应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽的制作方法

本发明涉及搪玻璃搅拌技术领域，具体涉及一种应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽。

背景技术：

搪玻璃材料装置是通过900℃左右的高温，使耐腐玻璃料密着于金属表面而制成。它具有良好的耐腐蚀性，表面光滑、耐磨，并且有一定的热稳定性，在化工、冶金橡塑、石油等工业广泛使用。

现有技术所采用的搪玻璃机械密封装置在搪玻璃搅拌的过程中，动环与定环接触的端面通常会产生磨屑掉入反应釜中，同时，密封腔中的密封端面和o型圈也会存在微量的泄露，从而对物料造成污染，影响成品的质量。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本发明提出了一种应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽，避免了动环与定环的磨屑掉入反应釜内，减少了对搪玻璃反应釜内物料的污染。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：

一种应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽，包括：设于搪玻璃搅拌装置内的内漏收集槽，所述内漏收集槽的下表面与搪玻璃水箱的上表面紧贴，所述内漏收集槽与搪玻璃搅拌轴之间留有搅拌轴摆动间隙。

进一步的，上述内漏收集槽包括水平部和垂直部，所述垂直部的顶端高于搪玻璃搅拌装置的静环与动环接触的端面。

进一步的，上述内漏收集槽还设有o圈槽，所述o圈槽设于所述水平部的上部中间，用于压缩密封圈以防止反应釜内气体泄漏。

进一步的，上述内漏收集槽还设有水纹槽，所述水纹槽设于所述水平部的下表面，用于压缩密封圈以防止反应釜内气体泄漏。

进一步的，上述内漏收集槽为f4填充碳纤维收集槽。

进一步的，上述内漏收集槽通过静环压盖、静环垫片和静环压在搪玻璃水箱上表面。

进一步的，上述机封上部通过f4填充碳纤维动组件和轴套密封。

由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：

本发明的应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽通过静环压盖、静环垫片和静环压在搪玻璃水箱上表面，同时垂直部高于静环与动环摩擦的端面，可以有效的收集磨屑和密封端面、o型圈的微量泄露，在密封装置检修时取出清洁即可，避免了对搪玻璃反应釜内物料的污染，提高了搪玻璃成品的质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1为本发明的搪玻璃机械密封装置结构示意图。

图2位本发明的内漏收集槽结构示意图。

图中数字和字母所表示的相应部件名称：

1、内漏收集槽；2、搪玻璃水箱；3、o圈槽；4、密封圈；5、水纹槽；6、静环垫片。

具体实施方式

下面结合附图1-2，详细说明本发明的优选实施方式。

一种应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽1，其特征在于，包括：设于搪玻璃搅拌装置内的内漏收集槽1，所述内漏收集槽1的下表面与搪玻璃水箱2的上表面紧贴，所述内漏收集槽1与搪玻璃搅拌轴之间留有搅拌轴摆动间隙。

其中，上述内漏收集槽1包括水平部和垂直部，所述垂直部的顶端高于搪玻璃搅拌装置的静环与动环接触的端面。

其中，上述内漏收集槽1还设有o圈槽3，所述o圈槽3设于所述水平部的上部中间，用于压缩密封圈4以防止反应釜内气体泄漏。

其中，上述内漏收集槽1还设有水纹槽5，所述水纹槽5设于所述水平部的下表面，用于压缩密封圈4以防止反应釜内气体泄漏。

其中，上述内漏收集槽1为f4填充碳纤维收集槽。

其中，上述内漏收集槽1与所述搪玻璃水箱2之间还设有静环垫片6，上述内漏收集槽1通过静环压盖、静环垫片6和静环压在搪玻璃水箱2上表面。

其中，静环的上方设置有四氟波动环，动环通过弹簧产生往复运动，弹簧固定在分半夹紧环上，分半夹紧环套设在轴套上，轴套套设在搪玻璃搅拌轴上。

其中，上述机封上部通过f4填充碳纤维动组件和轴套密封。

由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：

本发明的应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽1通过静环压盖、静环垫片6和静环压在搪玻璃水箱2上表面，同时垂直部高于静环与动环摩擦的端面，可以有效的收集磨屑和密封端面、o型圈的微量泄露，在密封装置检修时取出清洁即可，避免了对搪玻璃反应釜内物料的污染，提高了搪玻璃成品的质量。

以上所述的仅是本发明所公开的一种光反射膜及光伏电池组件的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种应用于搪玻璃机械密封装置的内漏收集槽，包括：设于搪玻璃搅拌装置内的内漏收集槽，所述内漏收集槽的下表面与搪玻璃水箱的上表面紧贴，所述内漏收集槽与搪玻璃搅拌轴之间留有搅拌轴摆动间隙。本发明通过静环压盖、静环垫片和静环压在搪玻璃水箱上表面，同时垂直部高于静环与动环摩擦的端面，可以有效的收集磨屑和密封端面、O型圈的微量泄露，在密封装置检修时取出清洁即可，避免了对搪玻璃反应釜内物料的污染，提高了搪玻璃成品的质量。

技术研发人员：吴建明;张冰华;王潮
受保护的技术使用者：密友集团有限公司
技术研发日：2019.06.06
技术公布日：2019.09.06