眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法以及防眩层的制造方法与流程

文档序号:34538671发布日期:2023-06-27 14:21阅读:57来源:国知局
眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法以及防眩层的制造方法与流程

本公开涉及眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法以及防眩层的制造方法。


背景技术:

1、jp2009-175041a公开了对具备防眩膜的电子显示器的显示图像的由眩光引起的亮度偏差定量地进行测量评价的技术。jp2009-175041a所记载的眩光测量方法构成为,使用2维傅里叶变换从由照相机拍摄的眩光图像中通过图像处理将眩光以外的来自电子显示器的固定周期成分除去。另外,jp2009-175041a所记载的眩光测量方法构成为,将去除了固定周期成分的眩光图像的亮度偏差的标准偏差除以平均值而得到的值作为眩光对比度进行评价。

2、然而,jp2009-175041a中记载的眩光测量装置并未考察拍摄条件对眩光对比度造成的影响。另外,jp2009-175041a中记载的眩光测量装置对于将在不同的测量条件下测量出的多个眩光对比度彼此适当地比较也没有提出任何有效的方案。


技术实现思路

1、本公开是考虑以上方面而完成的。即,本公开的目的在于,提供能够适当地比较测量条件不同的多个眩光对比度的眩光对比度的校正方法、比较方法及比较装置、电子显示器的制造方法、以及防眩层的制造方法。

2、本公开的眩光对比度的校正方法具备:

3、取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序,所述第1眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使所述出射光成像的第1二维图像传感器在所述第1测量条件下测量出的;

4、取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示与所述第1测量条件不同的第2测量条件的信息的工序,所述第2眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使所述出射光成像的第2二维图像传感器,在所述第2测量条件下测量出的;以及

5、为了与所述第1眩光对比度比较,基于所述第1测量条件与所述第2测量条件的比率来校正所述第2眩光对比度的工序。

6、在本公开的眩光对比度的校正方法中,校正所述第2眩光对比度的工序可以按照以下的算式(1)来进行,

7、sp2a=sp2×(f2/f1)×(d2/d1)×(f1/f2)×(m2/m1)0.5    (1)

8、其中,

9、sp2a:校正后的第2眩光对比度;

10、sp2:校正前的第2眩光对比度;

11、f1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效f值;

12、f2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效f值;

13、d1:作为所述第1测量条件的从所述防眩层到所述第1摄像透镜的距离;

14、d2:作为所述第2测量条件的从所述防眩层到所述第2摄像透镜的距离;

15、f1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的有效焦距;

16、f2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的有效焦距;

17、m1:以下的算式(2)所示的值;

18、m2:以下的算式(3)所示的值,

19、[算式1]

20、

21、其中,

22、ac1:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f1×λ)/2)2×π表示的参数;

23、am1:在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数;

24、erf:标准误差函数,

25、[算式2]

26、

27、其中,

28、ac2:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f2×λ)/2)2×π表示的参数;

29、am2:在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。

30、在本公开的眩光对比度的校正方法中,校正所述第2眩光对比度的工序可以按照以下的算式(4)来进行,

31、sp2a=sp2×(f2/f1)×(m1/m2)×(m2/m1)0.5    (4)

32、其中,

33、sp2a:校正后的第2眩光对比度;

34、sp2:校正前的第2眩光对比度;

35、f1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效f值;

36、f2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效f值;

37、m1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的倍率;

38、m2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的倍率;

39、m1:以下的算式(2)所示的值;

40、m2:以下的算式(3)所示的值,

41、[算式3]

42、

43、其中,

44、ac1:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f1×λ)/2)2×π表示的参数;

45、am1:在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数;

46、erf:标准误差函数,

47、[算式4]

48、

49、其中,

50、ac2:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f2×λ)/2)2×π表示的参数;

51、am2:在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。

52、在本公开的眩光对比度的校正方法中,校正所述第2眩光对比度的工序可以按照以下的算式(5)来进行,

53、sp2a=sp2×(f2'/f1')×(m2/m1)0.5    (5)

54、其中,

55、sp2a:校正后的第2眩光对比度;

56、sp2:校正前的第2眩光对比度;

57、f1’:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的物侧有效f值;

58、f2’:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的物侧有效f值;

59、m1:以下的算式(2)所示的值;

60、m2:以下的算式(3)所示的值,

61、[算式5]

62、

63、其中,

64、ac1:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f1×λ)/2)2×π表示的参数;

65、am1:在将作为所述第1测量条件的所述第1二维图像传感器的像素间距定义为p1的情况下以p12表示的参数;

66、erf:标准误差函数,

67、[算式6]

68、

69、其中,

70、ac2:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f2×λ)/2)2×π表示的参数;

71、am2:在将作为所述第2测量条件的所述第2二维图像传感器的像素间距定义为p2的情况下以p22表示的参数。

72、本公开的眩光对比度的校正方法具备:

73、取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第1眩光对比度和表示第1测量条件的信息的工序,所述第1眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第1摄像透镜、和使所述出射光成像的第1二维图像传感器在所述第1测量条件下测量出的;

74、取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第2眩光对比度和表示与所述第1测量条件不同的第2测量条件的信息的工序,所述第2眩光对比度是使用使来自所述防眩层的出射光成像的第2摄像透镜、和使所述出射光成像的第2二维图像传感器,在所述第2测量条件下测量出的;以及

75、为了与所述第1眩光对比度比较而校正所述第2眩光对比度的工序,

76、校正所述第2眩光对比度的工序具有:

77、在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间以下的算式(6)成立的情况下,以与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像之间使基于图像计算出的mtf一致的方式,对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算;和

78、从通过所述校正运算得到的图像取得校正后的第2眩光对比度的工序,

79、s1=s2   (6)

80、其中,

81、s1:是作为所述第1测量条件的、有助于所述出射光的衍射极限光斑在所述第1二维图像传感器上成像的所述防眩层上的发光区域的大小,且满足以下的算式(7);

82、s2:是作为所述第2测量条件的、有助于所述出射光的衍射极限光斑在所述第2二维图像传感器上成像的所述防眩层上的发光区域的大小,且满足以下的算式(8),

83、[算式7]

84、

85、其中,

86、r1:所述第1二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小;

87、m1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的倍率;

88、f1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的像侧有效f值;

89、d1:作为所述第1测量条件的从所述防眩层到所述第1摄像透镜的距离;

90、f1:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的有效焦距;

91、f1’:作为所述第1测量条件的所述第1摄像透镜的物侧有效f值,

92、[式8]

93、

94、其中,

95、r2:所述第2二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小;

96、m2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的倍率;

97、f2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的像侧有效f值;

98、d2:作为所述第2测量条件的从所述防眩层到所述第2摄像透镜的距离;

99、f2:作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的有效焦距;

100、f2':作为所述第2测量条件的所述第2摄像透镜的物侧有效f值。

101、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

102、进行所述校正运算的工序具有对增强滤光器的系数进行调整的工序,其中,所述增强滤光器对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像的分辨率进行调整。

103、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

104、进行所述校正运算的工序还具有:

105、生成在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像的边缘轮廓的工序;

106、通过对生成的所述边缘轮廓进行微分来计算线扩展函数的工序;

107、通过对计算出的所述线扩展函数进行傅里叶变换来计算mtf的工序;以及

108、将计算出的所述mtf与基于在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的mtf进行比较的工序。

109、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

110、对所述第2眩光对比度进行校正的工序在对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算的工序、和从通过所述校正运算得到的图像取得校正后的第2眩光对比度的工序之间,具有使通过所述校正运算得到的图像的放射亮度平均值与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的放射亮度平均值一致的工序。

111、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

112、对所述第2眩光对比度进行校正的工序在对在所述第2测量条件下拍摄的所述出射光的图像进行校正运算的工序、和使通过所述校正运算得到的图像的放射亮度平均值与在所述第1测量条件下拍摄的所述出射光的图像的放射亮度平均值一致的工序之间,具有从通过所述校正运算得到的图像中去除由所述电子显示器的像素产生的图像成分的工序。

113、本公开的眩光对比度的校正方法具备:

114、取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的作为比较基准的第3眩光对比度和表示假想的测量条件的信息的工序,所述第3眩光对比度是在使用了使来自所述防眩层的出射光成像的假想的摄像透镜、和使所述出射光成像的假想的二维图像传感器的所述假想的测量条件下假想地测量出的;

115、取得由所述防眩层产生的作为比较对象的第4眩光对比度和表示实际的测量条件的信息的工序,所述第4眩光对比度是在使用了使来自所述防眩层的出射光成像的实际的摄像透镜、和使所述出射光成像的实际的二维图像传感器的所述实际的测量条件下实测出的;以及

116、为了与所述第3眩光对比度比较而校正所述第4眩光对比度的工序,

117、校正所述第4眩光对比度的工序具有如下工序:在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间以下的算式(9)成立的情况下,按照以下的算式(10)校正所述第4眩光对比度,

118、s3≠s4   (9)

119、sp4a=sp4×(s4/s3)   (10)

120、其中,

121、s3:是作为所述假想的测量条件的、有助于来自防眩层的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小,且满足以下的算式(11);

122、s4:是作为所述实际的测量条件的、有助于来自防眩层的出射光的衍射极限光斑在二维图像传感器上成像的防眩层上的发光区域的大小,且满足以下的算式(12);

123、sp4a:校正后的第4眩光对比度;

124、sp4:校正前的第4眩光对比度,

125、[算式9]

126、

127、其中,

128、r3:所述二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小;

129、m3:作为所述假想的测量条件的摄像透镜的倍率;

130、f3:作为所述假想的测量条件的摄像透镜的像侧有效f值;

131、d3:作为所述假想的测量条件的从防眩层到摄像透镜的距离;

132、f3:作为所述假想的测量条件的摄像透镜的有效焦距;

133、f3’:作为所述假想的测量条件的摄像透镜的物侧有效f值,

134、[算式10]

135、

136、其中,

137、r4:所述二维图像传感器上的所述衍射极限光斑的大小;

138、m4:作为所述实际的测量条件的摄像透镜的倍率;

139、f4:作为所述实际的测量条件的摄像透镜的像侧有效f值;

140、d4:作为所述实际的测量条件的从防眩层到摄像透镜的距离;

141、f4:作为所述实际的测量条件的摄像透镜的有效焦距;

142、f4′:作为所述实际的测量条件的摄像透镜的物侧有效f值。

143、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

144、校正所述第4眩光对比度的工序还具有按照以下的算式(13)对所述第4眩光对比度进行校正的工序,

145、sp4a'=sp4a×(m4/m3)0.5   (13)

146、其中,

147、sp4a':基于算式(13)的校正后的第4眩光对比度;

148、m3:以下的算式(14)所示的值;

149、m4:以下的算式(15)所示的值,

150、[算式11]

151、

152、其中,

153、ac3:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f3×λ)/2)2×π表示的参数;

154、am3:在将作为所述假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p3的情况下以p32表示的参数;

155、erf:标准误差函数,

156、[算式12]

157、

158、其中,

159、ac4:在将所述出射光的波长定义为λ的情况下以(((4/π)×f4×λ)/2)2×π表示的参数;

160、am4:在将作为所述假想的测量条件的二维图像传感器的像素间距定义为p4的情况下以p42表示的参数。

161、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

162、在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间,下述关系成立:所述电子显示器、所述防眩层、以及具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置各自的结构上的条件相同,包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的、使用了所述测量装置的测量条件不同。

163、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

164、在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间,下述关系成立:所述电子显示器和所述防眩层各自的结构上的条件相同,具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置的结构上的条件、和包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的使用了所述测量装置的测量条件不同。

165、在本公开的眩光对比度的校正方法,可以是,

166、在所述第1测量条件与所述第2测量条件之间、或者在所述假想的测量条件与所述实际的测量条件之间,所述电子显示器、以及具备摄像透镜和二维图像传感器的测量装置各自的结构上的条件相同,所述防眩层的结构上的条件、和包含从所述防眩层到所述摄像透镜的距离在内的使用了所述测量装置的测量条件不同。

167、本公开的眩光对比度的比较方法具备如下工序:将通过所述眩光对比度的校正方法校正后的作为比较对象的眩光对比度与作为比较基准的眩光对比度进行比较。

168、在本公开的眩光对比度的比较方法,可以是,

169、所述眩光对比度的比较方法还具备将所述校正后的作为比较对象的眩光对比度与所述作为比较基准的眩光对比度的比较结果输出的工序。

170、本公开的电子显示器的制造方法具备对作为检查对象的电子显示器是否满足眩光对比度的合格基准进行检查的工序,

171、所述进行检查的工序具有所述进行比较的工序,

172、所述进行比较的工序为如下这样的工序:应用所述作为检查对象的电子显示器的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的一方,应用所述合格基准的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的另一方,并将所述作为检查对象的电子显示器的眩光对比度与所述合格基准的眩光对比度进行比较。

173、在本公开的电子显示器的制造方法中,可以是,

174、所述作为检查对象的电子显示器是在表面未配置防眩层的电子显示器,在所述进行检查的工序中,为了测量眩光对比度而在所述表面配置检查用的防眩层,

175、所述检查用的防眩层是具有预先决定的特性的防眩层。

176、在本公开的电子显示器的制造方法中,可以是,

177、所述作为检查对象的电子显示器是在表面配置有防眩层的电子显示器。

178、本公开的防眩层的制造方法具备:

179、形成作为检查对象的防眩层的工序;和

180、对所述作为检查对象的防眩层是否满足眩光对比度的合格基准进行检查的工序,

181、所述进行检查的工序具有所述进行比较的工序,

182、所述进行比较的工序具有如下工序:应用在表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的一方,应用所述合格基准的眩光对比度来作为所述作为比较对象的眩光对比度和所述作为比较基准的眩光对比度中的另一方,将在表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度与所述合格基准的眩光对比度进行比较。

183、在本公开的防眩层的制造方法中,可以是,

184、在所述进行检查的工序中,为了测量眩光对比度,将所述作为检查对象的防眩层配置于检查用的电子显示器的表面,

185、所述检查用的电子显示器是具有预先决定的特性的电子显示器。

186、在本公开的防眩层的制造方法中,可以是,

187、形成所述作为检查对象的防眩层的工序具有在基材上设置具有防眩功能的层的工序。

188、可以是,在所述基材上设置所述具有防眩功能的层的工序具有:

189、在所述基材上涂布含有树脂的防眩层用组成物的工序;和

190、使涂布的所述防眩层用组成物固化的工序。

191、本公开的防眩层是使用所述防眩层的制造方法来制造的防眩层。

192、本公开的眩光对比度的比较装置具备:

193、校正部,其使用所述眩光对比度的校正方法来校正作为比较对象的眩光对比度;和

194、比较部,其对校正后的作为比较对象的眩光对比度与作为比较基准的眩光对比度进行比较。

195、本公开的防眩层的选择方法具备使用所述眩光对比度的比较方法来选择防眩层的工序,

196、所述选择防眩层的工序具有如下工序:

197、应用通过第1光学测量装置对在表面配置有第1防眩层的电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第1测量对比度,来作为所述作为比较基准的眩光对比度,应用通过与所述第1光学测量装置不同的第2光学测量装置对在表面配置有与所述第1防眩层不同的第2防眩层的所述电子显示器的眩光对比度进行测量而得到的第2测量对比度,来作为所述作为比较对象的眩光对比度,对于所述第1测量对比度和所述第2测量对比度,使用伴随有所述第1测量对比度和所述第2测量对比度这两个对比度中的一方的校正的所述比较方法来进行比较的工序;和

198、基于所述比较的结果,来选择所述第1防眩层和所述第2防眩层中的一方的防眩层的工序。

199、在本公开的防眩层的选择方法中,可以是,

200、选择所述一方的防眩层的工序具有选择所述第1防眩层和所述第2防眩层中的对应的测量对比度良好的防眩层的工序。

201、本公开的防眩层是根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层。

202、本公开的偏光板搭是载有根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层的偏光板。

203、本公开的显示元件是搭载有根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层的显示元件。

204、本公开的电子显示器是搭载有根据所述防眩层的选择方法所选择的防眩层的电子显示器。

205、本公开的显示元件的选择方法具备使用所述眩光对比度的比较方法来选择在表面未配置防眩层的电子显示器、即显示元件的工序,

206、所述选择显示元件的工序具有如下工序:

207、应用在第1显示元件的表面配置有第3防眩层的状态下由第3光学测量装置测量出的第3测量对比度,来作为所述作为比较基准的眩光对比度,应用在与所述第1显示元件不同的第2显示元件的表面配置有所述第3防眩层的状态下由与所述第3光学测量装置不同的第4光学测量装置测量出的第4测量对比度,来作为所述作为比较对象的眩光对比度,对于所述第3测量对比度和所述第4测量对比度,使用伴随有所述第3测量对比度和所述第4测量对比度这两个对比度中的一方的校正的所述比较方法来进行比较的工序;和

208、基于所述比较的结果,来选择所述第1显示元件和所述第2显示元件中的一方的显示元件的工序。

209、在本公开的显示元件的选择方法中,可以是,

210、选择所述一方的显示元件的工序具有选择所述第1显示元件和所述第2显示元件中的对应的测量对比度良好的显示元件的工序。

211、本公开的电子显示器是具备根据所述显示元件的选择方法所选择的显示元件的电子显示器。

212、本公开的眩光对比度的校正方法具备:

213、取得由配置于电子显示器的表面的防眩层产生的多个眩光对比度和表示多个测量条件的信息的工序,所述多个眩光对比度是在互不相同的多个测量条件下测量出的;以及

214、为了比较所述多个眩光对比度而基于表示所述多个测量条件的信息来校正所述多个眩光对比度中的至少1个的工序。

215、本公开的防眩层的制造装置具备所述比较装置,

216、所述校正部对表面配置有作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度进行校正来作为所述作为比较对象的眩光对比度,

217、所述比较部将表面配置有所述作为检查对象的防眩层的电子显示器的眩光对比度、与作为所述作为比较基准的眩光对比度的、合格基准的眩光对比度进行比较。

218、根据本公开,能够对测量条件不同的多个眩光对比度恰当地进行比较。

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