技术领域本发明属于激光传感技术领域，尤其是涉及一种激光位移氧气流量传感器。
背景技术：
氧气吸入疗法是供给病人氧气经提高动脉血氧分压（PaO2）和动脉血氧饱和度(SaO2)，增加动脉血氧含量(CaO2)，纠正各种原因造成的缺氧状态，促进组织的新陈代谢，维持机体生命活动的一种治疗方法。在临床工作中，氧气疗法是不可或缺的，但我们发现，虽然医生开出长期氧气吸入医嘱，而在吸氧过程中，患者经常因为出现咽干、呼吸道刺激症状、不适症状缓解后、以及考虑经济原因而自行停止吸氧。由于医院一直使用的是浮标式氧气吸入器，护士也是1个小时巡视病人一次，无法在第一时间发现这些问题，严重影响了氧疗效果的判断，还带来了安全隐患，如患者自行停止吸氧后又不能被及时发现，会出现严重的低氧血症，甚至呼吸停止；如果COPD患者自行将氧流量调高而不能被及时发现，会导致二氧化碳潴留加重，严重者也会引起呼吸停止。现代医学科学进步的一个重要标志是诊断和治疗的定量规范化、数据化。很明显，医院长期以来使用的氧气浮标式氧气流量计已不能适应，原因有：①因使用频繁，故障率较高，计量局检测频次有限，护士又不懂专业的检测技能，无形之中会影响患者的抢救治疗；②计量不准确，随着氧气压力的变化，流量变化可达30%，直接影响患者氧疗的效果；③流量显示不直观，存在人为误差，导致吸氧医嘱执行无法实现标准化；④只能测量实时流量，不能记录累积数量及吸氧时间，护士只能通过手工观察记录来估算，这既浪费时间，又不准确，还易导致护患矛盾，影响患者满意度。
技术实现要素：
本发明目的是：提供一种不仅结构简单、使用方便，而且可精确计量氧气流量，实时监控用氧情况的激光位移氧气流量传感器。本发明的技术方案是：一种激光位移氧气流量传感器，包括置于氧气管道内并随着氧气进入移动的位移反射膜片，以及固定于氧气管道内壁上的激光位移传感器；所述激光位移传感器包括激光发射器，光电转换器，设于所述激光发射器发射光路上的聚光片1，设于所述光电转换器接收光路上的聚光片2，以及与所述激光发射器和所述光电转换器连接的信号处理器。作为优选的技术方案，所述位移反射膜片倾斜设置，且其倾斜角度为15～45度。作为优选的技术方案，所述激光位移传感器位于所述位移反射膜片前侧或后侧。作为优选的技术方案，所述激光发射器为半导体激光发射器。作为优选的技术方案，所述光电转换器为CCD图像传感器。本发明的工作原理如下：半导体激光发射器发出的激光束被聚光片1聚焦到位移反射膜片上，反射光被聚光片2收集，聚焦后投射到CCD图像传感器阵列上；信号处理器通过计算CCD图像传感器阵列上的光点位置得到距位移反射膜片的位置。当氧气通过氧气管道时，位移反射膜片产生一个正比于流量的位移，那CCD图像传感器阵列上的光点位置发生变化，此位移反射膜片的位移量正比于氧气流量的变化，信号处理器根据位移反射膜片的位置变化将位移量换算成氧气的流量，并通过显示器显示出来。本发明的优点是：1．本发明利用激光位移检测方法可精确计量氧气流量，将患者吸氧的流量、时间、用氧总量等数据显示出来，护士可实时监控用氧情况。附图说明下面结合附图及实施例对本发明作进一步描述：图1为本发明结构示意图；图2为本发明结构示意图；图3为图1、2中激光位移传感器的内部结构示意图；其中：1氧气管道，2位移反射膜片，3激光位移传感器，31激光发射器，32光电转换器，33聚光片1，34聚光片2，35信号处理器，4氧气。具体实施方式实施例：参照图1至3所示，一种激光位移氧气流量传感器，包括置于氧气管道1内并随着氧气4进入移动的位移反射膜片2，以及固定于氧气管道1内壁上的激光位移传感器3；该激光位移传感器3包括激光发射器31（该激光发射器31为半导体激光发射器），光电转换器32（该光电转换器32为CCD图像传感器），设于激光发射器31发射光路上的聚光片133，设于光电转换器32接收光路上的聚光片234，以及与激光发射器31和光电转换器32连接的信号处理器35。本发明的位移反射膜片2倾斜设置，且其倾斜角度为15～45度，同时激光位移传感器3位于位移反射膜片2前侧或后侧。本发明的工作原理如下：半导体激光发射器发出的激光束被聚光片133聚焦到位移反射膜片2上，反射光被聚光片234收集，聚焦后投射到CCD图像传感器阵列上；信号处理器35通过计算CCD图像传感器阵列上的光点位置得到距位移反射膜片2的位置。当氧气4通过氧气管道1时，位移反射膜片2产生一个正比于流量的位移，那CCD图像传感器阵列上的光点位置发生变化，此位移反射膜片2的位移量正比于氧气4流量的变化，信号处理器35根据位移反射膜片2的位置变化将位移量换算成氧气4的流量，并通过显示器显示出来。上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。