工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置与流程

本申请涉及工业生产工艺检测技术领域，特别是涉及工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置。

背景技术：

随着经济迅速发展，工业化水平不断前进，在工业生产中使用的设备正朝着大型化、复杂化、精密化以及智能化的方向迈进。针对真空镀膜设备中存在设备观察窗污染的现象，传统的方法是通过真空腔体内基片是否存在的检测，来判定设备观察窗是否已经被污染。一旦设备观察窗被污染，将无法检测到真空腔体内基片的存在及位置信息，导致整个基片传送系统故障，甚至会导致当前工艺停止，造成整个工艺室内的基片成为废片。

基于传统的检测方法，对真空镀膜设备无法检测到真空腔体内基片的存在及位置信息时，都需要对真空镀膜设备的整机破空检测，破空检测后进行设备观察窗清理或更换，再将真空腔室恢复至真空状态。传统的检测方法检测结果不够准确，对设备的维护时间需要很长，而且向真空腔室内充气容易污染腔室环境，对恢复工艺环境有很大的影响。

技术实现要素：

基于此，有必要针对传统的检测方法检测结果不准确，设备维护时间长的问题，提供一种工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置。

本申请实施例提供了一种工艺设备维护方法，包括：

控制器获取通过设备观察窗的光通量数值，其中，所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取；

若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

所述控制器获取所述光通量数值的持续时间；

若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值的持续时间大于或等于预设持续时间，则所述控制器判断所述光通量数值是否小于光通量设备停运阈值；其中，所述光通量设备维护阈值大于或等于所述光通量设备停运阈值；

若所述光通量数值小于或等于所述光通量设备停运阈值，则所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值且大于所述光通量设备停运阈值，则所述控制器以预设调整值减小所述光通量设备维护阈值，并返回判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值的步骤。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

当所述光通量设备维护阈值减小至等于所述光通量设备停运阈值时，则所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

所述控制器将所述设备观察窗待清理的控制指令以及所述设备停止运行的控制指令传输至显示器，以供所述显示器显示。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

在所述设备停止运行之后，所述控制器发出所述设备观察窗待更换的控制指令。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

所述控制器检测所述设备观察窗的累计使用时间；

若所述累计使用时间大于或等于所述设备观察窗的预设使用时间，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

本申请实施例还提供了一种工艺设备维护系统，包括：

传感器，设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置，所述传感器用于获取通过所述设备观察窗的光通量数值；

控制器，与所述传感器通信连接，若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

本申请实施例还提供了一种工艺设备维护控制装置，包括：

光通量获取单元，用于获取通过设备观察窗的光通量数值，其中，所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取；

分析判断单元，用于判断所述光通量获取单元获取的光通量数值是否小于所述光通量设备维护阈值；

设备控制单元，用于若所述分析判断单元判定所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

在一个实施例中，所述工艺设备维护控制装置还包括：

持续时间获取单元，用于获取所述光通量数值的持续时间；

所述分析判断单元还用于判断所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值的持续时间是否大于或等于预设持续时间；所述分析判断单元还用于判断所述光通量数值是否小于或等于所述光通量设备停运阈值；其中，所述光通量设备维护阈值大于或等于所述光通量设备停运阈值；

所述设备控制单元还用于若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值的持续时间大于或等于预设持续时间，则发出所述设备观察窗待清理的控制指令；所述设备控制单元还用于若所述光通量数值小于或等于所述光通量设备停运阈值，则发出控制所述设备停止运行的控制指令。

本申请提供一种工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置。所述工艺设备维护方法包括控制器获取通过设备观察窗的光通量数值；其中，所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取。若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。本申请的工艺设备维护方法通过设备观察窗的光通量的情况来反映所述设备观察窗是否需要清理，检测结果更准确，从而有效避免对真空腔室的破空检测，提高了工艺设备中产品的良率，延长了设备运行时间。

附图说明

图1为本申请一个实施例中提供的工艺设备维护方法的流程图；

图2为本申请一个实施例中提供的工艺设备维护方法的流程图；

图3为本申请一个实施例中提供的工艺设备维护系统的实体结构示意图；

图4为本申请一个实施例中提供的工艺设备维护控制装置的结构示意图。

附图标号说明：

工艺设备维护系统100

设备10

设备观察窗110

基片120

传感器20

控制器30

工艺设备维护控制装置200

光通量获取单元210

光通量参数设定单元201

光通量持续时间获取单元240

分析判断单元220

设备控制单元230

光通量数值修改单元250

设备观察窗使用时间检测单元260

显示器40

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

请参阅图1，在本申请一个实施例中提供一种工艺设备维护方法，用于检测设备中设备观察窗透光量。所述工艺设备维护方法包括：

s100，控制器获取通过设备观察窗的光通量数值，其中，所述光通量数值由设置于设备的外部，并且与所述设备观察窗正对设置的传感器获取。

本步骤中，提供的工艺设备维护方法可以针对具有设备观察窗的工艺设备，具体的工艺设备可以是真空蒸镀设备、激光溅射沉积设备或者其他工艺过程中需要的设备。本步骤中，可以通过传感器获取所述设备观察窗的光通量数值。光通量是指人眼所能感觉到的辐射功率，它等于单位时间内某一波段的辐射能量和该波段的相对视见率的乘积。光通量的单位是lm，由于人眼对不同波长光的相对视见率不同，所以不同波长光的辐射功率相等时，其光通量并不相等。设备在工艺过程中，很可能对设备观察窗造成污染，因此需要时刻关注所述设备观察窗的光通量数值。

s200，若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

本步骤中，可以通过控制器判断所述光通量数值与所述光通量设备维护阈值的大小关系。在所述设备观察窗没有污染之前，可以通过传感器获取所述设备观察窗的光通量初始预设值。所述光通量初始预设值也会作为每次对所述设备观察窗维护清理之后的设定值。所述光通量设备维护阈值是指每次所述设备观察窗需要进行维护清理的设定值。若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则说明设备需要维护，具体的维护方式可以是清理修复所述设备观察窗。

本实施例中，所述工艺设备维护方法应用在真空镀膜设备中，可以实时获取所述设备观察窗的光通量数值，检测在工艺生产过程中产生的灰尘或少量沉积在所述设备观察窗表面的物质。本申请的工艺设备维护方法通过透过所述设备观察窗的光通量的下降来监控所述设备观察窗是否需要清理。本申请的工艺设备维护方法可以在一定时间内检测到所述设备观察窗是否需要清理，在一定程度上有效的避免对真空腔室的破空检测，提高了蒸镀过程中产品的良率，延长了设备运行时间。

请参阅图2，在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

s300，所述控制器获取所述光通量数值的持续时间。

本步骤中检测所述光通量数值的持续时间可以使得所述工艺设备维护方法的检测效果更加可靠。所述光通量数值的持续时间可以是指所述光通量数值在一个固定数值的持续时间。所述光通量数值的持续时间还可以是指所述光通量数值在一个小的范围内的波动的时间，可以通过所述控制器设定所述光通量数值在0lm-2lm范围内的持续时间。

s400，若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值的持续时间大于或等于预设持续时间，则所述控制器判断所述光通量数值是否小于光通量设备停运阈值，其中，所述光通量设备维护阈值大于或等于所述光通量设备停运阈值。

本步骤中，所述光通量设备停运阈值小于所述光通量设备维护阈值。比如所述光通量初始预设值为100lm，所述光通量设备维护阈值为80lm，所述光通量设备停运阈值50lm。

s500，若所述光通量数值小于或等于所述光通量设备停运阈值，则所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令。

本实施例中，可以通过所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令，所述控制指令可以通过显示设备进行显示，操作人员看到显示的所述控制指令之后对所述设备观察窗进行清理。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括s600，若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值且大于所述光通量设备停运阈值，则所述控制器以预设调整值减小所述光通量设备维护阈值，并返回判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值的步骤。

本实施例中，所述控制器可以以预设调整值减小所述光通量设备维护阈值，使得所述工艺设备维护方法更稳定可靠。在以预设调整值减小所述光通量设置维护阈值的过程中，所述控制器可以控制提示当前的环境正在发生变化，使得操作人员或者维修人员有一定的预期。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括s700，当所述光通量设备维护阈值减小至等于所述光通量设备停运阈值时，则所述控制器发出控制所述设备停止运行的控制指令。

本实施例中，若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值且大于或等于所述光通量设备停运阈值，则需要对所述设备观察窗进行清理。并以预设调整值减小所述光通量设备维护阈值，可以设置为以5lm的调整值慢慢减小所述光通量设备维护阈值，直至所述光通量设备维护阈值等于所述光通量设备停运阈值。本实施例中，控制所述设备停止运行的控制指令之后可以执行两个操作：第一通过显示器显示设备观察窗清理的信息；第二通过控制器重置所述光通量设备维护阈值。在每一次重置所述光通量设备维护阈值之后，需要返回判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值的步骤。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括：

s800，所述控制器检测所述设备观察窗的累计使用时间。

s810，若所述累计使用时间大于或等于所述设备观察窗的预设使用时间，则所述控制器发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

本实施例中，可以根据经验设定所述设备观察窗的预设使用时间，具体的不同生产厂家的所述设备观察窗的预设使用时间可以不相同。比如在一个实施例中所述设备观察窗的预设使用时间可以是30天。若所述累计使用时间大于或等于所述设备观察窗的预设使用时间，则控制显示清理所述设备观察窗的信息。根据经验值设置所述预设使用时间，并通过所述设备观察窗的累计使用时间和所述预设时间的比可以避免上述步骤中检测结果不准确时，无法实现对所述设备观察窗是否需要清理的检测和控制。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括s310，显示器显示所述设备观察窗待清理的控制指令以及显示所述设备停止运行的控制指令，所述显示器与所述控制器电连接。本实施例中，设置所述显示器可以更加及时的提醒操作人员当前状态下，所述设备观察窗的使用状态，有利于对所述设备观察窗的及时清理或者更换。本实施例中，所述显示器还可以显示其他的控制信息。比如，所述显示器还可以显示所述设备观察窗待更换的控制指令。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括s320，在所述设备停止运行之后，更换所述设备观察窗。本实施例中，当所述设备停止运行后，操作人员及时更换所述设备观察窗，以免所述设备观察窗更换不及时带来的工艺过程的延误。

在一个实施例中，所述工艺设备维护方法还包括s330，若所述光通量数值大于或等于所述光通量设备维护阈值，则继续收集所述光通量数值。本实施例中，若所述光通量数值大于或等于所述光通量设备维护阈值，则无需对所述设备观察窗进行清理及检测，可以返回至收集所述光通量数值的步骤。

请参阅图3，在本申请一个实施例中提供一种工艺设备维护系统100包括设备10、传感器20和所述控制器30。所述工艺设备维护系统100用于检测设备观察窗110的污染状况。

所述设备10开设有设备观察窗110。所述设备10可以包括但并不限定于真空蒸镀腔体。在所述设备10内可以设置基片120，所述基片120可以是待沉积功能薄膜的衬底，也可以是承载的载板。

所述传感器20设置于所述设备10的外部。并且所述传感器20与所述设备观察窗110正对设置。所述传感器20用于检测所述设备观察窗110的光通量数值。

所述控制器30获取并判断所述光通量数值与所述光通量设备维护阈值的大小关系。若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器30发出所述设备观察窗待清理的控制指令。

在一个实施例中，还可以包括显示器40。所述显示器40与所述控制器30电连接。所述显示器40用于显示所述设备观察窗待清理的控制指令以及显示所述设备停止运行的控制指令。所述显示器40还可以显示其他的控制信息。比如，所述显示器40还可以显示所述设备观察窗待更换的控制指令。本实施例中，所述显示器40可以是本领域技术人员认为可以实现的各种显示装置。所述显示器40可以设置在所述设备10的外部，用于提示使用者何时需要清理所述设备观察窗110，何时需要更换所述设备观察窗110。所述显示器40也可以设置在所述控制器30一端，用于实时提醒所述控制器30的操作者，何时需要清理所述设备观察窗110，何时需要更换所述设备观察窗110。

本实施例中，所述传感器20获取所述设备观察窗110的光通量数值。所述控制器30判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值。若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述控制器30提示操作者清理所述设备观察窗110。本实施例中，所述工艺设备维护系统100可以应用在真空镀膜设备中，实时获取所述设备观察窗110的光通量数值，检测在工艺生产过程中产生的灰尘或少量沉积在所述设备观察窗110表面对所述设备观察窗110造成的影响。本申请的工艺设备维护系统100通过透过所述设备观察窗110的光通量的下降来监控所述设备观察窗110是否需要清理。本申请的工艺设备维护系统100可以在一定时间内检测到所述设备观察窗110是否需要清理，有效的避免对真空腔室的破空检测，提高了蒸镀过程中产品的良率，延长了设备运行时间。

请参阅图4，在本申请一个实施例中，提供一种工艺设备维护控制装置200。所述工艺设备维护控制装置200包括光通量获取单元210、分析判断单元220和设备控制单元230。

其中，所述工艺设备维护控制装置200还可以包括光通量参数设定单元201。所述光通量参数设定单元201用于设定所述设备观察窗110的初始预设值、光通量设备维护阈值或者光通量设备停运阈值。所述分析判断单元220与所述光通量参数设定单元201电连接，用于对所述传感器20检测的所述光通量数值进行记录和分析，以得出所述光通量数值与所述光通量参数设定单元201设定的参数的关系。所述设备控制单元230与所述分析判断单元电连接，用于根据所述分析判断单元得出的判断结果发出对所述设备10的控制指令。

本实施例中，所述工艺设备维护控制装置200包括光通量获取单元210、分析判断单元220和设备控制单元230。所述光通量获取单元210获取所述设备观察窗110的光通量数值。所述分析判断单元220判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值。若所述光通量数值小于所述光通量设备维护阈值，则所述设备控制单元230提示操作者清理所述设备观察窗110。本实施例中，所述工艺设备维护控制装置200可以应用在真空镀膜设备中，实时获取所述设备观察窗110的光通量数值，检测在工艺生产过程中产生的灰尘或少量沉积在所述设备观察窗110表面对所述设备观察窗110造成的影响。本实施例中，所述工艺设备维护控制装置200通过透过所述设备观察窗110的光通量的下降来监控所述设备观察窗110是否需要清理。所述工艺设备维护控制装置200可以在一定时间内检测到所述设备观察窗110是否需要清理，有效的避免对真空腔室的破空检测，提高了蒸镀过程中产品的良率，延长了设备运行时间。

在一个实施例中，所述工艺设备维护控制装置200还包括光通量持续时间获取单元240和分析判断单元220。所述光通量持续时间获取单元240与所述传感器20通信连接，用于实时获取所述传感器20的光通量检测结果。所述分析判断单元220，与所述光通量持续时间获取单元240电连接。所述分析判断单元220用于对所述光通量检测结果进行记录和分析，以得出所述设备观察窗110光通量在一个数值下的持续时间。

本实施例中，所述光通量持续时间获取单元240可以检测所述设备观察窗110的光通量数值在某一个数值的持续时间。比如，所述设备观察窗110的光通量数值为85，持续时间为30秒钟，则可以认为在30秒钟内所述设备观察窗110的光通量数值没有发生变化，也可以认为所述设备观察窗110没有进一步的污染。再比如，所述设备观察窗110的光通量数值为85，持续时间为1秒钟，下一秒所述设备观察窗110的光通量数值为70，持续时间为1秒钟，则可以认为在最近的2秒钟内所述设备观察窗110的光通量数值快速的发生着变化，可以认为所述设备观察窗110在遭受很大程度的污染。这时也可以根据所述光通量持续时间获取单元240反馈的数据实现提醒操作者及时检查所述设备观察窗110的使用环境或者状态。所述光通量持续时间获取单元240的设置可以提高对所述设备观察窗110污染程度的高效和稳定的检测。

在一个实施例中，所述分析判断单元220判断所述光通量设备维护阈值是否在修改范围内。所述工艺设备维护控制装置200还包括光通量数值修改单元250。所述光通量数值修改单元250与所述分析判断单元220电连接，用于当所述分析判断单元220判断所述光通量设备维护阈值在修改范围内时，对所述光通量设备维护阈值进行修改。所述光通量数值修改单元250还用于修改或者重置所述光通量设备停运阈值。

本实施例中，所述光通量数值修改单元250可以根据预设调整值减小所述光通量设备维护阈值。所述工艺设备维护控制装置200可以控制返回判断所述光通量数值是否小于光通量设备维护阈值的步骤，直至所述光通量设备维护阈值等于所述光通量设备停运阈值时，控制所述设备停止运行。本实施例中，在所述设备观察窗110被污染后，若检测的所述光通量数值在所述光通量设备维护阈值可调范围内就可以通过调整所述光通量设备维护阈值的大小来保证所述折本本体10的正常运行，延长了所述设备观察窗110的使用时间。所述光通量设备维护阈值可调整，使得所述工艺设备维护控制装置200的成本更低，在没有进行机械结构更改的情况下，通过所述传感器20实时收集所述光通数量，所述控制器30及时动态调整所述光通量设备维护阈值，可以延长所述设备观察窗110的使用时间，减少设备10的设备维护时间，提高设备的利用率及产能，降低了所述工艺设备维护控制装置200的成本。

在一个实施例中，所述工艺设备维护控制装置200还包括设备观察窗使用时间检测单元260。所述设备观察窗使用时间检测单元260与所述分析判断单元电连接，用于检测所述设备观察窗的累计使用时间。所述分析判断单元220还用于判断所述设备观察窗110的累计使用时间是否大于所述设备观察窗的预设使用时间。

本实施例中，所述分析判断单元220还用于判断所述设备观察窗110的累计使用时间是否大于所述设备观察窗110的预设使用时间。如果所述设备观察窗110的累计使用时间大于或等于所述设备观察窗110的预设使用时间，则应该及时更换所述设备观察窗110。本实施例中，能够累计检测所述设备观察窗110的使用时间，能够及时的发现是否达到所述设备观察窗110的使用寿命极限。

本申请提供的所述工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置是通过所述传感器20实时收集所述设备观察窗10的光通量数值。所述控制器30还可以与并与所述设备10的当前状态进行加权比较，在阈值可修改的情况下进行阈值的动态调节，保证所述传感器20能够有效检测基片或载板。所述工艺设备维护方法通过收集所述光通量数值，并将该数据与相邻传感器光通量数据进行比较，有效判断阈值的修改大小和合适修改，保证设备在设备观察窗轻度污染的情况下继续正常运行。所以极大缩短了设备维护时，保护了腔室的洁净度。

本申请中提供的所述工艺设备维护控制装置200可以通过所述传感器20实现对所述设备观察窗的所述光通量数值的实时监控。通过所述工艺设备维护控制装置200的内部结构可以实现对所述光通量设备维护阈值的动态调节。所述工艺设备维护方法、系统及工艺设备维护控制装置，避免了所述设备观察窗的频繁更换，提高了设备使用和设备维护的效率。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。