一种剖分式平面轴承及其装配方法与流程

本发明涉及平面轴承技术领域，尤其涉及一种剖分式平面轴承及其装配方法。

背景技术

普通的平面轴承（推力轴承）是由带滚针或圆柱滚子或钢球的平面保持架组件和平面垫圈组成的元件，平面推力轴承在装配体中主要承受轴向载荷，适用于承受一面轴向负荷、转速较低的机件上，其应用广泛。但普通的平面轴承在使用中会出现下列问题：第一，需要在中间直径比两端直径要小的轴上使用平面轴承时，普通的平面轴承由于是整圆的就无法使用；第二，由于轴圈、座圈和保持架是分离的，而且平面轴承有个缺点，轴向承力大，不能承受径向的力；第三，平面轴承的轴圈、座圈和保持架是分离的，沙粒灰尘等就比较容易进入轴承内部。

技术实现要素：

本发明为了解决现有技术中的平面轴承存在上述问题，提供一种剖分式平面轴承及其装配方法，该种平面轴承能适用于中间小、两端大的轴，能承受较大的径向压力，整体密封性能好，能有效防止杂质颗粒物进入平面轴承内部。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种剖分式平面轴承，包括下轴承圈、上轴承圈、保持架，所述下轴承圈的上端面设有环形下凹槽，所述的下轴承圈包括半圆形的下轴承圈本体a、下轴承圈本体b，下轴承圈本体a的与下轴承圈本体b之间通过第一螺栓连接，所述的保持架有两个，保持架呈半圆形结构且置于环形下凹槽内，保持架内设有若干滚珠；所述上轴承圈的下端面上设有与下轴承圈的上端扣合的环形上凹槽，所述的上轴承圈包括依次通过第二螺栓首尾连接的上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c，所述环形上凹槽、环形下凹槽的底面中心均设有滚珠导向槽；所述下轴承圈的上端处的内圈、外圈均设有环形限位槽，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的开口端均设有与环形限位槽配合的弧形限位凸条。该种平面轴承采用剖分式结构，能适用于各种复杂的轴类工件，尤其适用于一些两端大、中间小的轴类工件，而且装配方便、稳定，装配后形成整体，上轴承圈、下轴承圈不会分离，且能承受较大的径向压力；下轴承圈采用对称的两瓣结构，上轴承圈采用三瓣结构，这样下轴承圈、上轴承圈旋转至任意位置，也不会存在两条接缝完全对齐的现象，因此整体径向、轴向都能保持足够的抗压能力，不会因为剖分式结构而降低强度。

作为优选，所述下轴承圈本体a的两端外侧均设有梯形凹槽，所述梯形凹槽的底面设有螺纹孔a，所述下轴承圈本体b的两端设有与梯形凹槽一一对应卡接的梯形凸台，所述下轴承圈本体b的两端外侧设有方形避让槽，所述梯形凸台的顶面通过通孔与方形避让槽连通，所述的第一螺栓穿过通孔与螺纹孔a连接。下轴承圈本体a、下轴承圈本体b端面对接后，第一螺栓直接通过外侧面上的方形避让槽处的通孔处伸入后与螺纹孔a连接，整体安装、拆卸都非常方便。

作为优选，所述上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c的一端均设有螺纹孔b，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c的另一端均设有与螺纹孔b对应的锥形定位通孔，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c上与锥形定位通孔的同一端外侧均设有与锥形定位孔贯通的弧形避让槽，所述第二螺栓的末端设有与锥形定位孔配合的锥形销。上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c之间通过第二螺栓连接，也是直接通过弧形避让槽处的锥形定位通孔处伸入连接，连接方便、拆卸方便。

作为优选，所述的保持架包括相互叠合的上保持架片、下保持架片，上保持架片、下保持架片上均设有滚珠定位孔，上保持架片上的滚珠定位孔的上端设有上翻边，上保持架片上的滚珠定位孔的下端设有环形卡槽，所述下保持架片上的滚珠定位孔的下端设有下翻边，下保持架片上的滚珠定位孔的上端设有与环形卡槽卡接配合的环形凸台。滚珠装入滚珠定位孔后，再将上保持架片、下保持架片扣合对滚珠定位。

一种剖分式平面轴承的装配方法，包括下列步骤：

a、先将两个带滚珠的保持架分别装入下轴承圈本体a、下轴承圈本体b上的环形下凹槽内；

b、再将上轴承圈本体a上的弧形限位凸条沿着下轴承圈本体a的环形限位槽的端部卡入下轴承圈本体a上，将上轴承圈本体b上的弧形限位凸条沿着下轴承圈本体b的环形限位槽的端部卡入下轴承圈本体b上；

c、然后将下轴承圈本体a、下轴承圈本体b分别从轴的两侧装上，通过第一螺栓将下轴承圈本体a、下轴承圈本体b的端部固定连接形成下轴承圈；

d、移动上轴承圈本体a、上轴承圈本体b，使得上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的一端贴合并通过第二螺栓固定，将上轴承圈本体c从上轴承圈本体a、上轴承圈本体b另一端的缺口处扣在下轴承圈上，最后通过第二螺栓将上轴承圈本体c的两端与上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的端部固定连接形成上轴承圈。

因此，本发明具有如下有益效果：（1）平面轴承采用剖分式结构，组装、拆卸都非常方便，能与中间小、两端大的轴类工件装配；（2）装配后，下轴承圈、上轴承圈、保持架形成一个稳定的整体，能承受巨大的轴向作用力，还能承受较大的径向作用力；（3）整体密封性能好，外部的粉尘、杂质颗粒物不易进入轴承内部，使用寿命长；内部的润滑油不易挥发，能保持长时间的润滑，减小滚珠磨损。

附图说明

图1为本发明的一种结构示意图。

图2为本发明的爆炸图。

图3为下轴承圈本体b的结构示意图。

图4为下轴承圈本体a的结构示意图。

图5为下轴承圈本体a、下轴承圈本体b的连接示意图。

图6为上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的结构示意图。

图7为上轴承圈本体c的结构示意图。

图8为上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c的连接示意图。

图9为上轴承圈本体a、上轴承圈本体b与下轴承圈的连接剖视图。

图10为上轴承圈本体c与下轴承圈的连接剖视图。

图11为保持架的爆炸图。

图中：下轴承圈1、上轴承圈2、保持架3、环形下凹槽4、滚珠5、环形上凹槽6、滚珠导向槽7、下轴承圈本体a100、下轴承圈本体b101、第一螺栓102、环形限位槽103、梯形凹槽104、螺纹孔a105、梯形凸台106、方形避让槽107、通孔108、上轴承圈本体a200、上轴承圈本体b201、上轴承圈本体c202、第二螺栓203、弧形限位凸条204、螺纹孔b205、锥形定位通孔206、弧形避让槽207、锥形销208、上保持架片300、下保持架片301、滚珠定位孔302、上翻边303、环形卡槽304、下翻边305、环形凸台306。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步描述：

如图1、图2、图3、图4、图6、图7、图9和图10所示的一种剖分式平面轴承，包括下轴承圈1、上轴承圈2、保持架3，下轴承圈的上端面设有环形下凹槽4，下轴承圈包括半圆形的下轴承圈本体a100、下轴承圈本体b101，下轴承圈本体a的与下轴承圈本体b之间通过第一螺栓102连接，保持架3有两个，保持架呈半圆形结构且置于环形下凹槽内，保持架内设有若干滚珠5；上轴承圈的下端面上设有与下轴承圈的上端扣合的环形上凹槽6，上轴承圈包括依次通过第二螺栓203首尾连接的上轴承圈本体a200、上轴承圈本体b201、上轴承圈本体c202，环形上凹槽、环形下凹槽的底面中心均设有滚珠导向槽7；下轴承圈的上端处的内圈、外圈均设有环形限位槽103，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的开口端均设有与环形限位槽配合的弧形限位凸条204。

如图3、图4和图5所示，下轴承圈本体a100的两端外侧均设有梯形凹槽104，梯形凹槽的底面设有螺纹孔a105，下轴承圈本体b101的两端设有与梯形凹槽一一对应卡接的梯形凸台106，下轴承圈本体b的两端外侧设有方形避让槽107，梯形凸台的顶面通过通孔108与方形避让槽连通，第一螺栓穿过通孔与螺纹孔a连接。

如图6、图7和图8，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c的一端均设有螺纹孔b205，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c的另一端均设有与螺纹孔b对应的锥形定位通孔206，上轴承圈本体a、上轴承圈本体b、上轴承圈本体c上与锥形定位通孔的同一端外侧均设有与锥形定位孔贯通的弧形避让槽207，第二螺栓的末端设有与锥形定位孔配合的锥形销208。

如图11所示，保持架3包括相互叠合的上保持架片300、下保持架片301，上保持架片、下保持架片上均设有滚珠定位孔302，上保持架片上的滚珠定位孔的上端设有上翻边303，上保持架片上的滚珠定位孔的下端设有环形卡槽304，下保持架片上的滚珠定位孔的下端设有下翻边305，下保持架片上的滚珠定位孔的上端设有与环形卡槽卡接配合的环形凸台306。

一种剖分式平面轴承的装配方法，包括下列步骤：

a、先将两个带滚珠的保持架分别装入下轴承圈本体a、下轴承圈本体b上的环形下凹槽内；b、再将上轴承圈本体a上的弧形限位凸条沿着下轴承圈本体a的环形限位槽的端部卡入下轴承圈本体a上，将上轴承圈本体b上的弧形限位凸条沿着下轴承圈本体b的环形限位槽的端部卡入下轴承圈本体b上；c、然后将下轴承圈本体a、下轴承圈本体b分别从轴的两侧装上，通过第一螺栓将下轴承圈本体a、下轴承圈本体b的端部固定连接形成下轴承圈；d、移动上轴承圈本体a、上轴承圈本体b，使得上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的一端贴合并通过第二螺栓固定，将上轴承圈本体c从上轴承圈本体a、上轴承圈本体b另一端的缺口处扣在下轴承圈上，最后通过第二螺栓将上轴承圈本体c的两端与上轴承圈本体a、上轴承圈本体b的端部固定连接形成上轴承圈。

本申请中的平面轴承集诸多功能与一体，对外能防止灰尘、杂质进入轴承内部，对内能减缓润滑油挥发，保持滚珠长期润滑；下轴承圈、上轴承圈形成一个稳定的整体，下轴承圈、上轴承圈之间连接稳定，不易错位，同时能承受轴向、径向的大载荷；能适用于结构复杂的轴类工件，例如中间细、两端粗的轴类、多段弯曲的轴类等，使用范围广，使用寿命长。

以上仅为本发明的具体实施例，但本发明的技术特征并不局限于此。任何以本发明为基础，为解决基本相同的技术问题，实现基本相同的技术效果，所作出的简单变化、等同替换或者修饰等，皆涵盖于本发明的保护范围之中。