一种便于加工的流体旋转法兰和尾气处理设备的制作方法

本技术属于半导体尾气处理，特别涉及一种便于加工的流体旋转法兰和尾气处理设备。

背景技术：

1、现有的半导体尾气处理设备通常包括沿尾气流动方向依次设置的热分解腔和反应腔，热分解腔和反应腔之间设有流体旋转法兰，流体旋转法兰的进水口与溢流支管连接，溢流支管的轴向相对于流体旋转法兰的径向倾斜设置，能够向流体旋转法兰中提供具有切向速度的流体，形成旋转水幕。

2、由于溢流支管是单独的部件，其凸出于法兰基体的外壁形成直管结构，虽然其能够与流体旋转法兰一体成型，但是，在加工过程中需要额外对溢流支管进行加工，加工去除量大、加工复杂，导致加工效率低。

技术实现思路

1、鉴于上述的分析，本实用新型旨在提供一种便于加工的流体旋转法兰和尾气处理设备，用以解决现有技术中额外对溢流支管进行加工、加工去除量大、加工复杂导致加工效率低中的至少一个问题。

2、本实用新型的目的主要是通过以下技术方案实现的。

3、本实用新型提供了一种便于加工的流体旋转法兰，包括法兰基体、溢流槽和溢流孔，法兰基体的形状为四边形，溢流槽开设于法兰基体的上表面，溢流孔贯穿溢流槽远离法兰基体中心线一侧的侧壁上，溢流槽与流体供应单元通过溢流孔与溢流槽连通。

4、进一步地，溢流孔的流体进口轴线相对于溢流槽侧壁的径向倾斜设置。

5、进一步地，法兰基体包括依次连接构成四边形的四条边；每条边均包括依次连接第一直线段、过渡弧段和第二直线段。

6、进一步地，第一直线段和第二直线段与法兰基体的一条中心线平行，第一直线段与中心线之间的距离小于第二直线段与中心线之间的距离，溢流孔开设在第一直线段上。

7、进一步地，溢流孔的长度为100～120mm。

8、进一步地，溢流孔包括沿流体运动方向依次设置的第一直管和第二直管，第一直管的直径大于第二直管的直径。

9、进一步地，第一直管与第二直管的直径比为5～6：3～4。

10、进一步地，第一直管与第二直管的长度比为15～16：35～37。

11、进一步地，溢流孔的数量为2～8个。

12、本实用新型还提供了一种尾气处理装置，包括上述流体旋转法兰。

13、与现有技术相比，本实用新型至少可实现如下有益效果之一。

14、a)本实用新型提供的便于加工的流体旋转法兰，法兰基体的形状为四边形，溢流孔贯穿溢流槽远离法兰基体中心线一侧的侧壁，直接开设在法兰基体上，这样，在加工过程中，可以直接采用四边形的坯料进行法兰基体的加工，然后，在法兰基体的上表面开设溢流槽，并在溢流槽远离法兰基体中心线一侧的侧壁上加工贯穿的溢流孔，就能够完成流体旋转法兰的加工，加工去除量小，加工难度低，从而能够大大提高加工效率。

15、b)本实用新型提供的便于加工的流体旋转法兰，通过采用此种形状的法兰基体，溢流孔开设在第一直线段上，能够在保证适当加工去除量的基础上，减小溢流孔的长度，进而减小溢流孔内的流阻。

16、本实用新型中，上述各技术方案之间还可以相互组合，以实现更多的优选组合方案。本实用新型的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分优点可从说明书中变得显而易见，或者通过实施本实用新型而了解。本实用新型的目的和其他优点可通过说明书实施例以及附图中所特别指出的内容中来实现和获得。

技术特征：

1.一种便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，包括法兰基体、溢流槽和溢流孔，所述法兰基体的形状为四边形，所述溢流槽开设于法兰基体的上表面，所述溢流孔贯穿溢流槽远离法兰基体中心线一侧的侧壁上，所述溢流槽与流体供应单元通过溢流孔与溢流槽连通。

2.根据权利要求1所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述溢流孔的流体进口轴线相对于溢流槽侧壁的径向倾斜设置。

3.根据权利要求1所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述法兰基体包括依次连接构成四边形的四条边；

4.根据权利要求3所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述第一直线段和第二直线段与法兰基体的一条中心线平行，所述第一直线段与中心线之间的距离小于第二直线段与中心线之间的距离，所述溢流孔开设在第一直线段上。

5.根据权利要求1所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述溢流孔的长度为100～120mm。

6.根据权利要求1所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述溢流孔包括沿流体运动方向依次设置的第一直管和第二直管，所述第一直管的直径大于第二直管的直径。

7.根据权利要求6所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述第一直管与第二直管的直径比为5～6：3～4。

8.根据权利要求6所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述第一直管与第二直管的长度比为15～16：35～37。

9.根据权利要求1至8任一项所述的便于加工的流体旋转法兰，其特征在于，所述溢流孔的数量为2～8个。

10.一种尾气处理设备，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的流体旋转法兰。

技术总结
本技术公开了一种便于加工的流体旋转法兰和尾气处理设备，属于半导体尾气处理技术领域，用以解决现有技术中额外对溢流孔进行加工、加工去除量大、加工复杂导致加工效率低中的至少一个问题。该流体旋转法兰包括法兰基体、溢流槽和溢流孔，法兰基体的形状为四边形，溢流槽开设于法兰基体的上表面，溢流孔贯穿溢流槽远离法兰基体中心线一侧的侧壁上，溢流槽与流体供应单元通过溢流孔与溢流槽连通。本技术可用于半导体尾气处理。

技术研发人员：郭潞阳,丁宇,王福清,刘磊,陈佳明
受保护的技术使用者：上海协微环境科技有限公司
技术研发日：20230529
技术公布日：2024/1/14