基于波动的荧光显微术的制作方法

文档序号:20834412发布日期:2020-05-22 16:41阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于产生样品(2)的高分辨率图像的基于波动的荧光显微术方法,其中,所述方法包括以下步骤:

a)向所述样品(2)提供在激发之后以闪烁方式发射荧光辐射的物质,或者使用含有这样的物质的样品(2),

b)用照明辐射(10)照射所述样品(2),并且因此激发所述样品(2)以发射所述荧光辐射,

c)将发射所述荧光辐射的所述样品(2)从焦平面(3)成像到包括像素(30)的空间分辨检测器(8)上,并且产生在所述样品(2)的闪烁状态方面不同的帧的图像序列,和

d)评估所述图像序列,并且产生高分辨率样品图像,

其中,

在步骤c)中,根据参数而光学地影响发射所述荧光辐射的所述样品(2)的成像,其中,所述参数是相对于所述焦平面(3)的位置和/或所发射的荧光辐射的波长,并且所述影响促使每个帧中的点发射器成像为所成像出的点发射器表征图像(24),该所成像出的点发射器表征图像(24)在每种情况下具有至少两个图像波瓣,所述至少两个图像波瓣的相对位置取决于所述参数,并且

在步骤d)中,基于取决于所述参数的影响而产生每个帧的子帧,所述子帧在所述参数方面被指定,并且基于所述子帧而执行帧的图像序列的评估。

2.根据权利要求1所述的显微术方法,其中,在步骤d)中,执行以下子步骤:

d1)为所述参数定义多个离散值,并且为所有帧产生比所述检测器(8)的像素(30)更小并且坐落更密集的合成像素(36),

d2)对于每个合成像素(36),在所述检测器(8)的所述像素(30)中定义多个n元组的像素组或多个n元组的单独像素,其中,n标示图像波瓣的数量并且所述n元组基于取决于所述参数的所述影响而定义,使得所述n元组中的每一个被指派所述参数的所述离散值中的单独值,并且,

d3)将所述合成像素(36)中的每一个划分为多个子像素,其中,每个子像素被指派所述参数的所述离散值中的一个,

d4)对于每个合成像素,基于为所述合成像素定义的所述n元组的信号相关值而在每个帧中确定所述子像素的亮度,

d5)基于已经被划分为子像素的所述合成像素而产生每个帧的子帧。

3.根据权利要求2所述的显微术方法,其中,在步骤d4)中,执行子像素分配操作,以确定每个合成像素的所述子像素的亮度,在所述子像素分配操作中,为所定义的n元组中的每一个确定信号相关值,并且将所述信号相关值分配给被指派给所述n元组的所述合成像素的子像素。

4.根据权利要求2和3中任一项所述的显微术方法,其中,在子步骤d4)中,使用互相关或累积函数来确定所述信号相关值。

5.根据上述权利要求中任一项所述的显微术方法,其中,每对像素组或每对单独像素相对于中心(26)对称地定位,并且所述中心的横向坐标是相关联合成像素(36)的横向坐标。

6.根据上述权利要求中任一项所述的显微术方法,其中,所述两个图像波瓣均具有图像波瓣范围和图像波瓣中心,所述图像波瓣范围和所述图像波瓣中心间隔开,使得所述图像波瓣范围和所述图像波瓣中心之间的距离大于所述图像波瓣范围,特别是至少是所述图像波瓣范围的两倍大。

7.根据上述权利要求中任一项所述的显微术方法,其特征在于,将相位元件、各向异性光学单元、空间光调制器、轴锥镜、立方相位掩模和/或环形相位掩模用于点扩散函数的取决于参数的影响。

8.一种用于样品(2)的基于波动的荧光显微术的显微镜,所述样品在激发之后以闪烁的方式发射荧光辐射,其中,所述显微镜包括:

照明光束路径,所述照明光束路径用于激发所述样品(2)以发射所述荧光辐射,

成像光束路径,所述成像光束路径用于将发射所述荧光辐射的所述样品(2)从焦平面(3)成像到空间分辨检测器(8)上,所述空间分辨检测器包括像素(30),并且所述成像光束路径用于产生在所述样品(2)的闪烁状态方面不同的帧的图像序列,和

评估装置,所述评估装置被构造成用于评估所述图像序列并且用于产生高分辨率样品图像,

其中,

所述成像光束路径包括光学操纵元件,所述光学操纵元件根据参数光学地影响发射所述荧光辐射的所述样品(2)的成像,其中,所述参数是相对于所述焦平面(3)的位置和/或所发射的荧光辐射的波长,并且所述影响促使每一个帧中的点发射器成像为所成像出的点发射器表征图像(24),该所成像出的点发射器表征图像(24)在每种情况下具有至少两个图像波瓣,所述至少两个图像波瓣的相对位置取决于所述参数,并且

所述评估装置被构造成用于基于取决于所述参数并且由所述光学操纵元件引起的所述影响而产生每个帧的子帧,并用于在所述参数方面指定所述子帧,并且所述评估装置被构造成用于基于所述子帧而执行帧的图像序列的评估。

9.根据权利要求8所述的显微镜,其中,所述评估装置被构造成用于执行根据权利要求2到4中任一项所述的方法的步骤d1)到d5)。

10.根据权利要求8和9中任一项所述的显微镜,其中,所述光学操纵元件包括相位元件、各向异性光学单元、空间光调制器、轴锥镜、立方相位掩模和/或环形相位掩模。


技术总结
使用光学操纵装置来影响发射荧光辐射的样品的成像的点扩散函数以使得点发射器在图像平面中成像为具有至少两个图像波瓣的所成像出的点发射器表征图像。图像波瓣的相对位置取决于点发射器相对于焦平面的位置和/或由点发射器发射的荧光辐射的波长。产生比检测器的像素更小且坐落更密集的合成像素。对于每个合成像素,在检测器的像素中定义多对像素组或单独像素,每对像素被指派参数的单独值。在每个帧中对所定义的每个合成像素确定信号相关性并将信号相关性作为图像亮度分配给合成像素。从合成像素产生每个帧的子帧,子帧基于相同的闪烁状态,并且已经相对于点扩散函数的影响进行了校正。随后从子帧产生高分辨率样品图像。

技术研发人员:托马斯·卡尔克布莱纳;姚赫尼·诺维考
受保护的技术使用者:卡尔蔡司显微镜有限责任公司
技术研发日:2019.11.13
技术公布日:2020.05.22
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1