1.一种用于将气体提供到分析设备中的进气系统，所述系统包括
(a)至少一个进气管线，其流体地连接到所述设备，用于将气体引入到所述设备中；
(b)至少一个阀门，其布置在所述至少一个进气管线上，用于控制所述至少一个进气管线中的气体的流量；
(c)至少一个气体流量控制管线，其通过至少一个进气接头流体地连接到所述至少一个进气管线；
(d)至少一个第一流量限制件和至少一个第二流量限制件，其布置在所述至少一个进气管线上，分别在所述至少一个进气接头的上游和下游；
(e)至少一个背压校准器，其布置在所述至少一个气体流量控制管线上以控制所述至少一个进气接头处的压力；
(f)至少一个阀门，用于控制所述至少一个气体流量控制管线中的气体的流量；以及
(g)至少一个真空泵或排气装置，其流体地连接到所述至少一个气体控制管线，在所述背压校准器下游。
2.根据权利要求1所述的进气系统，其中所述第一流量限制件和/或所述第二流量限制件当提供为多个限制件时以平行布置的方式布置在所述进气管线上，并且其中所述进气管线任选地进一步包括至少一个阀门，用于选择性地引导通过所述多个限制件的流量。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的进气系统，其中所述第二流量限制件提供为以平行布置的方式布置的多个流量限制件。
4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统，其包括在所述至少一个进气管线中的每一个上的第一流量限制件和至少一个第二流量限制件，并且其中所述限制件经构造使得通过所述第一流量限制件和所述至少一个第二流量限制件(跨这两个限制件的压力差相同)的气体流量的比率在1:10到10:1的范围内。
5.根据权利要求1到3中任一权利要求所述的进气系统，其包括在所述至少一个进气管线中的每一个上的第一流量限制件和至少一个第二流量限制件，并且其中所述限制件经构造使得，取决于所述流量控制器设定，在所述进气管线中的固定气体压力下，通过所述第一流量限制件和所述至少一个第二流量限制件的气体流量的比率在1:1到1000:1的范围内。
6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统，其包括多个气体控制管线，所述多个气体控制管线各自连接到对应的进气管线，并且其中所述多个气体控制管线在一个或多个气体控制管线接头处汇合，优选地，在气体控制管线上的所述至少一个背压校准器上游汇合。
7.根据权利要求6所述的进气系统，其中所述多个气体控制管线中的每一个流体地连接到单个背压校准器。
8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统，其进一步包括至少一个流量限制件，所述至少一个流量限制件布置在所述气体控制管线上，优选地，在所述用于控制气体流量的阀门与所述背压校准器之间。
9.根据权利要求8所述的进气系统，其中所述至少一个流量限制件提供为可切换限制件，所述可切换限制件优选地提供为在与所述气体控制管线平行布置且在第一接头和第二接头处连接到所述气体控制管线的单独管线上的一个或多个限制件，并且其中进一步提供至少一个阀门以用于选择性地引导通过所述一个或多个限制件的气体流量。
10.根据权利要求8所述的进气系统，其中所述至少一个流量限制件设置在放气管线上，所述放气管线流体地连接到所述至少一个气体流量控制管线，在所述用于控制气体流量的至少一个阀门与所述背压校准器之间。
11.根据权利要求10所述的进气系统，其中所述放气管线通向大气。
12.根据权利要求10或权利要求11所述的进气系统，其中所述放气管线连接到蓄气池。
13.根据前述权利要求中的任一权利要求所述的进气系统，其中所述至少一个真空泵提供为单个真空泵。
14.根据权利要求1到12中的任一权利要求所述的进气系统，其中所述至少一个真空泵提供为连续地布置的多个真空泵。
15.根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统，其进一步包括至少一个气体供应装置。
16.根据权利要求15所述的进气系统，其中当提供为多个气体供应装置时，所述至少一个气体供应装置中的每一个连接到对应的进气管线。
17.根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统，其中所述分析设备是质谱仪。
18.根据权利要求17所述的进气系统，其中所述至少一个进气管线流体地连接到所述质谱仪的碰撞池。
19.根据权利要求17或权利要求18所述的进气系统，其中连接到所述气体控制管线的所述真空泵是所述质谱仪的真空泵系统的一部分。
20.一种具有根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统的分析设备。
21.一种控制至分析设备中的气体流量的方法，具体来说，用于操作根据前述权利要求中任一权利要求所述的进气系统的方法，所述方法包括以下步骤
使气体从至少一个气体供应装置流入至少一个进气管线以用于将气体提供到分析设备中；
将所述进气管线中的所述气体流量的一部分分流到布置在所述进气管线上并且在进气接头处与所述进气管线相接的气体控制管线中，使得所述进气管线中的所述气体流量的一部分流过所述气体控制管线，并且其中借助于用以校准所述进气接头处的压力的背压校准器和在所述背压校准器下游流体地连接到所述气体控制管线的真空泵或排气装置来控制所述气体控制管线中的气体流量；
由此使未从所述进气管线分流到所述气体控制管线中的气体的部分被输送到所述设备中，并且通过所述进气接头与所述分析设备之间的气体压力差来确定至所述分析设备中的流速。
22.根据权利要求21所述的方法，其中从所述进气管线分流的气体的部分在约0.0001％到99.99％的范围内，并且优选地从约0.1％到99.9％。
23.根据权利要求21或权利要求22所述的方法，其进一步包括(i)使用所述背压校准器来设定所述气体控制管线中的第一背压以及由此至所述分析设备中的第一气体流速，接着(ii)使用所述背压校准器来设定所述气体控制管线中的不同于所述第一背压的第二背压以及由此至所述分析设备中的不同于所述第一流速的第二气体流速。
24.根据权利要求23所述的方法，其中所述第一和第二背压中的至少一个小于1巴。
25.根据权利要求23或权利要求24所述的方法，其中所述第一和第二流速至少10倍、或至少20倍、或至少50倍、或至少100倍不同。
26.根据权利要求25所述的方法，其中所述第一和第二流速高达100倍、或高达120倍、或高达150倍、或高达200倍不同。
27.根据权利要求21到26中任一权利要求所述的方法，其中通过所述气体控制管线的所述流量足够高使得不出现至所述进气管线中的反扩散。
28.根据权利要求21到27中任一权利要求所述的方法，其进一步包括借助于第一流量限制件控制从所述气体供应装置到所述进气接头的气体流量，并且借助于至少一个第二流量限制件控制从所述进气接头至所述分析设备中的气体流量。
29.根据权利要求28所述的方法，其中所述至少一个第二流量限制件提供为以平行布置的方式布置的多个流量限制件。
30.根据权利要求21到29中任一权利要求所述的方法，其中使来自多个气体供应装置的气体流入单独的进气管线，并且其中通过分流所述进气管线中的每一个中的气体流量的一部分来控制所述进气管线中的每一个中的所述气体流量。
31.根据权利要求21到30中任一权利要求所述的方法，其中所述分析设备是质谱仪。