一种转速随真空度变化的自主调节方法、系统及装置与流程

1.本技术涉及真空技术领域，具体涉及一种转速随真空度变化的自主调节方法、系统及装置。


背景技术：

2.随着科学技术的发展，真空技术在科研和工业等方面应用的越来越多，分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子，使之获得定向速度，从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种真空泵。分子泵是现代获得高真空及超高真空条件的主要设备之一，能够为用户提供便捷的高真空条件。
3.在实际使用过程中，为了满足工艺需要，方便用户在恒压的真空压力下进行生产加工工艺，通常需要使分子泵维持在一个带载的状态，即不停的充入一定量的工艺性气体，再人工将分子泵的高转速旋转切换为低转速旋转，不让分子泵达到最高转速，进而实现以某一恒定压力值长期运行目的。
4.在以上方案中，分子泵在带载运行过程中或工作过程中受到的气体负载冲击变大，功率会增大，进而导致分子泵发热量过大，严重影响分子泵的安全性和可靠性。


技术实现要素：

5.本技术提供了一种转速随真空度变化的自主调节方法、系统及装置，提高了分子泵的安全性和可靠性，该技术方案如下。
6.一方面，提供了一种转速随真空度变化的自主调节方法，所述方法由转速随真空度变化的自主调节系统中的控制器执行；所述转速随真空度变化的自主调节系统中还包括分子泵及真空计；所述控制器与所述分子泵通过连接板和连接条连接在一起，所述分子泵与测试腔室连接，所述真空计连接在所述测试腔室上，并与所述控制器相连接，形成信号反馈回路，所述方法包括：
7.获取目标真空度；
8.当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；所述实际真空度是由真空计实时采集到的；
9.基于所述目标真空度及所述实际真空度的比较结果，对所述分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现所述分子泵的恒压工作模式。
10.又一方面，提供了一种转速随真空度变化的自主调节系统，所述系统包括：控制器、分子泵及真空计；
11.其中，所述控制器与所述分子泵通过连接板和连接条连接在一起，所述分子泵与测试腔室连接，所述真空计连接在所述测试腔室上，并与所述控制器相连接，形成信号反馈回路；
12.所述分子泵，用于对所述测试腔室执行抽气操作；
13.所述真空计，用于实时获取所述测试腔室内的实际真空度，并将所述实际真空度
反馈给所述控制器；
14.所述控制器，用于获取目标真空度，并在所述分子泵的转速达到额定转速后，基于所述目标真空度及所述真空计反馈的实际真空度之间的比较结果，对所述分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现所述分子泵的恒压工作模式。
15.再一方面，提供了一种转速随真空度变化的自主调节装置，所述装置包括：
16.目标真空度获取模块，用于获取目标真空度；
17.实际真空度采集模块，用于当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；所述实际真空度是由真空计实时采集到的；
18.真空度调节模块，用于基于所述目标真空度及所述实际真空度的比较结果，对所述分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现所述分子泵的恒压工作模式。
19.在一种可能的实施方式中，所述真空度调节模块，包括：
20.减速控制单元，用于当所述实际真空度高于所述目标真空度时，对所述分子泵执行减速控制，以将所述实际真空度减小到所述目标真空度；
21.加速控制单元，用于当所述实际真空度低于所述目标真空度时，对所述分子泵执行加速控制，以将所述实际真空度增加到所述目标真空度。
22.在一种可能的实施方式中，所述真空度调节模块，还包括：
23.目标可调节范围获取单元，用于获取所述目标真空度的目标可调节范围；
24.速度调节单元，用于当所述实际真空度不在所述目标可调节范围内时，对所述分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制。
25.在一种可能的实施方式中，所述目标可调节范围为[目标真空度-10％，目标真空度+10％]。
[0026]
在一种可能的实施方式中，所述速度调节单元，还用于：
[0027]
基于所述目标可调节范围，获取所述目标真空度的最大可调节阈值及最小可调节阈值；
[0028]
当所述实际真空度高于所述最大可调节阈值时，将所述分子泵的转速减小10％，以将所述实际真空度减小到所述目标可调节范围内；
[0029]
当所述实际真空度低于所述最小可调节阈值时，将所述分子泵的转速加速10％，以将所述实际真空度增加到所述目标可调节范围内。
[0030]
在一种可能的实施方式中，所述速度调节单元，还用于：
[0031]
当所述实际真空度在所述目标可调节范围内时，保持所述分子泵的目标转速不变。
[0032]
在一种可能的实施方式中，所述实际真空度采集模块，还用于：
[0033]
当所述转速随真空度变化的自主调节系统设定为恒压工作模式时，且当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；
[0034]
所述装置还用于：
[0035]
当所述转速随真空度变化的自主调节系统设定为恒转速工作模式时，且当分子泵的转速达到额定转速后，所述分子泵维持所述额定转速稳定运行，以实现所述分子泵的恒转速工作模式。
[0036]
又一方面，提供了一种数据处理设备，所述数据处理设备包括处理单元和存储单元，所述存储单元中存储有至少一条指令，所述至少一条指令由所述处理单元加载并执行以实现如上所述的一种转速随真空度变化的自主调节方法。
[0037]
又一方面，提供了一种计算机可读存储介质，所述存储介质中存储有至少一条指令，所述至少一条指令由处理单元加载并执行以实现上述的一种转速随真空度变化的自主调节方法。
[0038]
本技术提供的技术方案可以包括以下有益效果：
[0039]
该方法由转速随真空度变化的自主调节系统中的控制器执行，该自主调节系统中还包括分子泵及真空计，该方法包括：先获取目标真空度，当分子泵的转速达到额定转速后，由真空计实时获取测试腔室内的实际真空度；基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。在上述方案中，真空泵可以根据真空计反馈的真空度数据进行转速自我调节，使测试腔室内的真空度快速调节至目标真空度，不需要其他设备辅助，不需要另外搭建平台等，方便快捷，且减小分子泵受到的冲击，避免分子泵发热量过大，提高了分子泵的安全性和可靠性，对于实际生产加工工艺具有重要意义。
附图说明
[0040]
为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0041]
图1是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节系统的结构示意图。
[0042]
图2是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节方法的方法流程图。
[0043]
图3是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节方法的方法流程图。
[0044]
图4是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节方法的方法流程图。
[0045]
图5是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节装置的结构方框图。
[0046]
图6示出了本技术一示例性实施例示出的数据处理设备的结构框图。
具体实施方式
[0047]
下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0048]
应理解，在本技术实施例的描述中，术语“对应”可表示两者之间具有直接对应或间接对应的关系，也可以表示两者之间具有关联关系，也可以是指示与被指示、配置与被配
置等关系。
[0049]
图1是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节系统的结构示意图。该自主调节系统中包含控制器、分子泵以及真空计。
[0050]
其中，该控制器与该分子泵通过连接板和连接条连接在一起，该分子泵与测试腔室连接，该真空计连接在该测试腔室上，并与该控制器相连接，形成信号反馈回路；
[0051]
该分子泵，用于对该测试腔室执行抽气操作；
[0052]
该真空计，用于实时获取该测试腔室内的实际真空度，并将该实际真空度反馈给该控制器；
[0053]
该控制器，用于获取目标真空度，并在该分子泵的转速达到额定转速后，基于该目标真空度及该真空计反馈的实际真空度之间的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。
[0054]
可选的，该分子泵的主体上还设置有排气口以及进气口，该排气口连接前级泵，用于辅助对该测试腔室和该分子泵的主体执行抽气操作，以实现预抽效果，进而满足分子泵的启动工作条件；该进气口连接该测试腔室，通过该进气口辅助对该测试腔室执行抽气操作。
[0055]
可选的，该控制器上设置有供电电源连接串口，用于连接外部供电电源，通过该外部供电电源实现对控制器的驱动，使分子泵进入工作状态。
[0056]
可选的，该控制器中的处理器可以为中央处理器(central processing unit，cpu)，该中央处理器可以为单片机芯片，以实现对该分子泵执行加速控制及减速控制，不需要其他设备辅助，不需要另外搭建平台，结构简单，连接方便快捷。
[0057]
可选的，在实际应用中，用户可先连接好分子泵、真空计、控制器和需要抽真空的设备(即上述测试腔室)，再对转速随真空度变化的自主调节系统的真空密封性进行检查，当该自主调节系统的真空密封性没有问题后，通过外部供电电源驱动该控制器，以确定选择分子泵的恒压工作模式，并设定目标真空度，真空计实时测量该测试腔室体内的实际真空度，在该分子泵的转速达到额定转速后，该控制器基于该目标真空度及该真空计反馈的实际真空度之间的比较结果，对该分子泵执行加速控制和/或减速控制。
[0058]
一定时间后该测试腔室体内的实际真空度就会到达该目标真空度，此时，即使用户向该测试腔室内进行充气，分子泵也会自动根据压力变化调节转速，使该内测试腔室内的真空度保持恒定，因此，该测试腔室内的真空度可以快速调节至目标真空度，操作简单且减小分子泵受到的冲击。
[0059]
可选的，当用户不需要该分子泵处于恒压工作模式，可以主动关闭恒压工作模式，此时分子泵将默认执行恒转速工作模式，保持额定转速运行；或直接将该恒压工作模式切换成恒转速工作模式。
[0060]
综上所述，本技术先通过该控制器获取目标真空度，当分子泵的转速达到额定转速后，由真空计实时获取测试腔室内的实际真空度；基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。在上述方案中，真空泵可以根据真空计反馈的真空度数据进行转速自我调节，使测试腔室内的真空度快速调节至目标真空度，不需要其他设备辅助，不需要另外搭建平台等，方便快捷，且减小分子泵受到的冲击，避免分子泵发热量过大，提高了分子泵的安全
性和可靠性，对于实际生产加工工艺具有重要意义。
[0061]
图2是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节方法的方法流程图。该方法由图1的转速随真空度变化的自主调节系统中的控制器执行，该转速随真空度变化的自主调节系统中还包括分子泵及真空计；该控制器与该分子泵通过连接板和连接条连接在一起，该分子泵与测试腔室连接，该真空计连接在该测试腔室上，并与该控制器相连接，形成信号反馈回路。如图2所示，该转速随真空度变化的自主调节方法可以包括如下步骤：
[0062]
s201、获取目标真空度。
[0063]
在一种可能的实施方式中，在将转速随真空度变化的自主调节系统中的分子泵切换为恒压工作模式时，该自主调节系统中的控制器先获取目标真空度；其中，该目标真空度可以根据实际应用场景预先设置。
[0064]
s202、当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；该实际真空度是由真空计实时采集到的。
[0065]
在一种可能的实施方式中，在设置好该测试腔室的目标真空度后，驱动分子泵运行，当该分子泵的转速达到额定转速后，通过真空计实时采集该测试腔室内的实际真空度，并通过控制回路将该实际真空度反馈至控制器，控制器对该实际真空度进行接收。
[0066]
s203、基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。
[0067]
在一种可能的实施方式中，在控制器获取该实际真空度后，将该实际真空度与该目标真空度进行比较，并基于比较结果对该分子泵连续执行加速控制和/或减速控制，进而实现该分子泵的恒压工作模式。
[0068]
综上所述，该方法由转速随真空度变化的自主调节系统中的控制器执行，该自主调节系统中还包括分子泵及真空计，该方法包括：先获取目标真空度，当分子泵的转速达到额定转速后，由真空计实时获取测试腔室内的实际真空度；基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。在上述方案中，真空泵可以根据真空计反馈的真空度数据进行转速自我调节，使测试腔室内的真空度快速调节至目标真空度，不需要其他设备辅助，不需要另外搭建平台等，方便快捷，且减小分子泵受到的冲击，避免分子泵发热量过大，提高了分子泵的安全性和可靠性，对于实际生产加工工艺具有重要意义。
[0069]
图3是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节方法的方法流程图。该方法由图1的转速随真空度变化的自主调节系统中的控制器执行，该转速随真空度变化的自主调节系统中还包括分子泵及真空计；该控制器与该分子泵通过连接板和连接条连接在一起，该分子泵与测试腔室连接，该真空计连接在该测试腔室上，并与该控制器相连接，形成信号反馈回路。如图3所示，该转速随真空度变化的自主调节方法可以包括如下步骤：
[0070]
s301、获取目标真空度。
[0071]
s302、当该转速随真空度变化的自主调节系统设定为恒压工作模式时，且当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；该实际真空度是由真空计实时采集到的。
[0072]
在一种可能的实施方式中，用户可以根据实际需要对该转速随真空度变化的自主调节系统的工作模式进行切换，实现恒压工作模式以及恒转速工作模式的选择，在恒压工作模式下，当分子泵的转速达到额定转速后，通过真空计实时采集测试腔室内的实际真空度，并根据目标真空度对实际真空度进行调节，使测试腔室内保持恒定的真空压力，方便用户在恒压的真空压力下进行生产加工工艺。
[0073]
s303、当该实际真空度高于该目标真空度时，对该分子泵执行减速控制，以将该实际真空度减小到该目标真空度。
[0074]
进一步的，在该控制器获取该测试腔室内目标真空度以及真空计反馈的实际真空度后，基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。
[0075]
s304、当该实际真空度低于该目标真空度时，对该分子泵执行加速控制，以将该实际真空度增加到该目标真空度。
[0076]
进一步的，该控制器对该目标真空度及该实际真空度的比较结果进行分析，当该实际真空度高于该目标真空度时，降低该分子泵的转速，进而实现将该测试腔室内的实际真空度减小到目标真空度；而当该实际真空度低于该目标真空度时，提高该分子泵的转速，进而实现将该测试腔室内的实际真空度增加到目标真空度。
[0077]
在一种可能的实施方式中，获取该目标真空度的目标可调节范围；
[0078]
当该实际真空度不在该目标可调节范围内时，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制。
[0079]
在一种可能的实施方式中，该目标可调节范围为[目标真空度-10％，目标真空度+10％]。
[0080]
在一种可能的实施方式中，基于该目标可调节范围，获取该目标真空度的最大可调节阈值(该最大可调节阈值即为目标真空度+10％)及最小可调节阈值(该最小可调节阈值即为目标真空度+10％)；
[0081]
当该实际真空度高于该最大可调节阈值(该最大可调节阈值即为目标真空度+10％)时，将该分子泵的转速减小10％，以将该实际真空度减小到该目标可调节范围内；
[0082]
当该实际真空度低于该最小可调节阈值(该最小可调节阈值即为目标真空度+10％)时，将该分子泵的转速加速10％，以将该实际真空度增加到该目标可调节范围内。
[0083]
在一种可能的实施方式中，当该实际真空度在该目标可调节范围内时，保持该分子泵的目标转速不变。
[0084]
进一步的，请参照图4示出的一种转速随真空度变化的自主调节方法的方法流程图。如图4所示，在实际应用中，用户开机后，自主调节系统的程序进行初始化，选择分子泵的工作模式，当所选择的分子泵的工作模式为恒压工作模式时，先设定好目标真空度p0，等分子泵启动达到额定转速后，通过比较当前的测试腔室内实际真空度p1与目标真空度p0的大小，控制器自动调节分子泵加速或者减速，使实际真空度p1不断接近目标真空度p0，最终达到0.9*p0≤p1≤1.1*p0的状态，实现分子泵的恒压工作模式；具体包括：若真空计示数(实际真空度p1)＞p0
×
110％，分子泵的转速加速10％，直至真空计示数≤p0
×
110％时，分子泵保持此时的转速不变稳定运行至分子泵停机；若真空计示数(实际真空度p1)＜p0
×
90％，分子泵的转速减速10％，直至真空计示数≥p0
×
110％时，分子泵保持此时的转速不
变稳定运行至分子泵停机。
[0085]
如果测试腔室内实际真空度p1已经达到目标真空度p0附近时，对测试腔室做充气等改变真空度的操作，分子泵将继续自动调整转速，维持p1≤p0*
±
10％。
[0086]
s305、当该转速随真空度变化的自主调节系统设定为恒转速工作模式时，且当分子泵的转速达到额定转速后，该分子泵维持该额定转速稳定运行，以实现该分子泵的恒转速工作模式。
[0087]
在一种可能的实施方式中，如果用户不想使用分子泵恒压工作功能，可以主动关闭恒压工作模式或直接切换成恒转速工作模式，此时分子泵将默认执行恒转速工作模式，保持额定转速运行。
[0088]
综上所述，该方法由转速随真空度变化的自主调节系统中的控制器执行，该自主调节系统中还包括分子泵及真空计，该方法包括：先获取目标真空度，当分子泵的转速达到额定转速后，由真空计实时获取测试腔室内的实际真空度；基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。在上述方案中，真空泵可以根据真空计反馈的真空度数据进行转速自我调节，使测试腔室内的真空度快速调节至目标真空度，不需要其他设备辅助，不需要另外搭建平台等，方便快捷，且减小分子泵受到的冲击，避免分子泵发热量过大，提高了分子泵的安全性和可靠性，对于实际生产加工工艺具有重要意义。
[0089]
图5是根据一示例性实施例示出的一种转速随真空度变化的自主调节装置的结构方框图。该自主调节装置包括：
[0090]
目标真空度获取模块501，用于获取目标真空度；
[0091]
实际真空度采集模块502，用于当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；该实际真空度是由真空计实时采集到的；
[0092]
真空度调节模块503，用于基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。
[0093]
在一种可能的实施方式中，该真空度调节模块503，包括：
[0094]
减速控制单元，用于当该实际真空度高于该目标真空度时，对该分子泵执行减速控制，以将该实际真空度减小到该目标真空度；
[0095]
加速控制单元，用于当该实际真空度低于该目标真空度时，对该分子泵执行加速控制，以将该实际真空度增加到该目标真空度。
[0096]
在一种可能的实施方式中，该真空度调节模块503，还包括：
[0097]
目标可调节范围获取单元，用于获取该目标真空度的目标可调节范围；
[0098]
速度调节单元，用于当该实际真空度不在该目标可调节范围内时，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制。
[0099]
在一种可能的实施方式中，该目标可调节范围为[目标真空度-10％，目标真空度+10％]。
[0100]
在一种可能的实施方式中，该速度调节单元，还用于：
[0101]
基于该目标可调节范围，获取该目标真空度的最大可调节阈值及最小可调节阈值；
[0102]
当该实际真空度高于该最大可调节阈值时，将该分子泵的转速减小10％，以将该
实际真空度减小到该目标可调节范围内；
[0103]
当该实际真空度低于该最小可调节阈值时，将该分子泵的转速加速10％，以将该实际真空度增加到该目标可调节范围内。
[0104]
在一种可能的实施方式中，该速度调节单元，还用于：
[0105]
当该实际真空度在该目标可调节范围内时，保持该分子泵的目标转速不变。
[0106]
在一种可能的实施方式中，该实际真空度采集模块502，还用于：
[0107]
当该转速随真空度变化的自主调节系统设定为恒压工作模式时，且当分子泵的转速达到额定转速后，获取测试腔室内的实际真空度；
[0108]
该装置还用于：
[0109]
当该转速随真空度变化的自主调节系统设定为恒转速工作模式时，且当分子泵的转速达到额定转速后，该分子泵维持该额定转速稳定运行，以实现该分子泵的恒转速工作模式。
[0110]
综上所述，本技术先获取目标真空度，当分子泵的转速达到额定转速后，由真空计实时获取测试腔室内的实际真空度；基于该目标真空度及该实际真空度的比较结果，对该分子泵执行加速控制及减速控制中的至少一种控制，以实现该分子泵的恒压工作模式。在上述方案中，真空泵可以根据真空计反馈的真空度数据进行转速自我调节，使测试腔室内的真空度快速调节至目标真空度，不需要其他设备辅助，不需要另外搭建平台等，方便快捷，且减小分子泵受到的冲击，避免分子泵发热量过大，提高了分子泵的安全性和可靠性，对于实际生产加工工艺具有重要意义。
[0111]
请参阅图6，其是根据本技术一示例性实施例提供的一种数据处理设备示意图，所述数据处理设备包括存储器和处理器，所述存储器用于存储计算机程序，所述计算机程序被所述处理器执行时，实现上述的一种转速随真空度变化的自主调节方法。
[0112]
其中，处理器可以为中央处理器(central processing unit，cpu)。处理器还可以为其他通用处理器、数字信号处理器(digital signal processor，dsp)、专用集成电路(application specific integrated circuit，asic)、现场可编程门阵列(field-programmable gate array，fpga)或者其他可编程逻辑器件、分立门或者晶体管逻辑器件、分立硬件组件等芯片，或者上述各类芯片的组合。
[0113]
存储器作为一种非暂态计算机可读存储介质，可用于存储非暂态软件程序、非暂态计算机可执行程序以及模块，如本发明实施方式中的方法对应的程序指令/模块。处理器通过运行存储在存储器中的非暂态软件程序、指令以及模块，从而执行处理器的各种功能应用以及数据处理，即实现上述方法实施方式中的方法。
[0114]
存储器可以包括存储程序区和存储数据区，其中，存储程序区可存储操作系统、至少一个功能所需要的应用程序；存储数据区可存储处理器所创建的数据等。此外，存储器可以包括高速随机存取存储器，还可以包括非暂态存储器，例如至少一个磁盘存储器件、闪存器件、或其他非暂态固态存储器件。在一些实施方式中，存储器可选包括相对于处理器远程设置的存储器，这些远程存储器可以通过网络连接至处理器。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。
[0115]
在一示例性实施例中，还提供了一种计算机可读存储介质，用于存储有至少一条计算机程序，所述至少一条计算机程序由处理器加载并执行以实现上述方法中的全部或部
分步骤。例如，该计算机可读存储介质可以是只读存储器(read-only memory，rom)、随机存取存储器(random access memory，ram)、只读光盘(compact disc read-only memory，cd-rom)、磁带、软盘和光数据存储设备等。
[0116]
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本技术的其它实施方案。本技术旨在涵盖本技术的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本技术的一般性原理并包括本技术未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本技术的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
[0117]
应当理解的是，本技术并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本技术的范围仅由所附的权利要求来限制。
[0118]
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本技术的其它实施方案。本技术旨在涵盖本技术的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本技术的一般性原理并包括本技术未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本技术的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
[0119]
应当理解的是，本技术并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本技术的范围仅由所附的权利要求来限制。