技术特征：
技术总结
依据一个方面，提供了一种用于在发光成像中使用的设备(300)。设备(300)可以包括光子超晶格(310)，其包括第一材料，第一材料具有第一折射率。第一材料可以包括第一和第二主表面(311，312)以及通过第一和第二主表面(311，312)中的至少一个限定的第一和第二多个特征(313，314)，第一多个特征(313)在至少一个特性上不同于第二多个特征(314)。光子超晶格(310)可以支持大约以第一角度从光子超晶格(310)出来的第一波长(λ1)和第二波长(λ2)的传播，第一和第二波长(λ1,λ2)由不选择性地以第一角度从光子超晶格(310)传播出的第一非传播波长从彼此分离。该设备还可以包括具有不同于第一折射率的第二折射率的第二材料。第二材料可以布置在第一和第二多个特征(313，314)之内、之间或之上，并且可以包括第一和第二发光体(321，322)。该设备(300)还可以包括布置在第一材料的第一和第二主表面(311，312)之一上的第一光学部件(330)。第一光学部件(330)可以接收由第一发光体(321)大约以第一角度发射的在第一波长(λ1)处的冷光，并且可以接收由第二发光体(322)大约以第一角度发射的在第二波长(λ2)处的冷光。
技术研发人员：迪特里希·德林格;程·弗兰克·钟;尤拉伊·托波兰希克
受保护的技术使用者：伊鲁米那股份有限公司
技术研发日：2017.03.23
技术公布日：2018.08.31