1.一种光学玻璃的材料均匀性检测方法，其特征在于，所述方法包括：
将待检测光学玻璃进行抛光得到平行平板作为被检镜；
将所述被检镜至少划分为三个子孔径区域，其中，相邻的两个子孔径区域具有重叠区域；
获取每个子孔径区域的材料均匀性；
利用子孔径拼接算法将全部的子孔径区域的材料均匀性进行拼接计算以获得所述大口径光学玻璃的材料均匀性。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将待检测光学玻璃进行抛光得到平行平板作为被检镜具体包括：
将待检测光学玻璃的上下表面进行抛光得到平行平板作为被检镜。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述获取每个子孔径区域的材料均匀性具体包括：
调整所述被检镜的位置使得所述多个子孔径区域中的任一个子孔径区域与透射平面镜头形成的干涉条纹为零条纹；
调节反射平面镜头位置使得所述反射平面镜头与所述透射平面镜头形成的干涉条纹为零条纹，其中，所述透射平面镜头与所述被检镜前表面形成第一干涉腔，所述被检镜上下两个表面形成第二干涉腔，所述被检镜后表面与所述反射平面镜头形成第三干涉腔；
根据波长移相干涉原理计算得出所述第一干涉腔、所述第二干涉腔及所述第三干涉腔的检测结果；
获取所述透射平面镜头和所述透射平面镜头形成的第四干涉腔，根据波长移相干涉原理计算得出所述第四干涉腔的检测结果；
根据所述第一干涉腔、所述第二干涉腔、所述第三干涉腔以及所述第四干涉腔的检测结果计算得出所述子孔径区域的材料均匀性。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，将所述被检镜至少划分为三个子孔径区域具体包括：
将所述被检镜划分为三个子孔径区域，分别为第一子孔径区域、第二子孔径区域以及第三子孔径区域。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述获取所述透射平面镜头和所述透射平面镜头形成的第四干涉腔，根据波长移相干涉原理计算得出所述第四干涉腔的检测结果之前，所述方法还包括：
将所述被检镜从所述透射平面镜头和所述透射平面镜头之间取出。
6.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述调整所述被检镜的位置使得所述多个子孔径区域中的任一个子孔径区域与透射平面镜头形成的干涉条纹为零条纹之后，所述方法还包括：
获取被检镜的倾斜量；
所述利用子孔径拼接算法将全部的子孔径区域的材料均匀性进行拼接计算以获得所述大口径光学玻璃的材料均匀性具体包括：
所述利用子孔径拼接算法将全部的子孔径区域的材料均匀性进行拼接计算以及所述被检镜的倾斜量以获得所述大口径光学玻璃的材料均匀性。
7.一种光学玻璃的材料均匀性检测装置，其特征在于，所述装置包括用于进行波长移相干涉测量的干涉仪、透射平面镜头、位于所述透射平面镜头下方的被检镜、用于调整所述透射平面镜头位置以使得与所述被检镜形成的干涉条纹为零条纹的五维调整台、位于所述被检镜下方的反射平面镜头、用于调整所述反射平面镜头位置以使得与所述被检镜形成的干涉条纹为零条纹的三维调整台；
所述被检镜为待检测光学玻璃进行抛光得到平行平板；
所述被检镜表面至少划分为三个子孔径区域，其中相邻的两个子孔径区域；
所述干涉仪分别对已划分的每个子孔径区域进行材料均匀性检测得到检测结果并利用所属检测结果进行拼接计算以获得所述被检镜的材料均匀性。
8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述装置还包括：
平面反射镜，用于校正所述被检镜的倾斜姿态；
监视干涉仪，用于监测所述被检镜的倾斜姿态；
所述干涉仪还用于根据所述平面反射镜和所述监视干涉仪的监测数据确定所述被检镜的倾斜量以及利用子孔径拼接算法将全部的子孔径区域的材料均匀性进行拼接计算和所述被检镜的倾斜量以获得所述被检镜的材料均匀性。