一种转台的密封结构的制作方法

1.本实用新型属于数控机床领域，特别涉及一种转台的密封结构。


背景技术：

2.数控机床配高速转台对复杂曲面加工、多角度加工、多样化加工具有十分重要的意义，在加工过程中，高速转台工作环境非常复杂，工件持续喷淋切削液，切削液中混有细小切削屑和粉尘，同时切削液还会产生油雾，由于工件直接安装固定在高速转台回转轴部分，转台回转部分与转台基座之间的密封方式至关重要。
3.目前，转台的密封方式大多采用密封件密封和迷宫密封，密封件密封主要用于低速转台，是采用骨架油封、v型圈、防尘圈等密封件与转台回转部分直接接触，通过密封件的弹性变形达到密封效果。这种密封方式由于密封件与转台之间存在摩擦力，随着转台转速提高，摩擦力会产生大量的热量进而使得密封件失效，虽然通过降低密封件的变形量可降低摩擦发热，但是会导致密封间隙过大而无法起到密封效果，因此密封件密封方式不适合高速转台。迷宫密封是在转台回转部分和转台基座之间设置迷宫间隙，同时在迷宫间隙中通上正压气，形成气密封，但是由于迷宫结构气路分布复杂，同时加工过程中转台在不同角度翻转，容易导致迷宫间隙出气不均匀，造成某些位置比较薄弱，进而增加密封失效的风险，容易导致转台内部进水。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种结构简单、密封效果好、安全可靠的高速转台用密封结构，有效保证高速转台的可靠性。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种转台的密封结构，包括基座、工作台、密封盖和自磨环，工作台相对于基座旋转；密封盖设置于工作台和基座之间，并固定于基座上部；自磨环与密封盖同轴设置，自磨环的底部设置有弹性体，弹性体作用于密封盖上，自磨环可在弹性体弹力作用下与工作台摩擦接触。
6.上述一种转台的密封结构，所述密封盖的中心设置有自磨环容置槽，所述自磨环设置于自磨环容置槽内，可沿其槽壁轴向移动。
7.上述一种转台的密封结构，所述弹性体为弹簧，所述自磨环的底部均匀设置有若干弹簧导向槽，弹簧导向槽内分别设置有弹簧，弹簧的一端作用于自磨环容置槽的底部，另一端作用于弹簧导向槽的底部。
8.上述一种转台的密封结构，所述自磨环为环形体结构，由耐磨自润滑聚四氟乙烯材料制成。
9.与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：本实用新型通过自磨环与工作台之间形成机械自磨密封，可有效避免迷宫密封在转台翻转过程中由于气压分布不均而导致的密封失效；并且通过弹簧控制自磨环与工作台之间的摩擦力，还可避免密封件密封中因摩擦力过大发热严重而导致的密封件失效，以及摩擦力过大密封失效的可能。同时结合转
台内部正压气，正压气通过自磨环与工作台的间隙将细微粉尘颗粒以及油雾封在转台外部；机械自磨密封与转台内部正压气形成双层密封，大大提高了高速转台的密封性能，进而提高了高速转台的可靠性。
附图说明
10.图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
11.下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不能用来限制本实用新型的范围。
12.在本实用新型实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、
““
顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型实施例的限制。
13.如图1所示，本实用新型的一种转台的密封结构，包括基座1、密封盖2、自磨环3和工作台4。工作台4可相对于基座1作旋转运动。密封盖2设置于工作台4和基座1之间，并通过螺钉5固定于基座1上，为避免转台内部的正压气从基座1和密封盖2之间泄露，基座1和密封盖2之间采用密封胶密封或者采用密封圈密封。
14.密封盖2的中心设置有自磨环容置槽21，自磨环3设置于自磨环容置槽21内，可沿自磨环容置槽21的槽壁在密封盖2中轴向移动。自磨环3的底部均匀设置有弹簧导向槽31，每一个弹簧导向槽31内均设置有弹簧6，弹簧6的一端作用于自磨环容置槽21的底部，另一端作用于弹簧导向槽31的底部。自磨环3可在弹簧6的弹力作用下与工作台4摩擦接触，从而实现机械自磨密封，根据自磨环3与工作台4的接触面积，通过调整弹簧6的刚度和数量，可保证自磨环3与工作台4之间的摩擦力，进而控制转台在工作中的摩擦发热。自磨环3采用新型耐磨自润滑聚四氟乙烯材料，随着自磨环3在转台工作中的磨损，自磨环3与工作台4之间的摩擦力降低进而达到平衡，同时自磨环3与工作台4之间的间隙会更均匀细小，转台内部的正压气通过自磨环3与工作台4的间隙将细微粉尘颗粒以及油雾封在转台外部，可形成机械自磨密封和正压气相结合的双层密封。
15.另外，本实施例中的弹簧6还可采用其他弹性元件代替。
16.尽管上文对本实用新型进行了详细说明，但是本实用新型不限于此，本领域技术人员可以根据本实用新型的原理进行各种修改。因此，凡按照本实用新型原理所作的修改，都应当理解为落入本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种转台的密封结构，其特征在于，包括基座、工作台、密封盖和自磨环，工作台相对于基座旋转；密封盖设置于工作台和基座之间，并固定于基座上部；自磨环与密封盖同轴设置，自磨环的底部设置有弹性体，弹性体作用于密封盖上，自磨环可在弹性体弹力作用下与工作台摩擦接触。2.根据权利要求1所述的一种转台的密封结构，其特征在于，所述密封盖的中心设置有自磨环容置槽，所述自磨环设置于自磨环容置槽内，可沿其槽壁轴向移动。3.根据权利要求2所述的一种转台的密封结构，其特征在于，所述弹性体为弹簧，所述自磨环的底部均匀设置有若干弹簧导向槽，弹簧导向槽内分别设置有弹簧，弹簧的一端作用于自磨环容置槽的底部，另一端作用于弹簧导向槽的底部。4.根据权利要求1或2或3所述的一种转台的密封结构，其特征在于，所述自磨环为环形体结构，由耐磨自润滑聚四氟乙烯材料制成。

技术总结
本实用新型涉及一种转台的密封结构，旨在提供一种结构简单、密封效果好、安全可靠的高速转台用密封结构，有效保证高速转台的可靠性。包括基座、工作台、密封盖和自磨环，工作台相对于基座旋转；密封盖设置于工作台和基座之间，并固定于基座上部；自磨环与密封盖同轴设置，自磨环的底部设置有弹性体，弹性体作用于密封盖上，自磨环可在弹性体弹力作用下与工作台摩擦接触。触。触。


技术研发人员：赵秀忠 刘灿 刘旭锋 张光泽
受保护的技术使用者：北京精雕科技集团有限公司
技术研发日：2022.11.18
技术公布日：2023/2/28