一种盖消毒系统及其清洗输送装置的制作方法

文档序号:18682669发布日期:2019-09-13 23:20阅读:239来源:国知局
一种盖消毒系统及其清洗输送装置的制作方法

本实用新型涉及灌装生产线中的瓶盖消毒装置,尤其是涉及一种盖消毒系统及其清洗输送装置。



背景技术:

在瓶装产品(例如瓶装饮料)的生产线上,当灌装机将预定量的物料灌入瓶内以后,需要对其进行旋盖处理。为提高生产效率,一般通过旋盖机对瓶子进行旋盖处理,而旋盖之前则需要先通过理盖器对凌乱的瓶盖进行整理,接着通过瓶盖清洗消毒机对瓶盖进行消毒、清洗以及吹干以后,再通过滑槽将瓶盖输送到旋盖机的分盖工位。

现有的盖消毒清洗输送段,理盖器与清洗段连接的拐角处,一般在拐角处采用设置一气嘴的方式,通过气嘴吹气使得到达拐角处的瓶盖顺利到达清洗段,这样的情况下对资源造成了浪费,且吹气的方式也会对瓶盖造成一定的污染,值得改进。



技术实现要素:

鉴于上述情况,本实用新型提供的一种盖消毒系统及其清洗输送装置,通过对清洗段往前移动,使得理盖器连接的弧形送盖滑槽与所述水平送盖滑槽过渡处也被清洗段包裹,使得从最开始就可依靠清洗喷嘴清洗且输送瓶盖往前移动。

为达此目的,本实用新型提供一种盖消毒清洗输送装置,其包括一送盖滑槽以及一清洗隧道,所述送盖滑槽包括一弧形送盖滑槽、一水平送盖滑槽以及一出盖滑槽,所述弧形送盖滑槽的一端与一理盖器的瓶盖出口相接,其另一端与所述水平送盖滑槽连接,所述水平送盖滑槽另一端连接所述出盖滑槽,盖通过所述理盖器进入所述弧形送盖滑槽,并通过盖自身重力作用到达所述弧形送盖滑槽与所述水平送盖滑槽过渡处;所述清洗隧道设置于所述送盖滑槽外侧;所述清洗隧道内部沿瓶盖前进的方向设有消毒段、清洗段和滴干段,所述消毒段、所述清洗段和所述滴干段相互隔断,所述水平送盖滑槽贯穿所述消毒段、所述清洗段和所述滴干段,所述过渡处也设置于所述消毒段内,在所述消毒段内的水平送盖滑槽以及所述过渡处的下侧设置有一带喷嘴的消毒液冲洗管,在所述清洗段内的水平送盖滑槽下侧设置有一带喷嘴的纯净水冲洗管,所述消毒液冲洗管处的喷嘴以及所述纯净水冲洗管处的喷嘴均朝着所述水平送盖滑槽、并且顺着盖的输送方向喷射,所述滴干段用于盖的滴干作业,并通过瓶盖间的自动推送到达所述出盖滑槽。

优选的,所述消毒段内的喷嘴在所述消毒液冲洗管上均匀布置,所述的清洗段内的喷嘴在所述纯净水冲洗管上均匀布置。

优选的,所述消毒液冲洗管处的喷嘴以及所述纯净水冲洗管处的喷嘴均与所述水平送盖滑槽呈40°角倾斜设置且所述过渡处对应的消毒液冲洗管处的喷嘴与所述消毒液冲洗管其余处喷嘴平行设置。

优选的,所述消毒段和所述清洗段之间、以及所述清洗段和所述滴干段之间分别设置有一挡水隔板。

优选的,所述的消毒段对应所述消毒液冲洗管的位置设有一药水回流口,所述药水回流口通过一回流管与一药水回收罐通连。

优选的,所述的清洗段对应所述纯净水冲洗管的位置设有一清水排出口,所述清水排出口通过一管道排出外界。

优选的,所述清洗隧道内侧的底部对应所述消毒段和所述清洗段的位置为从四侧向对应的所述药水回流口或所述清水排出口形成逐渐下倾的倾斜面,此倾斜的结构使所述清洗隧道的药水以及纯水的排出更为彻底,避免产生卫生死角,提高瓶盖的清洗质量。

优选的,所述清洗隧道侧壁上设置有预定数量的观察孔,一透明板设置于所述观察孔外侧,用以盖住所述观察孔,所述观察孔的外缘和所述透明板之间设有一防漏密封垫,以便可从外部观察清洗隧道内部的情况。

本实用新型还提供了一种盖消毒系统,其包括一机架,所述机架上设置有一理盖器、所述送盖滑槽、所述清洗隧道,所述出盖滑槽,一旋盖机接口段以及一分盖盘,所述理盖器连接所述送盖滑槽一端,所述送盖滑槽另一端连接所述出盖滑槽一端,所述出盖滑槽另一端连接所述旋盖机接口段一端,所述旋盖机接口段另一端连接所述分盖盘,所述盖消毒系统还包括所述的盖消毒清洗输送装置,执行消毒作业时,所述盖经所述理盖器进入所述送盖滑槽,该送盖滑槽设置于所述清洗隧道内,所述清洗隧道用于对所述送盖滑槽内盖的清洗并往前输送,进而通过所述出盖滑槽进入所述旋盖机接口段或所述分盖盘。

本实用新型的有益效果:本实用新型提供的盖消毒系统,其清洗输送装置包括一弧形送盖滑槽、一水平送盖滑槽以及一清洗隧道,所述弧形送盖滑槽一端连接一理盖器,瓶盖从理盖器出来通过弧形送盖滑槽到达所述弧形送盖滑槽与所述水平送盖滑槽过渡处,所述清洗隧道包裹所述水平送盖滑槽且所述过渡处也设置于清洗隧道内,清洗隧道内设置的喷嘴将过渡处的瓶盖清洗并输送至前端完成之后的工序,通过喷嘴的动力即可完成输送清洗工作。因此该盖消毒清洗输送装置结构简单,清洗隧道覆盖所述弧形送盖滑槽与所述水平送盖滑槽过渡处,使得瓶盖很好的利用了清洗隧道内喷嘴提供的动力往前输送,节约了能源,简化了结构,提高了生产效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例提供的盖消毒清洗输送装置结构视图;

图2是本实用新型实施例提供的盖消毒装置结构视图。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型的技术方案做进一步说明。

参阅图1及图2,本实用新型提供的一种盖消毒清洗输送装置,其包括一送盖滑槽1以及一清洗隧道2,所述送盖滑槽1包括一弧形送盖滑槽101、一水平送盖滑槽102以及一出盖滑槽3,所述弧形送盖滑槽101的一端与一理盖器4的瓶盖出口相接,其另一端与所述水平送盖滑槽102连接,所述水平送盖滑槽102 另一端连接所述出盖滑槽3,瓶盖通过所述理盖器4进入所述弧形送盖滑槽101,并通过瓶盖自身重力作用到达所述弧形送盖滑槽101与所述水平送盖滑槽102 过渡处5;所述清洗隧道2设置于所述送盖滑槽1外侧;

该装置中清洗隧道2内部沿瓶盖前进的方向设有消毒段201、清洗段202和滴干段203,所述消毒段201、所述清洗段202和所述滴干段203相互隔断,该实施例中所述消毒段201和所述清洗段202之间、以及所述清洗段202和所述滴干段203之间通过一挡水隔板9实现相互隔断的功能。所述水平送盖滑槽102 贯穿所述消毒段201、所述清洗段202和所述滴干段203,所述过渡处5也设置于所述消毒段201内,在所述消毒段201内的水平送盖滑槽102以及所述过渡处5的下侧设置有一带喷嘴6的消毒液冲洗管7,在所述清洗段202内的水平送盖滑槽102下侧设置有一带喷嘴6的纯净水冲洗管8,所述消毒液冲洗管7处的喷嘴6以及所述纯净水冲洗管8处的喷嘴6均朝着所述水平送盖滑槽102、并且顺着盖的输送方向喷射,所述滴干段203用于盖的滴干作业,并通过瓶盖间的自动推送到达所述出盖滑槽3。工作时,理盖器4为送盖滑槽1提供有序、连续的瓶盖,进入清洗隧道2的瓶盖依次经过清洗段201进行清洗消毒,该消毒段201从过渡处5即开始清洗并为瓶盖提供动力,消毒完成后瓶盖进入清洗段 202进行纯水的清洗、接着进入滴干段203进行瓶盖的滴干,该滴干段瓶盖通过瓶盖间的推送前进,继而进入所述出盖滑槽3。

本实施例中,所述消毒段201内的喷嘴6在所述消毒液冲洗管7上均匀布置,所述的清洗段202内的喷嘴6在所述纯净水冲洗管8上均匀布置,使得喷冲清洗效率更高,且提供前进的动力更稳定。且所述消毒液冲洗管7处的喷嘴6 以及所述纯净水冲洗管8处的喷嘴6均与所述水平送盖滑槽102呈40°角倾斜设置且所述过渡处5对应的消毒液冲洗管7处的喷嘴6与所述消毒液冲洗管7 其余处的喷嘴6平行设置。所述的消毒段201对应所述消毒液冲洗管7的位置设有一药水回流口10,所述药水回流口10通过一回流管11与一药水回收罐12 通连,实现药水的循环利用,节约成本。所述的清洗段202对应所述纯净水冲洗管8的位置设有一清水排出口13,所述清水排出口13通过一管道14排出外界,使得盖清洗更干净。所述清洗隧道2内侧的底部对应所述消毒段201和所述清洗段202的位置为从四侧向对应的所述药水回流口10或所述清水排出口13 形成逐渐下倾的倾斜面,此倾斜的结构使所述清洗隧道2的药水以及纯水的排出更为彻底,避免产生卫生死角,提高瓶盖的清洗质量。

为了更好的使通道更便捷,更为保险,所述清洗隧道2侧壁上设置有预定数量的观察孔15,一透明板16设置于所述观察孔15外侧,用以盖住所述观察孔15,所述观察孔15的外缘和所述透明板16之间设有一防漏密封垫,以便可从外部观察清洗隧道2内部的情况。

参阅图2,本实用新型提供的一种盖消毒系统,其包括一机架17,所述机架上设置有一理盖器4、所述送盖滑槽1、所述清洗隧道2,所述出盖滑槽3,一旋盖机接口段18以及一分盖盘19,所述理盖器4连接所述送盖滑槽1一端,所述送盖滑槽1另一端连接所述出盖滑槽3一端,所述出盖滑槽3另一端连接所述旋盖机接口段18一端,所述旋盖机接口段18另一端连接所述分盖盘19。该系统执行消毒作业时,瓶盖经所述理盖器4进入所述送盖滑槽1,该送盖滑槽 1设置于所述清洗隧道2内,所述清洗隧道2用于对所述送盖滑槽1内盖的清洗并往前输送,进而通过所述出盖滑槽3进入所述旋盖机接口段18或所述分盖盘 19。

该盖消毒系统工作时,理盖器4为送盖滑槽1提供有序、连续的瓶盖,进入清洗隧道2的瓶盖依次经过清洗段201进行清洗消毒,该消毒段201从过渡处5即开始清洗并为瓶盖提供动力,避免了再采取其他方式是瓶盖通过该过渡段5进入所述水平送盖滑槽102,更为的简单便捷,待消毒完成后瓶盖进入清洗段202进行纯水的清洗、接着进入滴干段203进行瓶盖的滴干,该滴干段瓶盖通过瓶盖间的推送前进,继而经出盖滑槽3进入旋盖接口段18或分盖盘19,以完成瓶盖的清洗消毒输送工作。该盖消毒系统对瓶盖的清洗消毒效率高,且装置简单,很好的利用了喷头6的动力,更为节能,提高了生产效率。

以上描述仅为本实用新型具体的实施方案,但是本领域的技术人员应当理解,这里只是举例说明,本实用新型的保护范围是由所附权利要求书所限定的。因此就本实用新型申请专利范围所作的同等变化,仍属于本实用新型所涵盖的范围。

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