1.一种x射线照明系统，包括：
x射线源，所述射线源包括至少一个电子束发射器和至少一个靶，所述靶包括：
基板，所述基板包括第一材料；以及
多个离散微结构，所述多个离散微结构与所述基板热接触，所述多个离散微结构包括：
至少一个第一离散微结构，包括第二材料，所述第二材料被配置为在受来自所述至少一个电子束发射器的电子轰击时产生x射线，所述至少一个第一离散微结构具有小于20微米的至少一个尺寸；
至少一个第二离散微结构，包括第三材料，所述第三材料被配置为在受来自所述至少一个电子束发射器的电子轰击时产生x射线，所述至少一个第二离散微结构具有小于20微米的至少一个尺寸；光具组，所述光具组被配置为接收来自所述至少一个靶的沿着一定发散角内的预定轴传播的x射线并且产生x射线束；
x射线单色器，所述x射线单色器被配置为可控地从所述x射线束选择x射线，所选择的x射线具有选定能量和宽度。
2.根据权利要求1所述的系统，其中来自所述光具组的x射线是准直的x射线束，并且来自所述x射线单色器的所选择的x射线是经准直的。
3.根据权利要求2所述的系统，还包括第二光具组，所述第二光具组被配置为使得来自所述x射线单色器的所选择的x射线聚焦。
4.根据权利要求1所述的系统，还包括：
支架，所述支架被配置为保持待研究的物体定位成使得所选择的x射线入射于所述物体上；以及
至少一个检测器，所述至少一个检测器被配置为测量来自所述物体的x射线。
5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述至少一个检测器被配置为测量来自所述物体的荧光x射线。
6.根据权利要求4所述的系统，其中，所述至少一个检测器包括能量分辨检测器。
7.根据权利要求4所述的系统，其中，所述至少一个检测器被配置为测量来自所述物体中感兴趣的元素的、作为所述选定能量的函数的荧光x射线。
8.根据权利要求4所述的系统，其中，所述支架被配置为保持所述物体定位成使得所述选定x射线入射于所述物体的第一侧上，并且所述至少一个检测器被配置为测量来自所述物体的所述第一侧的x射线。
9.根据权利要求4所述的系统，其中，所述支架被配置为保持所述物体定位成使得所述选定x射线入射于所述物体的第一侧上，并且所述至少一个检测器被配置为测量来自所述物体的第二侧的x射线，所述第二侧不同于所述第一侧。
10.根据权利要求1所述的系统，其中，所述至少一个第一离散微结构和所述至少一个第二离散微结构的各自的侧向尺寸小于50微米。
11.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第一材料包括选自包含下列各项的组中的至少一种材料：铍、金刚石、石墨、硅、氮化硼、碳化硅、蓝宝石和类金刚石。
12.根据权利要求1所述的系统，其中，所述第二材料包括选自包含下列各项的组中的至少一种材料：铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、镓、锌、钇、锆、钼、铌、钌、铑、钯、银、锡、铱、钽、钨、铟、铯、钡、金、铂、铅和其组合和合金。
13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述第三材料包括选自包含下列各项的组中的至少一种材料：铝、钛、钒、铬、锰、铁、钴、镍、铜、镓、锌、钇、锆、钼、铌、钌、铑、钯、银、锡、铱、钽、钨、铟、铯、钡、金、铂、铅和其组合和合金。
14.根据权利要求1所述的系统，其中，所述多个离散微结构被布置成使得当预定量的所述多个离散微结构被暴露于来自所述至少一个电子束发射器的电子束时由所述预定量的所述多个离散微结构生成的x射线透射通过选自所述多个离散微结构的离散微结构中的预定的离散微结构。
15.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光具组包括x射线反射器，所述x射线反射器具有对应于二次曲面的表面。
16.根据权利要求15所述的系统，其中，所述二次曲面选自包含下列各项的组：球状体、椭圆体、抛物面、双曲面、椭圆柱、圆柱体、椭圆锥体和圆锥体。
17.根据权利要求1所述的系统，其中，所述光具组包括i型wolterx射线光学器件。
18.根据权利要求1所述的系统，其中，所述带宽小于10ev。
19.根据权利要求18所述的系统，其中，所述带宽小于1ev。
20.根据权利要求1所述的系统，其中，所述单色器包括切槽晶体，所述切槽晶体包括选自包含下列各项的组中的材料：硅、锗、氟化锂和锑化铟。
21.根据权利要求1所述的系统，其中，所述单色器包括双晶体单色器。