技术特征：
1.一种镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，采用三电极体系在钢基材上通过恒电位沉积制备镍
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铈复合薄膜；沉积电解液为水基电解液，其组分浓度为：0.04m～1.2m niso4·
6h2o，0.01m～0.2m nicl2·
6h2o，0.1m～0.7m硼酸，0.03m～0.15m ce(no3)3·
6h2o，0.05m～0.15m ch3coonh4；所述恒电位为
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0.5～
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0.9v；沉积时的光照强度为200000～250000lux。2.根据权利要求1所述的镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述钢基材为q235低碳钢。3.根据权利要求1所述的镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述沉积温度为30
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60℃，沉积时间为30
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120min。4.根据权利要求1所述的镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，在所述沉积前还包括对钢基材进行预处理的步骤。5.根据权利要求4所述的镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述预处理包括打磨、抛光的步骤。6.根据权利要求1所述的镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述沉积完成后还包括对制备的镍
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铈复合薄膜进行清洗并干燥的步骤。7.根据权利要求1所述的镍
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铈复合薄膜的制备方法，其特征在于，所述三电极体系中，工作电极为钢基材，参比电极为饱和甘汞电极，对电极为铂片电极。8.一种如权利要求1
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7任一项制备方法制备的镍
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铈复合薄膜。