一种薄层流动式光谱测试池的制作方法

文档序号:14855460发布日期:2018-07-04 03:15阅读:139来源:国知局

本实用新型涉及光谱分析技术领域,尤其是涉及一种薄层流动式光谱测试池。



背景技术:

光谱是化学、材料、生物、环境等领域中物性表征的一种技术。光谱的一种应用是研究在电化学反应发生的过程中,电极表面的物理化学变化。而电化学反应的特点是对于电极表面的状态非常敏感。因此,采用单晶面作为电极是电化学研究中常用的手段。

采用单晶面进行电化学实验时,应当避免电极上除了单晶面的部分(也就是电极的侧面)与溶液接触。这在光谱实验中却非常困难,因为在光谱实验中还必须保持电极面与光学窗片之间的溶液为一个薄层。若让溶液维持一个薄层并且不接触电极的侧面,那么溶液的量会非常少,不仅影响测试的准确性,而且溶液很快会干掉,实际无法操作。



技术实现要素:

针对上述现有光谱电化学技术中不能同时满足只让单晶面接触溶液和维持溶液为一个薄层两个要求的问题,本实用新型提供一种薄层流动式光谱测试池,其目的在于:用流动的方式维持溶液为一个薄层,解决了溶液量少造成的测试不准、溶液易干的问题。

本实用新型采用的技术方案如下:

一种薄层流动式光谱测试池,包括池体、铁架台和储液罐,池体底部设置有窗片,所述窗片上设置有进液口和出液口,窗片下方设置有光学镜头,窗片上方设置有单晶电极,光学镜头和单晶电极的位置相对应。储液罐的下方设置有滴液腔,滴液腔下部通过软管和进液口连接,储液罐和滴液腔之间设置有滴管,滴管上设置有阀门。

铁架台上设置有夹持装置,夹持装置上设置有夹持杆和定位标志,池体和滴液腔分别连接在夹持杆的两端,定位标志的高度与单晶电极的底面的高度相同,定位标志的末端位于滴液腔外侧。

采用该技术方案后,池体和滴液腔之间构成一个联通器,因而池体中液面的高度是由滴液腔中液面的高度决定的。滴液腔中的溶液来自储液罐。通过控制阀门可以改变溶液的添加量和添加速度,只要保持滴液腔中溶液的高度位于定位标志指示的高度,就可以保持池体中溶液的高度与单晶电极的底面(也就是实验中需要测试的表面)持平。由于实验中保持溶液从进液口流入并从出液口流出,因此溶液不存在浓度变化或者因时间过长而干掉的现象,可以保证测试的准确性。

优选的,储液罐上部和滴液腔上部通过导气管连接。该设置可以保持储液罐和滴液腔中气压的平衡,使得储液罐中的溶液可以更加顺畅地滴入滴液腔中。

优选的,储液罐上部设置有进气管和出气管,进气管的出口位于储液罐底部。该优选方案能够向溶液中同入特定气体,维持溶液中饱和溶解有特定的气体。

优选的,池体上部设置有喷气嘴,喷气嘴的出口位于单晶电极侧面。喷气嘴用于维持单晶电极附近的气体氛围为特定的气体。

优选的,夹持杆两端分别设置有夹子Ⅰ和夹子Ⅱ,池体与夹持杆通过夹子Ⅰ连接,滴液腔与夹持杆通过夹子Ⅱ连接。

综上所述,由于采用了上述技术方案,本实用新型的有益效果是:

1.通过控制阀门可以改变溶液的添加量和添加速度,只要保持滴液腔中溶液的高度位于定位标志指示的高度,就可以保持池体中溶液的高度与单晶电极的底面(也就是实验中需要测试的表面)持平。

2.由于实验中保持溶液从进液口流入并从出液口流出,因此溶液不存在浓度变化或者因时间过长而干掉的现象,可以保证测试的准确性。

3.设置导气管保持储液罐和滴液腔中气压的平衡,使得储液罐中的溶液可以更加顺畅地滴入滴液腔中。

4.能够向溶液中同入特定气体,维持溶液中饱和溶解有特定的气体,并且维持单晶电极附近的气体氛围为特定的气体。

附图说明

本实用新型将通过例子并参照附图的方式说明,其中:

图1是本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。

下面结合图1对本实用新型作详细说明。

实施例1

一种薄层流动式光谱测试池,包括池体1、铁架台12和储液罐19,池体1底部设置有窗片6,所述窗片6上设置有进液口8和出液口4,窗片6下方设置有光学镜头5,窗片6上方设置有单晶电极7,光学镜头5和单晶电极7的位置相对应;储液罐19的下方设置有滴液腔14,滴液腔14下部通过软管和进液口8连接,储液罐19和滴液腔14之间设置有滴管16,滴管16上设置有阀门17。

铁架台12上设置有夹持装置11,夹持装置11上设置有夹持杆9和定位标志13,池体1和滴液腔14分别连接在夹持杆9的两端,定位标志13的高度与单晶电极7的底面的高度相同,定位标志13的末端位于滴液腔14外侧。

夹持杆9两端分别设置有夹子Ⅰ3和夹子Ⅱ15,池体1与夹持杆9通过夹子Ⅰ3连接,滴液腔14与夹持杆9通过夹子Ⅱ15连接。

池体1和滴液腔14之间构成一个联通器,因而池体1中液面的高度是由滴液腔14中液面的高度决定的。滴液腔14中的溶液来自储液罐19。通过控制阀门17可以改变溶液的添加量和添加速度,只要保持滴液腔14中溶液的高度位于定位标志13指示的高度,就可以保持池体1中溶液的高度与单晶电极7的底面(也就是实验中需要测试的表面)持平。

实施例2

在实施例1的基础上,储液罐19上部和滴液腔14上部通过导气管18连接。储液罐19上部设置有进气管20和出气管21,进气管20的出口位于储液罐19底部。进气管20能够向储液罐19中通入气体。池体1上部设置有喷气嘴2,喷气嘴2的出口位于单晶电极7侧面,喷气嘴2用于向单晶电极2附近吹送特定气体。

以上所述实施例仅表达了本申请的具体实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本申请保护范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请技术方案构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1