一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴的制作方法

本实用新型涉及一种用于涂层镀制的变径芯轴。

背景技术：

目前ICF黑腔涂层一般采用磁控溅射、蒸镀、电镀等方法制备，特别是采用磁控溅射方法制备的黑腔涂层材料多属高Z材料。因磁控溅射装置工件架空间有限，一次实验所能装夹的芯轴数量有限，所能镀制的黑腔数量受到限定。磁控溅射装置，一次实验无论装夹几个芯轴，消耗的靶材和人机工时都是相同的。

技术实现要素：

本实用新型的目的是要解决现有技术中一次实验装夹芯轴有限，从而导致镀制的黑腔数量受到限定的问题，而提供一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴。

一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴，它呈一体式柱形，由一端至另一端依次为支撑杆、大芯轴、中芯轴和小芯轴，且支撑杆、大芯轴、中芯轴和小芯轴同一轴心线。

所述大芯轴的直径为5～6mm，中芯轴的直径为3～4mm，小芯轴的直径为1～2mm。

原理：本实用新型一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴有三种不同直径的芯轴(大芯轴、中芯轴和小芯轴)，使得一次黑腔涂层镀制实验制得的黑腔数量提高至传统芯轴的 3倍，且同时制得三种不同内径的黑腔。

本实用新型优点：本实用新型一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴由三种不同直径的芯轴组成，实现可以同时制得三种不同内径的黑腔，且使得一次黑腔涂层镀制实验制得的黑腔数量提高至传统芯轴的3倍，提高靶材利用率的同时，也提高了黑腔制作效率。

附图说明

图1是本实用新型一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴的立体结构示意图，图中1 表示支撑杆，2-1表示大芯轴，2-2表示中芯轴，2-3表示小芯轴；

图2是本实用新型一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴的结构示意图，图中1表示支撑杆，2-1表示大芯轴，2-2表示中芯轴，2-3表示小芯轴，3表示标识部，4表示锥形防干涉部，5表示柱形标识，6表示防干涉部。

具体实施方式

具体实施方式一：本实施方式是一种用于ICF黑腔涂层镀制的变径芯轴，它呈一体式柱形，由一端至另一端依次为支撑杆1、大芯轴2-1、中芯轴2-2和小芯轴2-3，且支撑杆1、大芯轴2-1、中芯轴2-2和小芯轴2-3同一轴心线。

所述的支撑杆1材质为铝、铜或其他芯轴材料，圆柱状，根据黑腔涂层镀制装置工件架设计。按照黑腔涂层镀制装置的工件架设计支撑杆夹持端尺寸。三段渐变直径的外圆按照黑腔尺寸采用精密车床加工出空腔芯轴坯料(保留一定的加工余量)，利用单点金刚石车床采用分段夹持和分段加工方法保证最终尺寸及表面粗糙度符合黑腔制备需求。

具体实施方式二：本实施方式与具体实施方式一的不同点是：所述大芯轴2-1的直径为5～6mm，中芯轴2-2的直径为3～4mm，小芯轴2-3的直径为1～2mm。其他与具体实施方式一相同。

具体实施方式三：本实施方式与具体实施方式一或二之一不同点是：在支撑杆1和大芯轴2-1之间设有标识部3，标识部3的底端直径为a，大芯轴2-1的直径为A，0.5mm≤ A-a≤1mm。其他与具体实施方式一或二相同。

具体实施方式四：本实施方式与具体实施方式一至三之一不同点是：在大芯轴2-1和中芯轴2-2之间设有锥形防干涉部4和柱形标识部5，锥形防干涉部4的最大直径与大芯轴2-1的直径相等，锥形防干涉部4的最小直径与柱形标识部的直径相等，柱形标识部5 的直径为b，中芯轴2-2的直径为B，0.5mm≤B-b≤1mm。其他与具体实施方式一至三相同。

具体实施方式五：本实施方式与具体实施方式一至四之一不同点是：在中芯轴2-2和小芯轴2-3之间设有防干涉部6，防干涉部6呈锥形，且防干涉部6的最大直径与中芯轴 2-2的直径相等，防干涉部6的最小直径与小芯轴2-3的直径相等。其他与具体实施方式一至四相同。

具体实施方式六：本实施方式与具体实施方式一至五之一不同点是：所述大芯轴2-1 的表面粗糙度＜50nm，中芯轴2-2的表面粗糙度＜50nm，小芯轴2-3的表面粗糙度＜50nm。其他与具体实施方式一至五相同。

本实用新型内容不仅限于上述各实施方式的内容，其中一个或几个具体实施方式的组合同样也可以实现实用新型的目的。