技术总结
日冕仪外掩体位置测量系统及外掩体位置测量方法，通过配置激光回馈干涉系统，调整参考光和测量光，使其分别入射到外掩体的支撑杆和盘面上，被其亚光黑表面直接反射后原路返回形成激光回馈进行测量。根据测得的测量参考光路和测量光路各自的长度变化，结合两光路的结构和参数，可计算日冕仪外掩体的位移及角度变化。借助该装置和方法，可调整外掩体到理想中心位置，并研究在环境温度或振动测试条件变化时，外掩体位置变动对日冕仪杂散光的影响。通过对外掩体位置测量及引入杂散光的定量分析，可进一步改进日冕仪设计，降低整体的杂散光水平。
技术研发人员：刘维新;袁震宇;夏利东;孙明哲
受保护的技术使用者：山东大学
文档号码：201710049608
技术研发日：2017.01.23
技术公布日：2017.06.09