技术特征：
1.一种光学编码器，该光学编码器包含：光检测器，该光检测器用于接收来自编码媒体的调变光，并包含：检测二极管阵列，该检测二极管阵列相对所述编码媒体配置；及第一光二极管及第二光二极管，该第一光二极管及该第二光二极管分别位于所述检测二极管阵列的两侧，且所述第一光二极管及所述第二光二极管的每一者具有梯形检测面。2.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述检测二极管阵列与所述第一光二极管及所述第二光二极管位于相同轨道。3.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述编码媒体具有编码用于调变入射光，所述编码媒体上的所述编码具有反射部及非反射部，且所述检测二极管阵列的每个光二极管的检测面的宽度等于所述反射部及所述非反射部的宽度的一半。4.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述第一光二极管至所述检测二极管阵列的第一侧的第一距离等于所述第二光二极管至所述检测二极管阵列的第二侧的第二距离。5.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述第一光二极管至所述检测二极管阵列的第一侧的第一距离不等于所述第二光二极管至所述检测二极管阵列的第二侧的第二距离。6.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述编码媒体具有编码用于调变入射光，所述编码媒体上的所述编码具有反射部及非反射部，且所述第一光二极管相对所述反射部其中一者而所述第二光二极管相对所述非反射部其中一者。7.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述编码媒体具有编码用于调变入射光，所述编码媒体上的所述编码具有反射部及非反射部，且所述第一光二极管及所述第二光二极管的宽度等于所述反射部及所述非反射部的宽度。8.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述编码媒体具有编码用于调变入射光，所述编码媒体上的所述编码具有反射部及非反射部，且所述第一光二极管及所述第二光二极管的宽度等于所述反射部及所述非反射部的宽度的一半。9.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述第一光二极管及所述第二光二极管的所述梯形检测面的两平行边的长边面对所述检测二极管阵列。10.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述第一光二极管的所述梯形检测面的两平行边的长边面对所述检测二极管阵列，且所述第二光二极管的所述梯形检测面的两平行边的短边面对所述检测二极管阵列。11.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述第一光二极管及所述第二光二极管的所述梯形检测面的倾斜边朝向相同方向。
12.根据权利要求1所述的光学编码器，其中所述第一光二极管及所述第二光二极管的所述梯形检测面的倾斜边朝向不同方向。13.根据权利要求1所述的光学编码器，还包含内存用于事先纪录当所述编码媒体与所述光检测器位于预定相对位置时，所述第一光二极管及所述第二光二极管的参照输出信号相关的参照图样。14.根据权利要求1所述的光学编码器，还包含内存用于事先纪录当所述编码媒体与所述光检测器位于不同相对位置时，所述第一光二极管及所述第二光二极管的参照输出信号相关的多个校正图样。15.一种根据权利要求1的光学编码器的位置校正方法，该位置校正方法包含：根据所述第一光二极管及所述第二光二极管的参照输出信号事先决定参照图样；根据所述第一光二极管及所述第二光二极管的目前输出信号决定目前图样；以及调整所述编码媒体与所述光检测器的相对位置以使所述目前图样相同于所述参照图样。16.根据权利要求15所述的位置校正方法，其中所述参照输出信号与所述目前输出信号为归一化电压信号。17.根据权利要求15所述的位置校正方法，其中所述相对位置包含切线方向位置、轴向方向位置及高度方向位置。18.一种根据权利要求1的光学编码器的位置校正方法，该位置校正方法包含：根据所述第一光二极管及所述第二光二极管的参照输出信号事先决定多个校正图样，其中该多个校正图样其中一者是所述编码媒体与所述光检测器位于预定相对位置的参照图样，其他的所述多个校正图样是所述编码媒体与所述光检测器位于不同相对位置的次参照图样；步骤a：根据所述第一光二极管及所述第二光二极管的目前输出信号决定目前图样；步骤b：比对所述目前图样与所述多个次参照图样以决定所述编码媒体与所述光检测器的偏移方向；以及步骤c：朝向所述偏移方向的反方向移动所述编码媒体与所述光检测器至少其中一者，并重复执行步骤a至步骤c直到所述目前图样等于所述参照图样。19.根据权利要求18所述的位置校正方法，其中所述偏移方向包含切线方向、轴向方向及高度方向。20.根据权利要求18所述的位置校正方法，其中所述参照输出信号与所述目前输出信号为归一化电压信号。
技术总结
一种可校正元件相对位置的光学编码器，该光学编码器包含编码媒体、检测器封装以及内存。检测器封装包含光二极管阵列及相对编码媒体的两校正光二极管。内存纪录编码媒体与检测器封装位于标准操作位置时，两校正光二极管的输出信号相关的校正图样。当编码媒体与检测器封装不位于标准操作位置时，通过调整编码媒体与检测器封装的目前相对位置以使两校正光二极管的输出信号相关的目前图样相同于校正图样以进行相对位置的校正。样以进行相对位置的校正。样以进行相对位置的校正。
技术研发人员：涂钟敏 林明艺
受保护的技术使用者：原相科技股份有限公司
技术研发日：2020.12.07
技术公布日：2021/11/23