本发明涉及离心泵技术领域,尤其涉及一种可预防气蚀现象的离心泵。
背景技术:
离心泵起动前应先往泵里灌满水,起动后旋转的叶轮带动泵里的水高速旋转,水作离心运动,向外甩出并被压入出水管。水被甩出后,叶轮附近的压强减小,在转轴附近就形成一个低压区。这里的压强比大气压低得多,外面的水就在大气压的作用下,冲开底阀从进水管进入泵内。冲进来的水在随叶轮高速旋转中又被甩出,并压入出水管。叶轮在动力机带动下不断高速旋转,水就源源不断地从低处被抽到高处。
目前,现有的离心泵工作时会发生气蚀现象,气蚀现象主要由于泵入口流体温度过高,压力太低,造成泵内液体汽化,冲击叶轮,严重时出现不上量的现象,如泵进口温度过高,发生汽化及循环冷却水的开度小,不能起到冷却的作用,入口液位太低,入口管路堵塞以及吸入管线有泄漏点,都会引发气蚀现象。
技术实现要素:
为解决上述问题,本发明公开了一种可预防气蚀现象的离心泵,在通过增设气蚀预防组件,并结合半导体制冷片的高效制冷效果,有效降低了离心泵进液口的液体温度,起到了预防气蚀现象发生的效果。
为了达到以上目的,本发明提供如下技术方案:
一种可预防气蚀现象的离心泵,其特征在于:包括离心泵主体和气蚀预防组件,所述离心泵主体包括离心泵壳体和和配合安装在离心泵壳体内的叶轮,所述离心泵壳体的左端和上端分别开设有与离心泵壳体内腔相连通的进液口和出液口;所述气蚀预防组件配合安装在离心泵主体的左侧,所述气蚀预防组件包括安装壳体,所述安装壳体的内腔底部配合安装有水平设置的半导体制冷片,所述半导体制冷片的制冷面朝上设置,且制冷面上均布有竖直设置的导温柱,所述半导体制冷片的散热面中部连接有散热柱,所述散热柱的下端伸出安装壳体。
进一步的,所述安装壳体为中空的长方体结构。
进一步的,所述安装壳体的左右两端中部配合安装有连接筒,所述连接筒与安装壳体的内腔连通,置于安装壳体右端的连接筒与离心泵壳体的进液口配合连接。
进一步的,所述安装壳体的内腔底部设有与半导体制冷片外形相适配的安装槽。
进一步的,所述导温柱为铜导温柱。
进一步的,所述气蚀预防组件还包括散热组件。
进一步的,所述散热组件配合安装在安装壳体的底部,包括外壳,所述外壳内设有散热板和风扇,所述散热板水平设置,其顶面中部与散热柱的下端固定连接,所述风扇置于散热板的下方。
进一步的,所述外壳上均布有散热孔。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:结构合理,通过增设气蚀预防组件,采用半导体制冷片的高效制冷效果,有效降低了离心泵进液口的液体温度,起到了预防气蚀现象发生的作用;半导体制冷片的制冷面上采用均匀分布的导温柱,有效提高了降温效果。
附图说明
图1为本发明一种可预防气蚀现象的离心泵的结构示意图。
附图标记列表:
1-离心泵壳体,2-叶轮,3-安装壳体,4-半导体制冷片,5-导温柱,6-散热柱,7-连接筒,8-外壳,9-散热板,10-风扇。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式,进一步阐明本发明,应理解下述具体实施方式仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。需要说明的是,下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向,词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
如图所示,一种可预防气蚀现象的离心泵,包括离心泵主体和气蚀预防组件,离心泵主体包括离心泵壳体1和和配合安装在离心泵壳体1内的叶轮2,离心泵壳体1的左端和上端分别开设有与离心泵壳体1内腔相连通的进液口和出液口;气蚀预防组件配合安装在离心泵主体的左侧,气蚀预防组件包括安装壳体3,安装壳体3的内腔底部配合安装有水平设置的半导体制冷片4,半导体制冷片4的制冷面朝上设置,且制冷面上均布有竖直设置的导温柱5,半导体制冷片4的散热面中部连接有散热柱6,散热柱6的下端伸出安装壳体3。
在本实施例中,安装壳体3为中空的长方体结构。
在本实施例中,安装壳体3的左右两端中部配合安装有连接筒7,连接筒7与安装壳体3的内腔连通,置于安装壳体3右端的连接筒7与离心泵壳体1的进液口配合连接。
在本实施例中,安装壳体3的内腔底部设有与半导体制冷片4外形相适配的安装槽。
在本实施例中,导温柱5为铜导温柱。
在本实施例中,气蚀预防组件还包括散热组件。
在本实施例中,散热组件配合安装在安装壳体3的底部,包括外壳8,外壳8内设有散热板9和风扇10,散热板9水平设置,其顶面中部与散热柱6的下端固定连接,风扇10置于散热板9的下方。
在本实施例中,外壳8上均布有散热孔。
本发明通过增设气蚀预防组件,采用半导体制冷片4的高效制冷效果,有效降低了离心泵进液口的液体温度,起到了预防气蚀现象发生的作用;半导体制冷片4的制冷面上采用均匀分布的导温柱5,有效提高了降温效果。
本发明方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段,还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。