点阵的制备方法_2

文档序号:9467283阅读:来源:国知局

[0036] 似Si〇2溶胶的制备:将11. 60血的去离子水与2mol/L的硝酸0.Imr混合,揽拌使 其均匀,然后边揽拌边向21. 33mL正娃酸乙醋中滴加硝酸酸化的水溶液,随着揽拌的持续 进行,揽拌时间为30min,揽拌溫度40°C最终形成Si〇2溶胶;(正娃酸乙醋、去离子水和硝酸 的体积比为1:0. 54:0. 005)
[0037] 做将Si〇2溶胶粘度为O.OOlPa's,20°C时,滴入装有表面具有纳米坑阵列的 31化SS的小玻璃瓶中,坑径为50皿,静置2地。
[0038] (4)取出所得样品,用去离子水和乙醇反复冲洗数次后在35°C干燥lOh。
[0039] (5)在氮气氛围下,将样品在马弗炉中300°C赔烧,升溫速率2°C/分钟,300°C下保 溫化; 柳4〇] (6)将表面具有纳米坑阵列的31化SS、31化SS表面纳米Si化点阵分别用邸S进行 表征,如图1、图2、图3、图4和表1所示。其中,图1和图2表明,利用31化SS的表面纳米 坑阵列,制备了纳米Si化点阵;图3、图4和表1表明,制备的31化SS表面纳米SiO2点阵的 纳米颗粒为Si〇2。
[0041] 表1不诱钢表面纳米坑阵列负载Si02前后Si原子数百分比
[0042] 柳43] 实施例2
W44] (1) 31化SS表面纳米坑阵列的制备:将31化SS于高氯酸、乙二醇的混合液(V:V= 1:19)中,于2°C,40V阳极氧化llmin,坑径为70nm。 W45] 似Si〇2溶胶的制备:将13. 7血的去离子水与2mol/L的硝酸0. 15mr混合,揽拌使 其均匀,然后边揽拌边向17. 4mL正娃酸甲醋中滴加硝酸酸化的水溶液,随着揽拌的持续进 行,揽拌时间为40min,揽拌溫度为20°C,最终形成Si〇2溶胶(正娃酸乙醋、去离子水和硝 酸的体积比为1:0. 79:0. 009)。
[0046] (3)将Si〇2溶胶粘度为0.002Pa-s,30°C时,滴入装有表面具有纳米坑阵列的 31化SS的小玻璃瓶中,坑径为70皿,静置1她。
[0047] (4)取出所得样品,用去离子水和乙醇反复冲洗数次后在140°C干燥比。 W48] 巧)在氮气氛围下,将样品在马弗炉中500°C赔烧,升溫速率rc/分钟,450°C下保 溫化。 W例实施例3
[0050] (1) 31化SS表面纳米微坑阵列的制备:将31化SS于高氯酸、乙二醇的混合液(V:V =1:25)中,于0°C,70V阳极氧化30s,坑径为150nm。
[0051] (2)Si〇2溶胶的制备:将27. 4mL的去离子水与2mol/L的硝酸0. 5ml混合,揽拌使 其均匀,然后边揽拌边向27. 4mL正娃酸乙醋中滴加硝酸酸化的水溶液,随着揽拌的持续进 行,揽拌时间为30min,揽拌溫度5°C,最终形成Si〇2溶胶(正娃酸乙醋、去离子水和硝酸的 体积比为1:1:0. 018)。
[0052] (3)将Si〇2溶胶粘度为0.002Pa-s,30°C时,滴入装有表面具有纳米坑阵列的 31化SS的小玻璃瓶中,坑径为150皿,静置地。
[0053] (4)取出所得样品,用去离子水和乙醇反复冲洗数次后在65°C干燥化。
[0054] 妨在氮气氛围下,将样品在马弗炉中8〇o°c赔烧,升溫速率rc/分钟,800°C下保 溫化。
【主权项】
1. 一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,包括: (1) 将316L不锈钢在高氯酸的乙二醇电解液中进行阳极氧化,得到表面具有纳米坑阵 列的316L不锈钢;其中,高氯酸与乙二醇的体积比为1:15~25 ;阳极氧化时体系的温度 为-5。。~KTC; (2) 将硝酸加入到去离子水中,搅拌,然后在搅拌条件下加入到硅源中,搅拌反应,得到 SiO2溶胶;其中,硅源、去离子水与硝酸的体积比为1 :0. 4~1 :0. 005~0. 02 ; (3) 步骤⑵中的SiO2溶胶在5°C~40°C下滴加到步骤⑴的表面具有纳米坑阵列的 316L不锈钢中,静置,清洗,干燥,在保护气氛围下,焙烧,得到316L不锈钢表面纳米SiO2A 阵。2. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(1)中阳极氧化的电压为20V~70V,时间为30s~15min。3. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(1)中表面具有纳米坑阵列的316L不锈钢的坑径为50nm~150nm。4. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(2)中硝酸的浓度为2mol/L;硅源为正硅酸乙酯、正硅酸甲酯或正硅酸丁酯。5. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(2)中搅拌反应的温度为5°C~40°C,时间为30min~50min。6. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(3)中SiO2溶胶的粘度为0?OOlPa?s~0? 003Pa?s。7. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(3)中静置的时间为4~24h;清洗为用乙醇和去离子水反复清洗。8. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(3)中干燥的温度为35°C~140°C,时间为Ih~10h。9. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(3)中保护气为氮气或氩气。10. 根据权利要求1所述的一种316L不锈钢表面纳米SiO2A阵的制备方法,其特征在 于,所述步骤(3)中焙烧温度为300°C~600°C,升温速率为1°C/min~4°C/min,焙烧时间 为3h~6h。
【专利摘要】本发明涉及一种316L不锈钢表面纳米SiO2点阵的制备方法,包括:将316L不锈钢在高氯酸的乙二醇电解液中进行阳极氧化,得到表面具有纳米坑阵列的316L不锈钢;将2mol/L的硝酸加入到去离子水中,搅拌,然后在搅拌条件下加入到硅源中,搅拌反应,得到SiO2溶胶;SiO2溶胶在5℃~40℃下滴加到表面具有纳米坑阵列的316L不锈钢中,静置4~24h,清洗,干燥,在保护气氛围下,焙烧,得到316L不锈钢表面纳米SiO2点阵。本发明制备方法简单有效,环境友好,成本低廉;得到的SiO2纳米颗粒粒径均一且分布有序,纳米SiO2点阵结构规整有序、密度高。
【IPC分类】C25D11/34, B82Y40/00, C23C18/12
【公开号】CN105220203
【申请号】CN201510718248
【发明人】倪似愚, 杨朋安, 刘玉昆
【申请人】东华大学
【公开日】2016年1月6日
【申请日】2015年10月29日
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1