滑动组件的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本发明设及一种由汽缸衬垫和活塞环组成的滑动组件。
[0002] 汽缸衬垫包括内壁，该内壁的接触表面的粗糖度显示变化，W致考虑到活塞在衬 垫内部的往复运动，中央部分显示的粗糖度低于通过活塞冲程的两个边界部分显示的粗糖 度。相应地，活塞环显示通过PVD(物理气相沉积)法沉积的陶瓷涂层，并且该涂层与衬垫的 接触表面的特性一起确保环的良好的耐磨性。
【背景技术】
[0003] 在内燃机中，活塞环最大的磨损凭借更大的接触压力发生在自由末端(顶端)或附 近区域。
[0004] 更详细的描述，环的顶端的磨损可最多比该部分其他区域发生的高出=倍，涂层 的剥落和剥离现象在运一点发生的十分集中。
[000引已发展的不同技术的目的在于减少活塞环末端的运种磨损，但是，运些技术的基 础/集中仅仅是活塞环。为汽缸很多发展的不同技术通常设及减少摩擦。
[0006] 第一个发展在申请人产权的专利DE 102006057111的情况下公开，设及活塞衬垫， 其中粗糖度根据活塞在活塞衬垫内壁位移的长度变化。更加详细的，临近活塞在沿着头的 方向上最大行程的部分具有包括第一粗糖度的区域，并且就活塞的行程而言，衬垫的中央 区域显示第二粗糖度。在衬垫的工作表面的中间部分，粗糖度值超过末端的粗糖度值。但 是，运份文件仅仅集中于衬垫的规格，运份文件没有与在内部滑动的环的类型相联系，高峰 和山谷(化k、Rk和Rvk值)在衬垫表面上的分布就不会详细规定。
[0007] 专利文件DE 102009010791公开一种汽缸衬垫，该汽缸衬垫提供的末端的粗糖度 值比中央区域的粗糖度值高。但是，用于获得运些结构的方法导致产生更大和更浅的凹槽 (其间的深度变化很大），缩小该溶液作为润滑油积累口袋的潜在有效性。但是此外，运份文 件仅仅集中于衬垫的规格，没有与在内部滑动的环的类型相联系。
[000引专利文件DE 19605588设及一种汽缸衬垫，关于该汽缸衬垫的内表面在末端显不 的粗糖度值比中央部分更大。但是，为实现运个结果，使用包括处理末端区域表面的一些技 术参数的巧磨方法，在中央区域使用不同的参数。而且，运份文件仅仅集中于衬垫的规格， 运份文件没有与在内部滑动的环的类型相联系。
[0009] 专利文件肝2004/176556限定一种汽缸衬垫，关于该汽缸衬垫的凹槽之间的角度 可变，在活塞行程的末端的角度（角度a)比在中央部分的角度（角度T )大。在中间部分，中 央部分和各个末端之间的角度(e)在中间。
[0010] 最后，专利文件FR 2884889设及一种汽缸衬垫，关于该汽缸衬垫的滑动表面显示 =个粗糖度值，为（i)第一值SI,在面向头的末端部分、中央部分和相反的末端更低（更光 滑），（i i)中等粗糖度的第二粗糖度值S2，应用在面向头的末端部分和中央部分之间和，最 后，（iii)第=高的粗糖度值S3，应用在中央部分和与面向头的末端相反的末端部分之间。 在运里，也仅仅集中于衬垫的规格，运份文件没有与在内部滑动的环的类型相联系。
[0011] 目的在于减少运种磨损，申请人发展了目前的滑动组件，其中汽缸衬垫包括接触 表面的粗糖度会显示变化的内壁，W致考虑到活塞在衬垫内部的往复运动，中央部分显示 的粗糖度低于通过活塞冲程的两个边界部分(上止点，TDC和下止点，BDC)显示的粗糖度。在 目前的解决方法中，在粗糖度变化时，限定粗糖度的凹槽和突出（"山谷"和"高峰"）结构大 体上是统一的，就作为来储油而言允许对凹槽有更多的研究和更高的效率。
[0012] 就活塞环而言，活塞环具有通过PVD(物理气相沉积)法应用的陶瓷涂层，并且该涂 层与衬垫的接触表面的上述特性一起确保良好的耐磨性。
【发明内容】
[0013] 本发明的目的为由汽缸衬垫和活塞环形成的滑动组件，其中汽缸衬垫具有接触表 面的粗糖度会显示变化的内壁，W致考虑到活塞在衬垫内部的往复运动，中央部分显示的 粗糖度低于通过邻近活塞冲程的两个部分(特别是邻近上止点，TDC)显示的粗糖度，由此可 致使减少对活塞环的磨损，该活塞环显示通过PV的去应用的陶瓷涂层。
[0014] 此外，本发明的目的在于由汽缸衬垫和活塞环形成的滑动组件，其中汽缸衬垫具 有接触表面的粗糖度会显示变化的内壁，W致考虑到活塞在衬垫内壁的往复运动，中央部 分显示的粗糖度低于通过活塞冲程的两个边界部分(特别是邻近上止点，TDC)显示的粗糖 度，在邻近TDC的区域存在最深的凹槽r山谷"）结构由此可致使减少提供有通过PV的去应用 的陶瓷涂层的活塞环的磨损，特别是因为剥落。
[0015] 本发明的目的通过用于内燃机的滑动组件实现，包括汽缸衬垫和至少一个活塞 环，衬垫提供有限定内表面的通腔，内表面相应的限定=个部分，为邻近活塞冲程边界的第 一部分，面向发动机的头(邻近上止点，TDC)，第二、中央部分，和邻近活塞冲程边界的第S 部分，面向发动机的曲轴(邻近上止点，TDC)，其中：
[0016] (i)衬垫的TDC部分显示表面光洁度，包括由凹槽和突出（"山答'和"高峰'）结构限 定的第一粗糖度值；衬垫的中央部分显示表面光洁度，包括由凹槽和突出（"山谷"和"高 峰"）结构限定的第二粗糖度值；衬垫（1)的BDC部分显示表面光洁度，包括由凹槽和突出 ("山谷"和"高峰"）结构限定的第S粗糖度值，中央部分显示的粗糖度值大体上低于TDC部 分的粗糖度值，并且包括凹槽和突出（"山谷"和"高峰"）结构将其大体上限定为统一;和
[0017] (ii)活塞环显示至少部分接触表面，陶瓷涂层通过物理气相沉积法(PVD)应用至 该部分接触表面。
【附图说明】
[0018] 本发明将在下面基于附图所表示的实施方式的示例W更加详细的方式描述。
[0019] 附图示出：
[0020] 图1为部分由本发明的目的滑动组件形成的汽缸衬垫的横截面视图。
[0021] 图2为图1中示出的衬垫的示意图，示出滑动表面沿着其纵向长度的粗糖度的示意 性表示。
[0022] 图3为图1和2中示出的衬垫的示意图，示出滑动表面沿着其纵向长度的粗糖度的 示意性表示，和呈现不同部分的平均粗糖度值的图表。
[0023] 图4为衬垫和属于本发明的目的滑动组件的活塞环的横截面示意图，环安装在活 塞的槽中。
[0024] 图5为部分汽缸衬垫和由部分本发明的目的滑动组件形成的活塞环的放大横截面 示意图。
[0025] 图6为汽缸衬垫的表面上活塞/环的摩擦系数y和位移速度之间关系的图表，考虑 到巧磨的不同角度。
[0026] 图7为示出油膜厚度作为曲轴角度的函数变化的图表，考虑到有高粗糖度(平稳）、 低粗糖度(滑动）的汽缸衬垫和本发明的技术对象，其中接触表面的粗糖度会变化，W致中 央部分显示的粗糖度低于通过活塞冲程的上边界部分(邻近上止点，TDC)显示的粗糖度。
[0027] 图8为示出摩擦耗散功率作为曲轴角度的函数变化的图表，考虑到有高粗糖度(平 稳）、低粗糖度(滑动）的汽缸衬垫和本发明的技术对象，其中接触表面的粗糖度会变化，W 致中央部分显示的粗糖度低于通过活塞冲程的上边界部分(邻近上止点，TDC)显示的粗糖 度。
【具体实施方式】
[0028] 本发明设及一种提供有都是特殊发展过的汽缸衬垫1和至少一个活塞环10的滑动 组件，其中汽缸衬垫限定接触表面的粗糖度会显示变化的内壁，W致考虑到环在衬垫内部 的往复运动，中央部分显示的粗糖度低于通过