，在搅拌轴2工作运转时，通过限位盘8上的滚珠9转动，使得搅拌轴2的运转更加稳定，能够有效延长搅拌轴2的使用寿命；通过第二搅拌桨4与导轨5的配合能够实现对搅拌轴2 二次限位，进一步增强了搅拌轴2的稳定性。另外，设置第一搅拌桨3与第二搅拌桨4能够使得搅拌更加均匀，有助于调高反应速率。
【主权项】
1.一种反应釜搅拌轴定位机构，包括反应釜(I)，在所述反应釜(I)内设置有搅拌轴(2)，该搅拌轴(2)的上部伸出所述反应釜(I)的釜体，其特征在于:所述搅拌轴(2)上分别安装有第一搅拌桨(3)与第二搅拌桨(4)，所述第一搅拌桨(3)位于所述第二搅拌桨(4)的上方，在所述反应釜(I)的底部固定有一圈导轨(5)，所述第二搅拌桨(4)的自由端伸入所述导轨(5)中，在所述反应釜(I)底部的中心固定有底座￠)，该底座(6)上开设有安装槽，在所述安装槽内由下到上依次设置有底板(7)与限位盘(8)，在所述限位盘(7)的上表面与下表面均开设有至少三个滚珠坑，在所述滚珠坑内放置有滚珠(9)，在所述底座(6)上盖装有压板(10)，所述限位盘(8)的上表面通过滚珠(9)与所述压板(10)接触，所述限位盘(8)的下表面通过滚珠(9)与所述底板(7)接触，所述搅拌轴(2)的下端穿过所述压板(10)与所述限位盘⑶固定连接。
2.根据权利要求1所述的反应釜搅拌轴定位机构，其特征在于:所述第一搅拌桨(3)与第二搅拌桨(4)均呈弧形结构，其中，所述第一搅拌桨(3)的敞口端朝上，所述第二搅拌桨(4)的敞口端朝下。
3.根据权利要求1所述的反应釜搅拌轴定位机构，其特征在于:在所述搅拌轴(2)上穿设有轴承(11)，在所述压板(10)上设置有与所述轴承(11)相配合的轴承套(12)。
4.根据权利要求1所述的反应釜搅拌轴定位机构，其特征在于:所述滚珠坑沿圆周均匀分布在所述限位盘(8)上。
【专利摘要】本实用新型公开了一种反应釜搅拌轴定位机构，包括反应釜与搅拌轴，该搅拌轴的上部伸出所述反应釜的釜体，所述搅拌轴上分别安装有第一搅拌桨与第二搅拌桨，在所述反应釜的底部固定有一圈导轨，所述第二搅拌桨的自由端伸入所述导轨中，在所述反应釜底部的中心固定有底座，在该底座内由下到上依次设置有底板与限位盘，在所述限位盘的上表面与下表面均开设有至少三个滚珠坑，在所述滚珠坑内放置有滚珠，在所述底座上盖装有压板，所述搅拌轴的下端穿过所述压板与所述限位盘固定连接。其显著效果是：本机构将搅拌轴的下端多次限位，在搅拌轴工作运转时更加稳定；设置第一与第二搅拌桨，使得搅拌更加均匀。
【IPC分类】B01F7-16, B01J19-18, B01F15-00
【公开号】CN204365284
【申请号】CN201420748244
【发明人】谭光明
【申请人】重庆太岳科技有限公司
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2014年12月3日