1.一种光学系统，用于实现金刚石对顶砧样品腔红宝石的压力测定以及X射线衍射系统中金刚石对顶砧样品腔的预定位，其特征在于，所述光学系统包括定位平台、激光源、照明光源、控制单元、二向色镜、半反镜、分束镜、摄像单元以及显示单元；其中：
所述定位平台用于放置所述金刚石对顶砧；
所述激光源用于提供激光；
所述照明光源用于提供照明光；
所述二向色镜用于将所述激光源提供的激光反射至所述金刚石对顶砧样品腔内的红宝石以激发出红宝石荧光，将所述半反镜反射的所述照明光透射至所述金刚石对顶砧，将所述红宝石荧光、所述金刚石对顶砧反射的所述照明光透射至所述半反镜；
所述半反镜用于将所述照明光源提供的照明光反射至所述二向色镜以及透射所述照明光以及所述红宝石荧光；
所述分束镜用于将所述红宝石荧光透射至一光谱仪以及将所述照明光和所述红宝石荧光反射至所述摄像单元；
所述摄像单元感测所述分束镜反射的所述照明光和所述红宝石荧光，并通过所述显示单元显示；
所述控制单元与所述定位平台连接，用于根据所述显示单元的显示内容控制所述定位平台的移动。
2.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述激光源的发射端设置有第一反射镜，用于将所述激光反射至所述二向色镜。
3.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述二向色镜与所述定位平台之间设置有物镜。
4.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述分束镜和光谱仪之间还设置有第一透镜，用于将所述分束镜透射的所述红宝石荧光会聚至光谱仪。
5.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述分束镜和摄像单元之间还设置有第二透镜，用于将所述分束镜反射的所述照明光和所述红宝石荧光会聚至所述摄像单元。
6.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述半反镜为可移动设置。
7.根据权利要求1所述的光学系统，其特征在于，所述分束镜和摄像单元之间还设置有第二反射镜，用于将所述分束镜反射的所述照明光和所述红宝石荧光反射至所述摄像单元。
8.一种光学系统荧光测量方法，用于权利要求1～7任一项所述的光学系统，其特征在于，包括以下步骤：
记录所述激光在所述定位平台上形成的激光光斑在所述显示单元中的显示位置为第一位置；
将一叉丝置于所述定位平台，并通过所述控制单元控制所述定位平台移动以使所述叉丝的交叉点在所述显示单元中的显示位置为所述第一位置；
建立以所述第一位置为坐标原点的空间直角坐标系；所述空间直角坐标系的X轴和所述定位平台的第一移动方向平行、Y轴和所述定位平台的第二移动方向平行、Z轴和所述定位平台的第三移动方向平行；所述第一移动方向、第二移动方向以及第三移动方向相互垂直；
将所述金刚石对顶砧置于所述定位平台，并通过所述控制单元控制所述定位平台移动以使所述金刚石对顶砧样品腔内的红宝石在所述显示单元中显示位置为所述第一位置，且记录所述定位平台在所述空间直角坐标系中的坐标为(X1，Y1，Z1)；
通过所述控制单元控制所述光谱仪，对所述金刚石对顶砧样品腔内的红宝石进行荧光测量，根据红宝石荧光峰的R1峰位置计算金刚石对顶砧样品腔内的压力。
9.一种光学系统预定位方法，用于权利要求1～7任一项所述的光学系统，其特征在于，完成权利要求8所述的荧光测量后，根据金刚石对顶砧中金刚石折射率n以及金刚石厚度D对所述坐标(X1，Y1，Z1)进行校正，得到校正后的坐标(X，Y，Z)并据以对X射线衍射系统的转台位置进行调整；
其中：根据金刚石对顶砧中金刚石折射率n以及所述金刚石对顶砧中靠近所述二向色镜的金刚石的厚度D对所述坐标(X1，Y1，Z1)进行校正通过下式实现：
式中，n是金刚石对顶砧中金刚石折射率，D是所述金刚石对顶砧中靠近所述二向色镜的金刚石的厚度。
10.根据权利要求9所述的光学系统预定位方法，其特征在于，完成(X1，Y1，Z1)的记录后，通过所述控制单元控制所述定位平台移动，使所述金刚石对顶砧中靠近所述二向色镜的金刚石的平面在所述显示单元中显示，并记录所述定位平台在所述空间直角坐标系中的当前坐标为(X2，Y2，Z2)，通过D＝n|Y2-Y1|计算得到金刚石对顶砧中靠近所述二向色镜的金刚石的厚度D。