专利名称：一种光谱分析样品的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及光谱分析仪用的样品或试样领域，更具体的说，改进涉及的是一种光谱分析样品。
背景技术：
利用光谱学的原理和实验方法以确定物质的结构和化学成分的分析方法称为光谱分析法。各种结构的物质都具有自己的特征光谱，光谱分析法就是利用特征光谱研究物质结构或测定化学成分的方法。具体的技术手段可采用光谱分析仪对取样样品的某一个分析面的几个点进行分析；因此，在试样上选择合适的几个点进行分析就显得非常关键。以焊料行业的材料光谱分析为例，同大多数行业的材料光谱分析一样，现有的光谱分析样品大都仍为实心的圆柱形结构，通常只可选择圆柱面与上端面相交的棱边上的几个点进行材料的光谱分析。但是，光谱分析试样都是由熔融的焊料流经模具的型腔中冷却成型后，再经机械加工后获得，显然光谱分析试样的形状和结构，也将影响到分析点处的材料缺陷，如是否具有代表性和较高的重现性，以及径向偏析或纵向偏析性能等。特别是对于高含量元素存在严重偏析，也抑制了光谱分析向高含量分析领域的拓展。因此，现有技术尚有待改进和发展。
实用新型内容本实用新型的目的在于，提供一种光谱分析样品，可从形状和结构上改善光谱分析样品的取样性能，提高材料光谱分析的准确性。本实用新型的技术方案如下一种光谱分析样品，用于光谱分析仪测定合金中的各种金属元素含量，包括高度小于直径的圆柱体；其中在圆柱体的外壁上设置有凸出的台阶；台阶的位置位于圆柱体的下部。所述的光谱分析样品，其中圆柱体的上部设置有平底的盲孔；盲孔位于圆柱体上端面中心处。所述的光谱分析样品，其中盲孔的侧壁设置有拔模斜度。所述的光谱分析样品，其中盲孔的深度不超过台阶的宽度设置。所述的光谱分析样品，其中台阶宽度小于圆柱体高度的二分之一；台阶凸出圆柱体外壁的高度不超过1mm。所述的光谱分析样品，其中圆柱体外壁的上部沿轴向设置有截止到台阶的凹槽； 凹槽在圆柱体的周边均勻分布有多个。本实用新型所提供的一种光谱分析样品，由于采用了台阶式的外形结构，不仅改变了光谱分析样品取样面上分析点的位置，使之更具有代表性和较高的重现性；而且也改变了光谱分析样品的热应力分布，由此改善了分析点处的径向偏析和纵向偏析性能；改善了光谱分析样品的取样性能，提高了材料光谱分析的准确性；对高含量元素存在的严重偏析也有所改善，有助于光谱分析向高含量分析领域的拓展。
图1是本实用新型光谱分析样品处于检测状态下的立体图。图2是本实用新型光谱分析样品处于检测状态下的俯视图。图3是本实用新型光谱分析样品处于检测状态下的主视图。
具体实施方式
以下将结合附图，对本实用新型的具体实施方式
和实施例加以详细说明，所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的具体实施方式
。本实用新型的一种光谱分析样品，其具体实施方式
之一，以横截面为圆形的实心柱体为例，包括(图3中)高度H小于直径D的圆柱体100，用于光谱分析仪测定合金中的各种金属元素含量，其中，如图1所示，在圆柱体100的外壁101上至少设置有一圈凸出的台阶110 ；台阶110的位置设置在圆柱体100的下半部或下部。因为在浇铸光谱分析样品时，台阶110的位置位于模具型腔的顶部或连接锥形浇口的底部，而分析面上的检测点则位于模具的底部；与现有技术中的光谱分析样品相比，本实用新型所提供的一种光谱分析样品，由于采用了台阶式的外形结构；一方面，位于圆柱体 100下部的台阶110改善了原有圆柱体100边缘角落处的热应力分布，相对而言加快了图 1中圆柱体100上部的冷却过程，由此改善了分析点处的径向偏析和纵向偏析性能；另一方面，横截面较大的台阶110在浇铸过程中可包容更多气泡和浮渣，使取样面上的分析点更具有代表性和较高的重现性，进而改善了光谱分析样品的取样性能，提高了材料光谱分析的准确性；对高含量元素存在的严重偏析也有所改善，有助于光谱分析向高含量分析领域的拓展。在本实用新型光谱分析样品的优选实施方式中，如图2所示，在圆柱体100的上端面102设置有圆形盲孔120，盲孔位于圆柱体100上端面102的中心；如图1所示，盲孔120 的底部为平面。其实，在光谱分析样品成型的过程中，该盲孔120位于圆柱体100的底端， 主要用于减少光谱分析样品在浇铸后位于圆柱体100中心部位的热容量，提高整个光谱分析样品的激冷度，改善取样分析点处的径向和/或轴向的偏析，进一步提高材料光谱分析的准确性；其次也可便于分析面的平面加工，避免因车刀刀尖偏离卡盘中心造成的分析面中心不平整。较好的是，盲孔120的侧壁可设置有拔模斜度，由此便于圆柱体100成型后顺利脱
离模具。具体的，如图3所示，盲孔120的深度S不超过台阶110的宽度B设置。深度S过深的盲孔120反而易导致圆柱体100内应力的增加，使分析面边缘上的取样点不具有代表性和较高的重现性，降低光谱分析样品的取样性能。优选地，如图3所示，台阶110的宽度B小于圆柱体100高度H的二分之一；而台阶110凸出圆柱体100外壁101的高度W也不超过Imm设置。宽度B过宽的台阶110或凸出高度W过高的台阶110反而不利于改善圆柱体100的热容量，也不利于后续的机械加工。[0025]进一步地，圆柱体100外壁101的上部沿轴向可设置有截止到台阶110的凹槽(附图未示出)；凹槽在圆柱体100的周边可均勻分布有多个。以利于在机械加工后从圆柱体 100的分析面上取样不同的分析点进行光谱分析，通过获得其算数平均值来提高材料光谱分析的准确性。 应当理解的是，以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不足以限制本实用新型的技术方案，对本领域普通技术人员来说，在本实用新型的精神和原则之内，可以根据上述说明加以增减、替换、变换或改进，而所有这些增减、替换、变换或改进后的技术方案，都应属于本实用新型所附权利要求的保护范围。
权利要求1.一种光谱分析样品，用于光谱分析仪测定合金中的各种金属元素含量，包括高度小于直径的圆柱体；其特征在于在圆柱体的外壁上设置有凸出的台阶；台阶的位置位于圆柱体的下部。
2.根据权利要求1所述的光谱分析样品，其特征在于圆柱体的上部设置有平底的盲孔；盲孔位于圆柱体上端面中心处。
3.根据权利要求2所述的光谱分析样品，其特征在于盲孔的侧壁设置有拔模斜度。
4.根据权利要求2所述的光谱分析样品，其特征在于盲孔的深度不超过台阶的宽度设置。
5.根据权利要求1所述的光谱分析样品，其特征在于台阶宽度小于圆柱体高度的二分之一；台阶凸出圆柱体外壁的高度不超过1mm。
6.根据权利要求1所述的光谱分析样品，其特征在于圆柱体外壁的上部沿轴向设置有截止到台阶的凹槽；凹槽在圆柱体的周边均勻分布有多个。
专利摘要本实用新型公开了一种光谱分析样品，用于光谱分析仪测定合金中的各种金属元素含量，包括高度小于直径的圆柱体；其中在圆柱体的外壁上设置有凸出的台阶；台阶的位置位于圆柱体的下部。由于采用了台阶式的外形结构，不仅改变了光谱分析样品取样面上分析点的位置，使之更具有代表性和较高的重现性；而且也改变了光谱分析样品的热应力分布，由此改善了分析点处的径向偏析和纵向偏析性能；改善了光谱分析样品的取样性能，提高了材料光谱分析的准确性；对高含量元素存在的严重偏析也有所改善，有助于光谱分析向高含量分析领域的拓展。
文档编号G01N21/25GK201984027SQ20112002400
公开日2011年9月21日 申请日期2011年1月25日 优先权日2011年1月25日
发明者刘剑波, 徐金华, 陈爽, 陈 胜, 马鑫 申请人:东莞市亿铖达焊锡制造有限公司