专利名称：电镀挂架的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种电镀挂架，特别是涉及一种可改善电镀均一性的 电镀挂架。
背景技术：
在工业上，电镀是一种常见的表面处理方法，其可在物件的表面上沉积金属镀层，以改变物件的表面性质或尺寸，例如提供金属光泽美观、防 锈性、防磨耗、提高导电度、润滑性、强度、耐热性、耐候性、热处理的 防止渗碳、氮化、尺寸错误或磨耗的另件的修补等。以高尔夫球杆头的表面电镀处理为例，现有高尔夫球杆头为提升高尔 夫杆头的美观、防锈性及耐蚀性，通常需利用电镀或无电解电镀(Electroless Plating)方式在高尔夫杆头的表面形成一镀层，以避免高尔夫杆头发生生锈 或腐蚀的缺陷，并增加高尔夫杆头的美观。当进行电镀时，高尔夫球杆头预 先插置于一电镀挂架上，电镀挂架再挂置于一电镀槽内来进行电镀。然而，当镀件(例如高尔夫杆头)进行电镀时，容易发生镀件的镀层均 一性不佳的问题，亦即镀层厚度分布不均勻。例如高尔夫杆头可能容易在 管柄处具较厚的镀层，其主要因在进行电镀时高尔夫杆头的管柄处具有较 高的电流密度，导致镀件(高尔夫杆头)的整体镀层厚度分布不均，因而影 响电4度品质。由此可见，上述现有的电镀挂架在结构与使用上，显然仍存在有不便 与缺陷，而亟待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题,相关厂商莫不 费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而 一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解 决的问题。因此如何能创设一种新型的电镀挂架，实属当前重要研发课题之 一，亦成为当前业界极需改进的目标。有鉴于上述现有的电镀挂架存在的缺陷，本设计人基于从事此类产品 设计制造多年丰富的实务经验及专业知识，并配合学理的运用，积极加以研 究创新，以期创设一种新型的电镀挂架，能够改进一般现有的电镀挂架，使 其更具有实用性。经过不断的研究、设计，并经过反复试作样品及改进后， 终于创设出确具实用价值的本实用新型。发明内容本实用新型的目的在于，克服现有的电镀挂架存在的缺陷，而提供一 种新型的电镀挂架，所要解决的技术问题是使其可形成均流结构，借以改 善电镀均一性和确保电镀品质，非常适于实用。本实用新型的目的及解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现 的。为达到上述目的，依据本实用新型的电镀挂架，用以承载至少一镀件于一电镀槽内来进行电镀，该电镀挂架至少包含 一主体，设有一挂钩， 以挂置于该电镀槽内，并允许导入电流；至少一支承部，设置于该主体上， 用以承置该镀件，并允许电流由该支承部导入该镀件；以及至少一均流结 构，形成于该支承部的至少一侧，用以在进行电镀时改变该支承部的周围 的电流密度。前述的电镀挂架，其中所述的电镀挂架还至少包含 一绝缘层，形成 该主体的表面，其中该绝缘层是以塑胶材料、橡皮或蜡所形成。前述的电镀挂架，其中该主体为直脊骨型、混合脊骨型、箱型或T型 主体。前述的电镀挂架，其中该主体还设有二均流件，其分别设置于该主体 的上、下两侧，以均匀该电镀槽内的上、下侧的电流密度。 前述的电镀桂架，其中该支承部由二倒勾结构所组成。 前述的电镀挂架，其中该支承部与该主体之间具有 一预设角度。 前述的电镀挂架，其中该镀件为至少一高尔夫球杆头。 前述的电镀挂架，其中该均流结构为至少一环状结构，其套置于该支 承部上。前述的电镀桂架，其中该均流结构为至少一棒状结构，其由该主体延 伸出，并平行于该支承部。前述的电镀挂架，其中该均流结构设置于该支承部上，并由该支承部 延伸出。前述的电镀挂架，其中该均流结构由二半圆环状结构所组成。 前述的电镀挂架，其中该均流结构是一弧形片状结构，其平行于该支 承部，并形成于该支承部的至少一侧。前述的电镀挂架，其中该均流结构是一螺旋结构，其套置于该支承部上。本实用新型的目的及解决其技术问题还采用以下技术方案来实现。为 达到上述目的，依据本实用新型的电镀挂架，用以承载至少一高尔夫球杆 头于一电镀槽内来进行电镀，其中该电镀挂架至少包含 一主体，设有一 挂钩，以挂置于该电镀槽内，并允许导入电流；至少一支承部，设置于该主体 上，用以供该高尔夫球杆头的一管柄来套置，并允许电流由该支承部导入 该高尔夫球杆头；以及至少一均流结构，形成于该支承部的至少一侧，用以在进行电镀时改变该支承部的周围的电流密度。本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技 术方案，本实用新型电镀挂架至少具有下列优点及有益效果根据本新型的实施例，此电镀挂架用以承载至少 一镀件于电镀槽内来进行电镀，其中电镀挂架至少包含有主体、支承部及均流结构。主体设有 挂钩，以挂置于电镀槽内，并允许导入电流。支承部设置于主体上，用以 承置镀件，并允许电流由支承部导入镀件。均流结构形成于支承部的至少 一侧，用以在进行电镀时改变支承部的周围的电流密度。又，根据本新型 的实施例，上述镀件为至少一高尔夫球杆头。因此，本新型的电镀挂架可 形成均流结构来改善电镀均一性，确保电镀品质。上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为能更清楚了解本实用新 型的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为让本实用新型的 上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配 合附图，详细说明如下。
图1绘示依照本新型的第一实施例的电镀挂架在电镀槽内的剖面示意图。图2A和图2B绘示依照本新型的第一实施例的电镀挂架的局部剖面示 意图。图3绘示依照本新型的第二实施例的电镀挂架的局部侧面示意图。 图4A和图4B绘示依照本新型的第三实施例的电镀挂架的局部剖面示 意图。图5绘示依照本新型的第三实施例的电镀挂架的局部侧视示意图。 图6绘示依照本新型的第四实施例的电镀挂架的局部侧面示意图。 图7绘示依照本新型的第五实施例的电镀挂架的局部侧面示意图。主要元件符号说明101:导电棒 100:电镀桂架 110:主体 111:挂钩 112:均流件 113:提把 120:支承部130、 130a、 130b、 130c、 130d:均流结构210:管柄300:电镀槽具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定发明目的所采取的技术手段及 功效，
以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型提出的电镀挂架其具 体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。请参照图l至图2B,图l绘示本新型的第一实施例的电镀挂架在电镀槽 内的剖面示意图，图2A和图2B绘示本新型的第一实施例的电镀挂架的局部 剖面示意图。本实施例的电镀桂架100用以承载至少一镀件200于电镀槽 300内来进行电镀，以形成一镀层于镀件200的表面上。电镀挂架100较佳 可同时承载多个镀件200来进行电镀，以提升电镀效率。电镀挂架100至少 包含有主体110、至少一支承部120、至少一均流结构130及绝缘层140。 支承部120设置于主体110上，以承置镀件200。均流结构130形成于支承 部120的至少一侧，用以在进行电镀时改变支承部120的周围的电流密度， 借以均勻化镀件200的镀层的厚度，提升电镀均一性。绝缘层140较佳是以 电性绝缘材料(例如塑胶、橡皮或蜡)所形成，并形成于非预设电镀处，例 如主体110的表面或部分均流结构130的表面，以避免镀层形成于非镀 件200的表面，避免耗费镀层的材料。如图1所示，本实施例的主体110可例如为直脊骨型、混合脊骨型、箱 型或T型主体。在本实施例中，电镀挂架IOO是以T型主体来举例说明，然 不限于此。主体110较佳是导电材料所制成，例如铜、钢、铅、镍或其 合金，以传导电流至镀件200。主体IIO设有挂钩111、 二均流件1U及提 把113，挂钩111用以挂置电镀挂架100于一导电棒101上，而导电棒IOI电 性连接于电源(未绘示)，以提供电流。二均流件112分别设置于主体110的 上、下两侧，借以当电镀挂架IOO挂置于于电镀槽300内来进行电镀时，均 流件112可均匀电镀挂架100的上下电流密度，提升电镀挂架100的电镀 均一性。其中导电棒101可电性连接电源的负极，而一待电镀的材料(亦即 电镀镀层的材料)电性连接电源的正极，以进行电化学反应，而电镀于镀件 200的表面上。提把113设置于电镀挂架100的上方，借以供握持，因而可 方便挂置或提起电镀挂架100。如图2A和图2B所示，本实施例的支承部120连接于主体110,且较佳 是导电金属材料所制成，以承置镀件200,并传导电流至镀件200。在本实 施例中，支承部120是由二倒勾结构所组成，借以供镀件200来套置，并弹性抵撑镀件200，以稳固地支持镀件200于电镀挂架IOO上。支承部120 较佳是与主体IIO之间具有一预设角度，借以在电镀时方便气泡逸出。如图2A和图2B所示，本实施例的均流结构130较佳是导电金属材料 所制成，借以在电镀时改变支承部120的周围的电流密度，进而均匀化镀 件200所电镀的镀层厚度。在本实施例中，均流结构130可为至少一环状 结构，其套置于支承部120上。因此，当进行电镀时，镀件200可承置于 电镀挂架100的支承部120上，而挂置于电镀槽300内来进行电镀，并借 由支承部120周围的均流结构130来均匀化镀件200所镀上的镀层厚度。以电镀高尔夫球杆头为例，镀件200为至少一高尔夫球杆头，高尔夫 球杆头的管柄210可套置电镀挂架100的支承部120上，此时，由于支承 部120周围形成有均流结构130,因而可在进行电镀时改变支承部120的周 围的电流密度，并均匀化高尔夫球杆头(镀件200)所镀上的镀层厚度，以确 保电镀品质和均一性。因此，本实施例的电镀挂架IOO可承载镀件200,并桂置于电镀槽300 内来进行电镀，且借由均流结构130来改善电镀均一性，以确保电镀品质。请参照图3,其绘示依照本新型的第二实施例的电镀挂架的局部侧面示 意图。以下仅就本实施例与第一实施例的相异处进行说明，关于相似处在 此不再赘述。相较于第一实施例，第二实施例的均流结构130a可为至少一 棒状结构，其可由主体110延伸出，并平行于支承部120,因而形成均流结 构130a于支承部120的至少一侧，以改变支承部120的周围的电流密度，均 匀化镀件200的镀层厚度。请参照图4A至图5,图4A和图4B绘示依照本新型的第三实施例的电 镀桂架的局部剖面示意图，图5绘示依照本新型的第三实施例的电镀挂架的 局部侧视示意图。以下仅就本实施例与第 一 实施例或第二实施例的相异处 进行说明，关于相似处在此不再赘述。相较于第一实施例或第二实施例，第 三实施例的均流结构130b设置于支承部120上(例如图4A的环状结构或图 4B的棒状结构)，均流结构130b可由支承部120延伸出，并形成于支承部 120的至少一侧。当均流结构130b例如为环状结构时，均流结构130b例如 可以由二半圆环状结构所组成(如图5所示)。请参照图6，其绘示依照本新型的第四实施例的电镀挂架的局部侧面示 意图。以下仅就本实施例与第一实施例的相异处进行说明，关于相似处在此不再赘述。相较于第一实施例，第四实施例的均流结构noc可为弧形片状结构，例如由金属薄片所制成，金属薄片较佳设有多个孔，其平行于支 承部120，并形成于支承部120的至少一侧，以改变支承部120的周围的电 流密度，均勾化镀件200的镀层厚度。请参照图7，其绘示依照本新型的第五实施例的电镀挂架的局部侧面示意图。以下仅就本实施例与第一实施例的相异处进行说明，关于相似处在 此不再赘述。相较于第一实施例，第五实施例的均流结构130d可为一螺旋 结构，其套置于支承部120上，因而环设于支承部120的周围，以改变支 承部120的周围的电流密度，均匀化镀件200的镀层厚度。由上述本实用新型的实施例可知，本实用新型的电镀挂架可借由形成 均流结构来改善电镀均一性，以确保电镀品质。以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作 任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非 用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型 技术方案范围内，当可利用上述揭示的结构及技术内容作出些许的更动或 修饰为等同变化的等效实施例，但是凡是未脱离本实用新型技术方案的内化与修饰，^均仍属于本实用1斤型技术^:的范围内、。口0 ' 权利要求1.一种电镀挂架，用以承载至少一镀件于一电镀槽内来进行电镀，其特征在于该电镀挂架至少包含一主体，设有一挂钩，以挂置于该电镀槽内，并允许导入电流；至少一支承部，设置于该主体上，用以承置该镀件，并允许电流由该支承部导入该镀件；以及至少一均流结构，形成于该支承部的至少一侧，用以在进行电镀时改变该支承部的周围的电流密度。
2. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于所述的电镀挂架还至 少包含 一绝缘层，形成该主体的表面，其中该绝缘层是以塑胶材料、橡 皮或蜡所形成。
3. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该主体为直脊骨 型、混合脊骨型、箱型或T型主体。
4. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该主体还设有二 均流件，其分别设置于该主体的上、下两侧，以均匀该电镀槽内的上、下 侧的电流密度。
5. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该支承部由二倒 勾结构所组成。
6. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该支承部与该主 体之间具有一预设角度。
7. 如权利要求1所述的电镀桂架，其特征在于其中该镀件为至少一高尔夫球杆头。
8. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该均流结构为至 少一环状结构，其套置于该支承部上。
9. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该均流结构为至 少一棒状结构，其由该主体延伸出，并平行于该支承部。
10. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该均流结构设 置于该支承部上，并由该支承部延伸出。
11. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该均流结构由 二半圆环状结构所组成。
12. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该均流结构是 一弧形片状结构，其平行于该支承部，并形成于该支承部的至少一侧。
13. 如权利要求1所述的电镀挂架，其特征在于其中该均流结构是 一螺旋结构，其套置于该支承部上。
14. 一种电镀挂架，用以承载至少一高尔夫球杆头于一电镀槽内来进行电镀，其特征在于其中该电镀挂架至少包含一主体，设有一挂钩，以挂置于该电镀槽内，并允许导入电流； 至少一支承部，设置于该主体上，用以供该高尔夫球杆头的一管柄来套置，并允许电流由该支承部导入该高尔夫球杆头；以及至少一均流结构，形成于该支承部的至少一侧，用以在进行电镀时改变该支承部的周围的电流密度。
专利摘要本实用新型是有关于一种电镀挂架，用以承载至少一镀件于电镀槽内来进行电镀。此电镀挂架至少包含有主体、支承部及均流结构。主体用以挂置于电镀槽内，并允许导入电流。支承部设置于主体上，用以承置镀件，并允许电流由支承部导入镀件。均流结构形成于支承部的至少一侧，用以在进行电镀时改变支承部的周围的电流密度。本实用新型的电镀挂架可形成均流结构来改善电镀均一性，确保电镀品质。
文档编号C25D17/08GK201169648SQ200820001860
公开日2008年12月24日 申请日期2008年1月21日 优先权日2008年1月21日
发明者曾永富 申请人:楠盛股份有限公司;复盛股份有限公司